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喷墨用处理液、喷墨印花装置及喷墨印花方法与流程

  • 国知局
  • 2024-07-05 15:56:27

本发明涉及喷墨用处理液。进一步,还涉及使用其的喷墨印花装置和喷墨印花方法。

背景技术:

1、在喷墨记录方式中,可知在墨液涂布后,为了抑制记录介质的变形,或为了提高图像定影性,而涂布处理液。

2、例如,在专利文献1中公开有通过使用含有表面活性剂的处理液,能够抑制羽状扩散、出血(bleeding)、纸张变形。根据该文献,还报告称有特别是优选使用含有两种表面活性剂的处理液。

3、另外,迄今为止还有如下报告,通过在喷墨记录液中包含表面活性剂,从而能够同时达成墨液干燥性、光密度、羽状扩散及图像定影性(专利文献2)。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1:日本特开2016-16556号公报

7、专利文献2:日本特开2001-226616号公报

技术实现思路

1、本发明的一个方面涉及的喷墨用处理液包含:含有硅油的乳化颗粒;表面活性剂;水性介质,其中,相对于处理液总体,所述硅油的含量为5质量%以上且15质量%以下,所述表面活性剂含有:含有碳数为12~14的烷基的第一表面活性剂;含有碳数为16~18的烷基的第二表面活性剂。

技术特征:

1.一种喷墨用处理液,其含有:含有硅油的乳化颗粒;表面活性剂;水性介质,其中,

2.根据权利要求1所述的喷墨用处理液,其中,所述表面活性剂是聚氧乙烯烷基醚。

3.根据权利要求1所述的喷墨用处理液,其中,所述第一表面活性剂含有具有碳数不同的烷基的、2个以上的化合物。

4.根据权利要求1所述的喷墨用处理液,其中,所述第二表面活性剂含有具有碳数不同的烷基的、2个以上的化合物。

5.根据权利要求1所述的喷墨用处理液,其中,所述第二表面活性剂的含量比所述第一表面活性剂的含量少。

6.根据权利要求1所述的喷墨用处理液,其中,所述第一表面活性剂的含量和所述第二表面活性剂的含量满足下式:

7.根据权利要求6所述的喷墨用处理液,其中,相对于处理液总体,所述第一表面活性剂和所述第二表面活性剂的合计含量为0.5质量%以上且4.0质量%以下。

8.根据权利要求6所述的喷墨用处理液,其中,相对于硅油的含量,所述第一表面活性剂和所述第二表面活性剂的合计含量为9.0质量%以上且40.0质量%以下。

9.根据权利要求1所述的喷墨用处理液,其中,所述乳化颗粒的平均粒径为100nm以上且250nm以下。

10.根据权利要求9所述的喷墨用处理液,其中,将所述喷墨处理液在60℃下保管了30天时,保管前的处理液中的所述乳化颗粒的平均粒径x、和保管后的处理液中的所述乳化颗粒的平均粒径y满足下式:

11.根据权利要求1~10中任一项所述的喷墨用处理液,其中,用于印花。

12.一种喷墨印花装置,其中,具备:向印花对象的图像形成区域喷出墨液的记录头;向所述印花对象的至少所述图像形成区域喷出处理液的处理头,

13.一种喷墨印花方法,其中,包括如下工序:喷墨工序,从记录头向印花对象的图像形成区域喷出墨液;处理工序,从处理头向所述印花对象的至少所述图像形成区域喷出处理液,

技术总结本发明的一个方面涉及一种喷墨用处理液,其包括:含有硅油的乳化颗粒;表面活性剂;水性介质,其中,相对于处理液总体,所述硅油的含量为5质量%以上且15质量%以下,所述表面活性剂含有:含有碳数为12~14的烷基的第一表面活性剂;含有碳数为16~18的烷基的第二表面活性剂。技术研发人员:保母纯平,日置润,杉本博子,通山刚受保护的技术使用者:京瓷株式会社技术研发日:技术公布日:2024/5/16

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