一种双工作台的光学加工系统及加工方法与流程

本发明涉及一种光伏产品加工领域，尤其是一种光伏产品的双工作台的光学加工系统及加工方法。

背景技术：

1、光学加工广泛应用于半导体、pcb、光伏电池、3d打印等生产领域，是制作半导体器件、芯片、pcb板和光伏电池等产品的重要加工方法，其用于在工件表面上光刻特征图形，印刷电路板防焊油墨的处理以及多层电路板之间电气互连的打孔处理等。

2、传统单工作台模式生产速度已经发展到极限，需要双工作台设计提升生产速度，光学引擎造价高，双台面设计可提高光学部分的利用率，节约成本，提高设备性价比；当前市面上双工作台加工系统有两种，均有不理想之处，一是上下交互双工作台模式，此模式工作台需要长行程的上下移动，长时间使用会导致精度下降；二是左右双工作台结构，两个工作台左右分布安装，光学系统需要左右移动，因为光学非常敏感，活动的光学系统使曝光精度下降。

技术实现思路

1、本发明所要解决的技术问题是提供一种保证曝光精度的双工作台加工系统及加工方法。

2、为了解决上述问题，本发明提供了一种双工作台的光学加工系统，其包括基座、第一工作台组件、第二工作台组件、对位系统和光学加工系统，所述光学加工系统包括多个固定设置的光学镜头，位于所述第一工作台组件和第二工作台组件之间，所述第一工作台组件和第二工作台组件均包括扫描方向运动机构、副扫描方向运动机构、竖向承托机构和支撑平台，所述扫描方向运动机构安装于所述基座，所述副扫描方向运动机构安装于所述扫描方向运动机构，所述竖向承托机构安装于所述副扫描方向运动机构，所述支撑平台安装于所述竖向承托机构，所述第一工作台组件和第二工作台组件分别依次通过所述对位系统和所述光学加工系统。

3、进一步的，所述扫描方向运动机构包括相对设置的扫描方向导轨、对应扫描方向导轨设置的扫描方向滑块和扫描方向滑座，所述扫描方向导轨设置于所述基座，所述扫描方向滑座和所述扫描方向导轨通过所述第一扫描方向滑块连接。

4、进一步的，所述副扫描方向运动机构包括相对设置的副扫描方向导轨和对应设置的副扫描方向滑块，所述副扫描方向导轨设置于所述扫描方向滑座，所述副扫描方向滑块载置所述竖向承托机构。

5、进一步的，所述竖向承托机构和所述支撑平台的重心与所述副扫描方向滑块的重心在竖直方向共线。

6、进一步的，所述竖向承托机构包括主承托机构和副承托机构，所述副承托机构置于所述主承托机构上部，所述主承托机构与所述副扫描方向滑块连接。

7、进一步的，所述副承托机构承载所述支撑平台，部分连接于所述第一主承托机构，向内侧伸出。

8、进一步的，所述主承托机构呈梯形结构，由靠近所述副承托机构的一侧向靠近所述副扫描方向滑块一侧逐渐增宽。

9、进一步的，所述主承托机构朝向内侧倾斜。

10、进一步的，所述第一竖向承托机构的在副扫描方向的行程依据所述竖向承托机构的重心位置设置，所述第一竖向承托机构的在副扫描方向移动时，所述竖向承托机构的重心位于相对设置的所述扫描方向导轨之间。

11、进一步的，所述第一工作台组件和第二工作台组件的支撑平台在副扫描方向的最大间距大于一个支撑平台在副扫描方向的宽度。

12、进一步的，所述光学镜头为直写曝光镜头。

13、上述的双工作台的光学加工系统的加工方法，所述第一工作台组件和第二工作台组件依次进行对位操作和光学加工操作，第一工作台组件和第二工作台组件相遇时，其中一工作台组件处于中间位置，另一工作台组件处于侧边位置。

14、与现有技术相比，所述光学镜头固定设置，通过第一工作台组件和第二工作台组件带动待加工的工件移动，避免光学镜头由于运动造成的误差，提高加工精度。并且第一工作台组件和第二工作台组件紧密配合，提高生产效率。

