预选套刻标记测量配方的方法、系统以及存储介质与流程

【】本发明涉及光刻，特别涉及一种预选套刻标记测量配方的方法、系统以及存储介质。

背景技术

0、背景技术：

1、随着光刻图形关键尺寸(critical dimension，cd)进入光刻工艺的22nm及以下节点，套刻(overlay)的半导体计量(metrology)进入亚纳米领域。所有半导体器件都需采用测量与表征手段去探查器件及其工艺过程中出现的问题，从而改进并提高良率。套刻标记仿真优化是计算光刻软件系统的重要组成部分，是工艺用户和光刻机用户优化生产控制套刻精度必不可少的模块。基于计算光刻中的套刻标识测量配方的预选则可以为套刻测量提供更好的测量方案、节约测量时间、提高产率。

2、但现有选择测量配方的方案，只是在特定场景下适用，不足以应对实际生产情况以及实际工艺复杂场景。

技术实现思路

0、技术实现要素：

1、为解决现有选择测量配方的方案，只是在特定场景下适用，不足以应对实际工艺复杂场景中的问题，本发明提供了一种预选套刻标记测量配方的方法、系统以及存储介质。

2、本发明解决技术问题的方案是提供一种预选套刻标记测量配方的方法，包括以下步骤：

3、获取多个掩模空间周期和/或关键尺寸不同的套刻标记在不同的预设第一测量配方下的第一可探测性指标的第一热力图；所述第一可探测性指标包括堆层灵敏度；

4、根据所述第一热力图初选满足初选策略的第一可探测性指标对应的套刻标记；

5、获取满足初选策略的套刻标记在不同预设第二测量配方下的第二可探测性指标的第二热力图；所述第二可探测性指标包括套刻误差量；

6、根据所述第二热力图确定满足预选策略的第二可探测性指标对应的预设第二测量配方。

7、优选地，获取多个掩模空间周期和/或关键尺寸不同的套刻标记在不同的预设第一测量配方下的第一可探测性指标的第一热力图之前，所述方法还包括：

8、获取用户提供的工艺信息、测量信息以及套刻标记信息以及对应的d r c；所述套刻标记信息包括多个掩模空间周期和/或关键尺寸不同的套刻标记；

9、筛选物理尺寸满足d r c的多个不同的套刻标记。

10、优选地，获取多个掩模空间周期和/或关键尺寸不同的套刻标记在不同的预设第一测量配方下的第一可探测性指标的第一热力图，具体包括：

11、根据不同的预设第一测量配方分别配置仿真平台，并分别通过所述仿真平台对多个不同的套刻标记进行仿真计算，获得在预设第一测量配方下的不同的套刻标记的对应的堆层灵敏度；

12、生成每个预设第一测量配方对应不同的套刻标记对应的掩模空间周期和关键尺寸共同相关于堆层灵敏度的第一热力图。

13、优选地，所述初选策略为根据所述第一热力图对不同的套刻标记对应的堆层灵敏度由高至低进行排序，并选择排名在预设第一数值之前的堆层灵敏度对应的不同的套刻标记。

14、优选地，不同的所述预设第一测量配方中的偏振不同；

15、获取满足初选策略的套刻标记在不同预设第二测量配方下的第二可探测性指标的第二热力图之前，具体还包括：

16、确定同一套刻标记在不同的第一热力图中对应的堆层灵敏度高对应的预设第一测量配方中的偏振为所有不同的预设第二测量配方中的目标偏振。

17、优选地，不同的所述预设第二测量配方中的波长不同。

18、优选地，获取满足初选策略的套刻标记在不同预设第二测量配方下的第二可探测性指标的第二热力图，具体包括：

19、根据波长不同的预设第二测量配方分别配置仿真平台，通过所述仿真平台对同一套刻标记进行仿真计算，获得在预设第二测量配方下的同一套刻标记的对应的套刻误差量；

20、生成同一套刻标记对应在不同预设第二测量配方下的不同波长和目标系数共同相关于套刻误差量的第二热力图。

21、优选地，所述预选策略为根据每个所述第二热力图对同一套刻标记对应的套刻误差量和目标系数同时由低至高进行排序，选择排名在预设第二数值之前的套刻误差量和目标系数同时对应的目标波长，根据所述目标波长确定对应的预设第二测量配方。

22、本发明为解决上述技术问题还提供一种预选套刻标记测量配方的系统，实现如上任一项所述的预选套刻标记测量配方的方法，包括：

23、获取第一热力图模块，用于获取多个掩模空间周期和/或关键尺寸不同的套刻标记在不同的预设第一测量配方下的第一可探测性指标的第一热力图；所述第一可探测性指标包括堆层灵敏度；

24、初选模块，用于根据所述第一热力图初选满足初选策略的第一可探测性指标对应的套刻标记；

25、获取第二热力图模块，用于获取满足初选策略的套刻标记在不同预设第二测量配方下的第二可探测性指标的第二热力图；所述第二可探测性指标包括套刻误差量；

26、预选模块，用于根据所述第二热力图确定满足预选策略的可探测性指标对应的预设第二测量配方。

27、本发明为解决上述技术问题还提供一种计算机可读存储介质，计算机可读存储介质存储有计算机程序，计算机程序被执行时实现如上任一项所述的预选套刻标记测量配方的方法。

