制备高纯度四羧酸二酐的方法与流程

技术特征：
1.一种由以下化学式2表示的化合物的制备方法，其包括以下步骤：使由以下化学式1表示的化合物在非质子性溶剂和含有氮原子的杂芳族化合物下进行脱水反应，[化学式1][化学式2]所述a是包含c
6-20
芳香族烃基或c
4-20
脂环族烃基的环系。2.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述a是包含c
6-15
芳香族烃基或c
4-15
脂环族烃基的环系。3.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述非质子性溶剂是选自四氢呋喃(thf)、乙酸乙酯(ea)、丙酮、二甲基亚砜(dmso)、二甲基甲酰胺(dmf)、乙腈、二丁醚(dbe)、碳酸丙烯酯(pc)、n-甲基吡咯烷酮(nmp)、六甲基磷酰胺(hmpa)和二氯甲烷(dcm)中的一种以上。4.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述含有氮原子的杂芳族化合物是包含一个以上的氮原子的未取代或取代的3-15个原子的杂芳族化合物，所述取代的3-15个原子的杂芳族化合物被选自氢、卤素、-no2、直链或支链的c
1-20
烷基、直链或支链的c
1-20
烷氧基和-nr1r2中的一种以上的取代基取代，r1和r2各自独立地为氢或者直链或支链的c
1-20
烷基。5.根据权利要求4所述的制备方法，其中，所述3-15个原子的杂芳族化合物是选自吡啶、哒嗪、吡嗪、嘧啶、1,2,4-三嗪、1,2,3-三嗪、咪唑、1,2,3-三唑、吡唑、嘌呤、吲哚啉、酞嗪、吲唑、喹啉、异喹啉、噌啉、喹唑啉、萘啶、吡啶并[3,4-b]-吡啶、吡啶并[3,2-b]-吡啶、吡啶并[4,3-b]-吡啶、吲哚、3h-吲哚、蝶啶和喹喔啉中的一种以上。6.根据权利要求1所述的制备方法，其中，将酸酐作为催化剂并使由化学式1表示的化合物进行脱水反应，所述由化学式1表示的化合物与所述酸酐的摩尔比为1:1至1:4。7.根据权利要求6所述的制备方法，其中，所述酸酐是乙酸酐。8.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述由化学式1表示的化合物与所述含有氮原子的杂芳族化合物的摩尔比为1:0.001至1:0.1。9.一种由以下化学式2表示的化合物，其apha颜色指数值为20以下，[化学式2]
所述a是包含c
6-20
芳香族烃基或c
4-20
脂环族烃基的环系。10.根据权利要求9所述的由化学式2表示的化合物，其中，apha颜色指数值为10以下。11.根据权利要求9所述的由化学式2表示的化合物，其中，所述由化学式2表示的化合物通过包括以下步骤的制备方法制备：使由以下化学式1表示的化合物在非质子性溶剂和含有氮原子的杂芳族化合物下进行脱水反应，[化学式1]所述a是包含c
6-20
芳香族烃基或c
4-20
脂环族烃基的环系。

技术总结
本发明涉及一种制备四羧酸二酐的方法，本发明的一个方面提供的制备四羧酸二酐的方法可以通过降低催化剂的使用量来抑制颜色杂质的形成，因此适用于光学，并且在没有单独的提纯工艺的情况下，可以在经济的工艺条件下在相对短的时间内制备高纯度四羧酸二酐，因此是有效的。效的。


技术研发人员：金喆禹 李韶英 金钟灿
受保护的技术使用者：爱思开高新信息电子材料株式会社
技术研发日：2022.05.17
技术公布日：2022/11/22