一种目标光栅生成方法与流程

本发明涉及光学，特别是涉及一种目标光栅生成方法。

背景技术：

1、光栅是由大量等宽等间距的平行狭缝构成的表面周期性结构，可以通过电子束光刻、聚焦离子束光刻以及各类掩模刻蚀方案等方法制备生成，并广泛应用于各种领域。随着激光技术的快速发展，通过激光诱导的方法可以利用光强周期分布的激光与基板相互作用，进而在基板表面形成光栅结构。

2、为了获取到光强周期分布的目标光束，光源输出的若干个初始光束可以基于光反射模块进行反射和干涉，从而确定目标干涉区域，并输出目标光束以制备得到光栅。但是由于不同初始光束的属性值之间的差异较大，且不同领域中对光栅中空间结构的间距大小和间距精度等参数要求不同，当保持光反射模块的倾斜角度为固定数值时，难以高效地制备出符合需求的光栅，而控制光反射模块的光反射模块的倾斜角度，可以控制初始光束在光反射模块中发生干涉的效果，输出属性值不同的目标光束，进而制备出符合各种需求的光栅。

3、因此，如何提高光栅的生成效率和准确性成为亟待解决的问题。

技术实现思路

1、针对上述技术问题，本发明采用的技术方案为一种目标光栅生成方法，该目标光栅生成方法包括：

2、s001，判断目标光源输出的初始光束集合的总数量。

3、s002，当初始光束集合的总数量等于1时，采用第一方式确定第二干涉区域。

4、s003，当初始光束集合的总数量大于1时，采用第二方式确定第二干涉区域。

5、s004，根据第二干涉区域放置基板，生成第二目标光栅。

6、本发明与现有技术相比具有明显的有益效果，借由上述技术方案，本发明提供的目标光栅生成方法可达到相当的技术进步性及实用性，并具有产业上的广泛利用价值，其至少具有以下有益效果：判断目标光源输出的初始光束集合的总数量，当初始光束集合的总数量等于1时，采用第一方式确定第二干涉区域，当初始光束的集合总数量大于1时，采用第二方式确定第二干涉区域，根据第二干涉区域放置基板，生成第二目标光栅，通过对目标光源输出的初始光束的总数量，适应性地采用第一方式或者第二方式确定第二干涉区域，提高了第二目标光栅的生成准确性。

技术特征：

1.一种目标光栅生成方法，其特征在于，所述目标光栅生成方法包括：

2.根据权利要求1所述的目标光栅生成方法，其特征在于，s001还包括如下步骤：

3.根据权利要求2所述的目标光栅生成方法，其特征在于，s012还包括如下步骤：

4.根据权利要求1所述的目标光栅生成方法，其特征在于，所述第一方式包括如下步骤：

5.根据权利要求4所述的目标光栅生成方法，其特征在于，h1通过如下步骤获取：

6.根据权利要求5所述的目标光栅生成方法，其特征在于，a0通过如下步骤获取：

7.根据权利要求5所述的目标光栅生成方法，其特征在于，当x1=aj且x2=q1j时，将θ0j确定为所述初始光反射模块对应的第一目标倾斜角度集合。

8.根据权利要求1所述的目标光栅生成方法，其特征在于，所述第二方式包括如下步骤：

9.根据权利要求8所述的目标光栅生成方法，其特征在于，h2通过如下步骤获取：

10.根据权利要求9所述的目标光栅生成方法，其特征在于，当g0=q2p且x21=w1pδ1时，将θ2p确定为所述初始光反射模块对应的第二目标倾斜角度集合。

技术总结本发明涉及光学技术领域，尤其涉及一种目标光栅生成方法，包括以下步骤：判断目标光源输出的初始光束集合的总数量，当初始光束集合的总数量等于1时，采用第一方式确定第二干涉区域，当初始光束集合的总数量大于1时，采用第二方式确定第二干涉区域，根据第二干涉区域放置基板，生成第二目标光栅，通过对目标光源输出的初始光束集合的总数量，适应性地采用第一方式或者第二方式确定第二干涉区域，提高了第二干涉区域的获取准确性，进而提高了目标光栅的生成准确性。技术研发人员：李利军,张磊,付小虎,潘伟巍,侯立博受保护的技术使用者：上海频准激光科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/19