一种掩膜版远程除particle装置的制作方法

本技术涉及掩膜版生产设备，具体为一种掩膜版远程除particle装置。

背景技术：

1、目前高精度掩膜版为了防止灰尘(particle)掉落到mask(掩膜版)表面，都需要进行贴防尘膜(pellicle)，在进行贴膜前检查时，由于掩膜版在车间运输过程和检查设备内洁净度影响，存在particle落到掩膜版表面的可能性，一般particle的大小在5～50um之间。

2、如果particle降落位置位于产品图形区，会导致不能进行贴膜，目前的方法一是由作业人员打开设备门，手持气枪小心的在particle位置轻轻吹扫，再关闭设备门，将review ccd镜头移动到particle位置观察，如果确认已吹落，再重新启动设备进行检查，如果没有吹落，则使用方法二，将该mask取出返回清洗设备，重新清洗。

3、这种方式有2个缺点：一是人员靠近mask表面操作很容易导致新的particle落到mask表面，此外人员吹扫对于较小的particle很难看清楚，吹扫过程很难确认是否已经吹落，二是吹扫必须人员进入车间操作，需要更换无尘服，耗时约30min时间，如果没有吹落，或者人员近距离接触导致新增落灰，反洗则需要耗费1～2小时，效率非常低下。

技术实现思路

1、针对上述技术问题，本实用新型提供一种掩膜版远程除particle装置，可以便捷的对掩膜版表面灰尘进行清理，避免了人工清理出现的二次清理问题，提高了掩膜版表面的清理效率。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种掩膜版远程除particle装置，包括将掩膜版本体沿竖直方向进行固定的定位机构、以及设置在定位机构一侧并对掩膜版本体端面灰尘进行清理的清洁机构，定位机构包括支撑组件、两根沿竖直方向设置在支撑组件顶端上的定位杆、以及设置在支撑组件上并驱动两根定位杆对竖直方向放置掩膜版本体进行固定的定位组件，两根定位杆相邻侧面且靠近清洁机构一侧位置开设有排气槽；

3、清洁机构包括设置在支撑组件一侧的底座、通过调节组件设置在底座上的ccd镜头、以及横向设置在ccd镜头上且喷射口方向向ccd镜头倾斜的气针，气针一端连接输送氮气的输送管。

4、调节组件包括设置在底座上驱动ccd镜头在横向进行移动的横向调节件、设置在横向调节件上驱动ccd镜头在竖向进行移动的竖向调节件、以及设置在竖向调节件上并驱动ccd镜头在竖直方向上进行升降运动的升降件，升降件的顶端连接ccd镜头。

5、横向调节件包括设置在横向移动槽内的横向调节螺杆、以及套设于横向调节螺杆上并与横向调节螺杆螺纹连接的第一螺纹块，底座顶端端面开设有横向移动槽，第一螺纹块顶端与竖向调节件连接；横向调节螺杆通过第一电机驱动。

6、竖向调节件包括沿竖向设置在底座顶端端面上且底侧侧面中心部位与第一螺纹块顶端固定连接的竖向调节杆、设置在竖向调节杆顶侧侧面沿长度方向开设竖向移动槽内的竖向调节螺杆、以及套设于竖向调节螺杆上并与竖向调节螺杆螺纹连接的第二螺纹块，第二螺纹块顶端连接升降件；竖向调节螺杆通过第二电机驱动。

7、升降件包括底端垂直设置在第二螺纹块上的升降臂、底端活动贯穿升降臂顶端于内部的升降杆、以及设置在升降臂内并驱动升降杆在竖直方向上进行升降的升降结构，升降杆顶端与ccd镜头可拆卸连接。

8、定位组件包括杆身贴合设置在支撑组件顶端端面上的支撑杆、设置在支撑杆顶侧侧面内且沿长度方向设置定位槽内的定位双向螺杆、以及两个套设于定位双向螺杆两端杆身上并与定位双向螺杆螺纹连接的第三螺纹块，两个第三螺纹块顶端分别固定连接不同定位杆底端；两根定位杆相邻侧面底端位置均设置有限位块，限位块顶端端面开设有与掩膜版本体底侧配合的限位槽。

