按摩组件以及足浴盆的制作方法
- 国知局
- 2024-07-10 17:41:11
本申请涉及按摩设备,尤其涉及一种按摩组件以及一种足浴盆。
背景技术:
1、消费者越来越青睐足浴盆的脚底按摩功能--在泡脚的同时按摩脚底,使身体达到极度的放松状态,因而,脚底按摩功能成为了足浴盆的一个重要卖点;然而,现有的足浴盆按摩组件的按摩方式单一,在用户脚底的同一按摩位置,只有一种按摩方式来回地进行按摩,此不能很好放松用户的脚底肌肉、缓解用户疲劳,不能满足用户对足底按摩理疗效果的需求。
技术实现思路
1、为了克服上述现有技术所述的至少一种缺陷,本申请提供了一种按摩组件以及一种足浴盆,本申请的第一按摩凸起以及第二按摩凸起在同一时刻转动,且第二按摩凸起在转动的同时还沿着垂直底盘上表面的方向活动,其彼此对用户脚底按摩的方式不同,此能很好地放松用户脚底的肌肉、缓解用户疲劳,以满足用户对足底按摩理疗效果的需求。
2、本申请为解决其问题所采用的技术方案是:
3、在第一方面提出了一种按摩组件,包括底盘以及按摩机构;所述按摩机构包括:第一按摩构件,其转动设置于所述底盘上,所述第一按摩构件的中部镂空,且其上表面偏离镂空区域的位置设置有第一按摩凸起;以及第二按摩构件,其转动设置于所述底盘上、且位于所述第一按摩构件镂空区域的内部,所述第二按摩构件上设置有第二按摩凸起,所述第二按摩凸起自所述第一按摩构件的镂空区域穿出;所述第二按摩凸起相对于所述第二按摩构件、且沿垂直于所述底盘上表面的方向活动设置。
4、进一步地,所述第一按摩凸起和/或所述第二按摩凸起转动的轨迹所形成图形包括圆形、椭圆形。
5、进一步地,所述第二按摩构件包括按摩顶杆,所述按摩顶杆位于所述第一按摩构件的镂空区域内部、且相对于所述底盘转动设置;所述底盘上设置有顶杆支架,所述顶杆支架的上表面形成有凸起面,所述顶杆支架的上表面和所述按摩顶杆的下端形成活动接触,所述按摩顶杆的上端被配置为所述第二按摩凸起。
6、进一步地,所述第二按摩构件还包括按摩套筒;所述顶杆支架的上端设置有顶推凸起,所述顶推凸起具有所述凸起面;所述按摩套筒转动设置于所述底盘上,且其下端套设于所述顶杆支架的外周、上端设置有通孔;所述按摩顶杆的下端设置于所述按摩套筒的内部、且连接于所述顶杆支架的上端,所述按摩顶杆的上端自所述通孔伸出、且被配置为所述第二按摩凸起。
7、进一步地,所述第二按摩构件包括多个所述按摩顶杆;与之相对应地,所述按摩套筒的上端设置有多个所述通孔;并且,所述顶杆支架的上端设置有多个所述顶推凸起,相邻的两个所述顶推凸起之间形成有凹槽。
8、进一步地,所述顶推凸起相对于所述底盘上表面的高度相同或者不同。
9、进一步地,所述第二按摩构件上设置有多个所述第二按摩凸起,并且至少两个所述第二按摩凸起相对于所述底盘上表面的高度不同;和/或,所述第一按摩构件上设置有多个所述第一按摩凸起,并且至少两个所述第一按摩凸起相对于所述底盘上表面的高度不同。
10、进一步地,所述第一按摩构件上设置有多个所述第一按摩凸起,所述第一按摩凸起相对于所述第一按摩构件活动设置;和/或,所述第二按摩构件上设置有多个所述第二按摩凸起,所述第二按摩凸起相对于所述第二按摩构件活动设置。
11、进一步地,所述第一按摩凸起和/或所述第二按摩凸起包括滚珠。
12、进一步地,所述第一按摩凸起与所述第二按摩凸起转动时的角速度不同;和/或,所述第一按摩凸起与所述第二按摩凸起转动时的线速度不同。
13、进一步地,所述第一按摩构件的内部设置有内齿圈;所述第二按摩构件的下端设置有外齿圈;所述外齿圈与所述内齿圈通过传动齿轮啮合。
14、进一步地,所述外齿圈的外周侧均匀环绕有多个所述传动齿轮,所述传动齿轮均与所述内齿圈啮合。
15、进一步地,所述按摩组件包括驱动机构以及多个所述按摩机构;每个所述按摩机构的所述第一按摩构件的外侧均设置有传动外齿圈;所述驱动机构包括驱动齿轮,所述驱动齿轮转动设置于所述底盘上;所述第一按摩构件啮合于所述驱动齿轮的两相对侧。
16、进一步地,所述驱动齿轮的每一侧均分布有至少两个所述按摩机构,所述按摩机构彼此啮合。
17、进一步地,所述底盘上还设置有多个第三按摩凸起,所述第三按摩凸起也设置于所述驱动齿轮的两相对侧,且与所述按摩机构相对。
18、在第二方面,本申请还提出了一种足浴盆,包括如第一方面所述的按摩组件以及盆体组件,所述盆体组件包括盆体构件,所述按摩组件设置于所述盆体构件内部。