28、与现有技术相比，本发明提供的预选套刻标记测量配方的方法、系统以及存储介质具有以下优点：

29、1、本发明实施例的一种预选套刻标记测量配方的方法，包括以下步骤：获取多个掩模空间周期和/或关键尺寸不同的套刻标记在不同的预设第一测量配方下的第一可探测性指标的第一热力图；第一可探测性指标包括堆层灵敏度；根据第一热力图初选满足初选策略的第一可探测性指标对应的套刻标记；获取满足初选策略的套刻标记在不同预设第二测量配方下的第二可探测性指标的第二热力图；第二可探测性指标包括套刻误差量；根据第二热力图确定满足预选策略的第二可探测性指标对应的预设第二测量配方。通过第一热力图可更直观的观察到不同的套刻标记的堆层灵敏度的大小，从而可直接通过第一热力图中堆层灵敏度的大小筛选出满足初选策略的套刻标记，从而可以筛选出探测的衍射能力强的套刻标记；进而可通过第二热力图直观的观察到同一套刻标记在不同的预设第二配方下的套刻误差量的大小，从而可直接通过第二热力图中套刻误差量的大小准确筛选出满足预选策略下的预设第二测量配方，将该预设第二测量配方作为本次预选套刻标记测量配方。因而相较于现有应用于特定条件下的选择测量配方的方法以及全新设计测量系统而言，本发明的方法更通用，且无需更改现有测量设备或测量系统的实际结构就可达成预选测量配方的目的，同时使分析更简单直观，节约测量时间、提高本次预选测量配方的准确性，从而使本发明能应用于实际产线中。

30、2、本发明实施例的获取多个掩模空间周期和/或关键尺寸不同的套刻标记在不同的预设第一测量配方下的第一可探测性指标的第一热力图之前，所述方法还包括：获取用户提供的工艺信息、测量信息以及套刻标记信息以及对应的设计规则检查；套刻标记信息包括多个掩模空间周期和/或关键尺寸不同的套刻标记；筛选物理尺寸满足设计规则检查的多个不同的套刻标记。通过用户提供的数据可先对套刻标记进行初选，从而筛除掉不合格的套刻标记，便于后续的进一步筛选。同时利用用户提供的设计规则检查进行筛除，可以提前发现潜在的制造问题，避免实际生产过程中的错误和缺陷。

31、3、本发明实施例的获取多个掩模空间周期和/或关键尺寸不同的套刻标记在不同的预设第一测量配方下的第一可探测性指标的第一热力图，具体包括：根据不同的预设第一测量配方分别配置仿真平台，并分别通过仿真平台对多个不同的套刻标记进行仿真计算，获得在预设第一测量配方下的不同的套刻标记的对应的堆层灵敏度；生成每个预设第一测量配方对应的不同的套刻标记对应的掩模空间周期和关键尺寸共同相关于堆层灵敏度的第一热力图。通过第一热力图能直观地表示不同的套刻标记的堆层灵敏度，从而可直接观察就可确定不同的套刻标记的堆层灵敏度的高低。

32、4、本发明实施例的初选策略为根据第一热力图对不同的套刻标记对应的堆层灵敏度由高至低进行排序，并选择排名在预设第一数值之前的堆层灵敏度对应的不同的套刻标记。通过初选策略就可筛选出堆层灵敏度靠前的套刻标记，即筛选出使用该套刻度探测的衍射能力强度的套刻标记，便于使用初选出的套刻标记进行预设第二配方的筛选。

33、5、本发明实施例的不同的预设第一测量配方中的偏振不同；获取满足初选策略的套刻标记在不同预设第二测量配方下的第二可探测性指标的第二热力图之前，具体还包括：确定同一套刻标记在不同的第一热力图中对应的堆层灵敏度高对应的预设第一测量配方中的偏振为所有不同的预设第二测量配方中的目标偏振。通过比较同一套刻标记在偏振不同的预设第一测量配方对应的第一热力图中的堆层灵敏度的高低，就可先确定出预设第二测量配方中更符合需求的偏振，实现在后续预选中预设第二测量配方中偏振的固定，有利于筛选预设第二测量配方中其他变量。

34、6、本发明实施例的获取满足初选策略的套刻标记在不同预设第二测量配方下的第二可探测性指标的第二热力图，具体包括：根据波长不同的预设第二测量配方分别配置仿真平台，通过仿真平台对同一套刻标记进行仿真计算，获得在预设第二测量配方下的不同的套刻标记的对应的套刻误差量；生成同一套刻标记对应在不同预设第二测量配方下的不同波长和目标系数共同相关于套刻误差量的第二热力图。通过第二热力图可直接表示同一套刻标记在不同波长下的目标系数与套刻误差量的大小，从而可直接观察就可确定同一套刻标记的目标系数与套刻误差量的高低。

35、7、本发明实施例的预选策略为根据每个第二热力图对同一套刻标记对应的套刻误差量和目标系数同时由低至高进行排序，选择排名在预设第二数值之前的套刻误差量和目标系数同时对应的目标波长，根据目标波长确定对应的预设第二测量配方。通过预选策略可直接筛选出套刻误差量和目标系数均较低时对应的波长，即满足目标系数偏小，套刻仿真误差较小的要求对应波长，从而根据该波长确定预设第二配方，使最终确定的预设第二配方在测量套刻标记时更准确，误差更小，进一步提高测量的精确度。

36、8、本发明实施例还提供一种预选套刻标记测量配方的系统，具有与上述一种预选套刻标记测量配方的方法具有相同的有益效果，在此不做赘述。

37、9、本发明实施例还提供一种计算机可读存储介质，具有与上述一种预选套刻标记测量配方的方法具有相同的有益效果，在此不做赘述。