9、本实用新型的有益效果：其中直接通过定位组件驱动两根定位杆相互靠近，便于将掩膜版本体沿竖直方向进行固定，再通过调节组件带动ccd镜头在掩膜版本体端面方向进行移动，从而便于通过ccd镜头检查掩膜版本体端面上灰尘的位置，从而便于通过设置在ccd镜头上的气针喷射氮气对掩膜版本体端面上的灰尘进行清理，可以便捷的对掩膜版表面灰尘进行清理，避免了人工清理出现的二次清理问题，提高了掩膜版表面的清理效率；且开设于定位杆上的排气槽便于将喷射到掩膜版本体端面上的氮气以及清理的灰尘排出，避免了经过氮气清理的灰尘再次掉落到掩膜版本体端面上的情况出现，避免了气针多次喷射氮气的情况出现，提高了对掩膜版本体端面灰尘清理的效率以及效果。

技术特征：

1.一种掩膜版远程除particle装置，包括将掩膜版本体(21)沿竖直方向进行固定的定位机构、以及设置在定位机构一侧并对掩膜版本体(21)端面灰尘进行清理的清洁机构，其特征在于，定位机构包括支撑组件、两根沿竖直方向设置在支撑组件顶端上的定位杆(20)、以及设置在支撑组件上并驱动两根定位杆(20)对竖直方向放置掩膜版本体(21)进行固定的定位组件，两根定位杆(20)相邻侧面且靠近清洁机构一侧位置开设有排气槽(25)；

2.根据权利要求1所述的一种掩膜版远程除particle装置，其特征在于：调节组件包括设置在底座(1)上驱动ccd镜头(10)在横向进行移动的横向调节件、设置在横向调节件上驱动ccd镜头(10)在竖向进行移动的竖向调节件、以及设置在竖向调节件上并驱动ccd镜头(10)在竖直方向上进行升降运动的升降件，升降件的顶端连接ccd镜头(10)。

3.根据权利要求2所述的一种掩膜版远程除particle装置，其特征在于：横向调节件包括设置在横向移动槽(2)内的横向调节螺杆(3)、以及套设于横向调节螺杆(3)上并与横向调节螺杆(3)螺纹连接的第一螺纹块，底座(1)顶端端面开设有横向移动槽(2)，第一螺纹块顶端与竖向调节件连接；横向调节螺杆(3)通过第一电机驱动。

4.根据权利要求3所述的一种掩膜版远程除particle装置，其特征在于：竖向调节件包括沿竖向设置在底座(1)顶端端面上且底侧侧面中心部位与第一螺纹块顶端固定连接的竖向调节杆(4)、设置在竖向调节杆(4)顶侧侧面沿长度方向开设竖向移动槽(5)内的竖向调节螺杆(6)、以及套设于竖向调节螺杆(6)上并与竖向调节螺杆(6)螺纹连接的第二螺纹块，第二螺纹块顶端连接升降件；竖向调节螺杆(6)通过第二电机驱动。

5.根据权利要求4所述的一种掩膜版远程除particle装置，其特征在于：升降件包括底端垂直设置在第二螺纹块上的升降臂(7)、底端活动贯穿升降臂(7)顶端于内部的升降杆(8)、以及设置在升降臂(7)内并驱动升降杆(8)在竖直方向上进行升降的升降结构，升降杆(8)顶端与ccd镜头(10)可拆卸连接。

6.根据权利要求1所述的一种掩膜版远程除particle装置，其特征在于：定位组件包括杆身贴合设置在支撑组件顶端端面上的支撑杆(19)、设置在支撑杆(19)顶侧侧面内且沿长度方向设置定位槽(23)内的定位双向螺杆(24)、以及两个套设于定位双向螺杆(24)两端杆身上并与定位双向螺杆(24)螺纹连接的第三螺纹块，两个第三螺纹块顶端分别固定连接不同定位杆(20)底端；两根定位杆(20)相邻侧面底端位置均设置有限位块(22)，限位块(22)顶端端面开设有与掩膜版本体(21)底侧配合的限位槽。

技术总结本技术提供一种掩膜版远程除particle装置，包括将掩膜版本体沿竖直方向进行固定的定位机构、以及设置在定位机构一侧并对掩膜版本体端面灰尘进行清理的清洁机构，定位机构包括支撑组件、两根沿竖直方向设置在支撑组件顶端上的定位杆、以及设置在支撑组件上并驱动两根定位杆对竖直方向放置掩膜版本体进行固定的定位组件，两根定位杆相邻侧面且靠近清洁机构一侧位置开设有排气槽；清洁机构包括设置在支撑组件一侧的底座、通过调节组件设置在底座上的CCD镜头、以及气针，气针一端连接输送氮气的输送管；本技术可以便捷的对掩膜版表面灰尘进行清理，避免了人工清理出现的二次清理问题，提高了掩膜版表面的清理效率。技术研发人员：王亚腾,彭伟受保护的技术使用者：合肥清溢光电有限公司技术研发日：20231025技术公布日：2024/5/29