19、本申请提出了一种按摩组件以及一种足浴盆,与现有技术相比,其有益效果在于:
20、在本按摩组件中,第一按摩构件转动设置于底盘上,其中部镂空,且上表面偏离镂空区域的位置设置有第一按摩凸起,第二按摩构件转动设置于底盘上、位于第一按摩构件镂空区域的内部,第二按摩构件上设置有第二按摩凸起,第二按摩凸起自第一按摩构件的镂空区域穿出;第一按摩构件转动、带动第一按摩凸起转动,第二按摩构件转动、带动第二按摩凸起转动,第二按摩凸起相对于第二按摩构件、且沿垂直于底盘上表面的方向活动设置,第一按摩凸起与第二按摩凸起彼此对用户脚底按摩的方式不同,此能很好地放松用户脚底的肌肉、缓解用户疲劳,以满足用户对足底按摩理疗效果的需求。
21、本申请的足浴盆应用了上述的按摩组件,其可以采用两种不同的按摩方式,实现在用户脚底的同一位置进行按摩,以能很好地放松用户脚底的肌肉、缓解用户疲劳,满足用户对足底按摩理疗效果的需求。
技术特征:1.一种按摩组件,其特征在于,包括底盘以及按摩机构;
2.根据权利要求1所述的按摩组件,其特征在于,所述第一按摩凸起和/或所述第二按摩凸起转动的轨迹所形成图形包括圆形、椭圆形。
3.根据权利要求1所述的按摩组件,其特征在于,所述第二按摩构件包括按摩顶杆,所述按摩顶杆位于所述第一按摩构件的镂空区域内部、且相对于所述底盘转动设置;
4.根据权利要求3所述的按摩组件,其特征在于,所述第二按摩构件还包括按摩套筒;
5.根据权利要求4所述的按摩组件,其特征在于,所述第二按摩构件包括多个所述按摩顶杆;
6.根据权利要求5所述的按摩组件,其特征在于,所述顶推凸起相对于所述底盘上表面的高度相同或者不同。
7.根据权利要求1所述的按摩组件,其特征在于,所述第二按摩构件上设置有多个所述第二按摩凸起,并且至少两个所述第二按摩凸起相对于所述底盘上表面的高度不同;
8.根据权利要求1所述的按摩组件,其特征在于,所述第一按摩构件上设置有多个所述第一按摩凸起,所述第一按摩凸起相对于所述第一按摩构件活动设置;
9.根据权利要求8所述的按摩组件,其特征在于,所述第一按摩凸起和/或所述第二按摩凸起包括滚珠。
10.根据权利要求1所述的按摩组件,其特征在于,所述第一按摩凸起与所述第二按摩凸起转动时的角速度不同;
11.根据权利要求10所述的按摩组件,其特征在于,所述第一按摩构件的内部设置有内齿圈;
12.根据权利要求11所述的按摩组件,其特征在于,所述外齿圈的外周侧均匀环绕有多个所述传动齿轮,所述传动齿轮均与所述内齿圈啮合。
13.根据权利要求11所述的按摩组件,其特征在于,所述按摩组件包括驱动机构以及多个所述按摩机构;
14.根据权利要求13所述的按摩组件,其特征在于,所述驱动齿轮的每一侧均分布有至少两个所述按摩机构,所述按摩机构彼此啮合。
15.根据权利要求13所述的按摩组件,其特征在于,所述底盘上还设置有多个第三按摩凸起,所述第三按摩凸起也设置于所述驱动齿轮的两相对侧,且与所述按摩机构相对。
16.一种足浴盆,其特征在于,包括如权利要求1-15中任一项所述的按摩组件以及盆体组件,所述盆体组件包括盆体构件,所述按摩组件设置于所述盆体构件内部。
技术总结本申请提供了一种按摩组件以及一种足浴盆,本按摩组件包括底盘以及按摩机构;按摩机构包括:第一按摩构件,其转动设置于底盘上,第一按摩构件的中部镂空,且其上表面偏离镂空区域的位置设置有第一按摩凸起;以及第二按摩构件,其转动设置于所述底盘上、且位于第一按摩构件镂空区域的内部,第二按摩构件上设置有第二按摩凸起,第二按摩凸起自第一按摩构件的镂空区域穿出;第二按摩凸起相对于第二按摩构件、且沿垂直于底盘的上表面活动设置;本申请的第一按摩凸起以及第二按摩凸起对用户脚底按摩的方式不同,此能很好地放松用户脚底的肌肉、缓解用户疲劳,以满足用户对足底按摩理疗效果的需求。技术研发人员:李一峰,黄宇君,宋战国受保护的技术使用者:佛山市小熊健康电器有限公司技术研发日:技术公布日:2024/6/13本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20240615/64551.html
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