技术特征：

1.一种双工作台的光学加工系统，其包括基座、第一工作台组件、第二工作台组件、对位系统和光学加工系统，其特征于：所述光学加工系统包括多个固定设置的光学镜头，位于所述第一工作台组件和第二工作台组件之间，所述第一工作台组件和第二工作台组件均包括扫描方向运动机构、副扫描方向运动机构、竖向承托机构和支撑平台，所述扫描方向运动机构安装于所述基座，所述副扫描方向运动机构安装于所述扫描方向运动机构，所述竖向承托机构安装于所述副扫描方向运动机构，所述支撑平台安装于所述竖向承托机构，所述第一工作台组件和第二工作台组件分别依次通过所述对位系统和所述光学加工系统。

2.根据权利要求1所述的双工作台的光学加工系统，其特征在于：所述扫描方向运动机构包括相对设置的扫描方向导轨、对应扫描方向导轨设置的扫描方向滑块和扫描方向滑座，所述扫描方向导轨设置于所述基座，所述扫描方向滑座和所述扫描方向导轨通过所述第一扫描方向滑块连接。

3.根据权利要求2所述的双工作台的光学加工系统，其特征在于：所述副扫描方向运动机构包括相对设置的副扫描方向导轨和对应设置的副扫描方向滑块，所述副扫描方向导轨设置于所述扫描方向滑座，所述副扫描方向滑块载置所述竖向承托机构。

4.根据权利要求3所述的双工作台的光学加工系统，其特征在于：所述竖向承托机构和所述支撑平台的重心与所述副扫描方向滑块的重心在竖直方向共线。

5.根据权利要求3所述的双工作台的光学加工系统，其特征在于：所述竖向承托机构包括主承托机构和副承托机构，所述副承托机构置于所述主承托机构上部，所述主承托机构与所述副扫描方向滑块连接。

6.根据权利要求5所述的双工作台的光学加工系统，其特征在于：所述副承托机构承载所述支撑平台，部分连接于所述第一主承托机构，向内侧伸出。

7.根据权利要求5所述的双工作台的光学加工系统，其特征在于：所述主承托机构呈梯形结构，由靠近所述副承托机构的一侧向靠近所述副扫描方向滑块一侧增宽。

8.根据权利要求5所述的双工作台的光学加工系统，其特征在于：所述主承托机构朝向内侧倾斜。

9.根据权利要求3所述的双工作台的光学加工系统，其特征在于：所述第一竖向承托机构的在副扫描方向的行程依据所述竖向承托机构的重心位置设置，所述第一竖向承托机构的在副扫描方向移动时，所述竖向承托机构的重心位于相对设置的所述扫描方向导轨之间。

10.根据权利要求3所述的双工作台的光学加工系统，其特征在于：所述第一工作台组件和第二工作台组件的支撑平台在副扫描方向的最大间距大于一个支撑平台在副扫描方向的宽度。

11.根据权利要求1所述的双工作台的光学加工系统，其特征在于：所述光学镜头为直写曝光镜头。

12.根据权利要求1-11任一项所述的双工作台的光学加工系统的加工方法，其特征在于：所述第一工作台组件和第二工作台组件依次进行对位操作和光学加工操作，第一工作台组件和第二工作台组件相遇时，其中一工作台组件处于中间位置，另一工作台组件处于侧边位置。

技术总结本发明涉及一种双工作台的光学加工系统及加工方法，其包括基座、第一工作台组件、第二工作台组件、对位系统和光学加工系统，光学加工系统包括多个固定设置的光学镜头，位于所述第一工作台组件和第二工作台组件之间，第一工作台组件和第二工作台组件均包括扫描方向运动机构、副扫描方向运动机构、竖向承托机构和支撑平台，扫描方向运动机构安装于基座，副扫描方向运动机构安装于扫描方向运动机构，竖向承托机构安装于副扫描方向运动机构，支撑平台安装于竖向承托机构，第一工作台组件和第二工作台组件分别依次通过所述对位系统和所述光学加工系统。第一工作台组件和第二工作台组件带动待加工的工件移动，避免光学镜头由于运动造成的误差，提高加工精度。技术研发人员：马运军,胡传武,张雷受保护的技术使用者：源卓微纳科技（苏州）股份有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/16