光纤对准监测工具和相关联的光纤对准方法与流程

本发明涉及例如可以用于通过光刻技术制造器件的方法和设备，并且涉及使用光刻技术制造器件的方法。本发明尤其涉及一种用于量测传感器的光纤对准监测工具，并且进一步更特别地，涉及用于这样的量测传感器的照射布置。

背景技术：

1、光刻设备是将期望的图案施加在衬底上(通常施加在衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(ic)的制造中。在那种情况下，图案形成装置(其替代地称为掩模或掩模版)可以用于产生待形成在ic的单层上的电路图案。这种图案可以转印至衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的部分、一个管芯或若干管芯)上。通常经由成像至设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行图案的转印。通常，单个衬底将包括连续地图案化的相邻目标部分的网络。这些目标部分通常称为“场”。

2、在复杂器件的制造中，通常执行许多光刻图案化步骤，由此在衬底上的连续层中形成功能性特征。因此，光刻设备的性能的关键方面能够相对于(通过相同设备或不同光刻设备)置于先前层中的特征正确且准确地放置所施加的图案。为了这种目的，所述衬底具有一组或更多组对准标记。每个标记为可以稍后使用位置传感器(通常是光学位置传感器)测量其位置的结构。光刻设备包括一个或更多个对准传感器，可以通过所述传感器准确地测量衬底上的标记的位置。不同类型的标记和不同类型的对准传感器已知来自不同制造商和同一制造商的不同产品。

3、在其它应用中，量测传感器用于测量衬底上的被曝光的结构(在抗蚀剂中和/或在蚀刻之后)。快速且非侵入性形式的专用检查工具为散射仪，在所述散射仪中，将辐射束引导至衬底的表面上的目标上，并且测量散射束或反射束的性质。已知散射仪的示例包括us2006033921a1和us2010201963a1中描述的类型的角分辨散射仪。除了通过重构进行特征形状的测量以外，也可以使用这样的设备来测量基于衍射的重叠，如公开专利申请us2006066855a1中所描述的。使用衍射阶的暗场成像的基于衍射的重叠量测使得能够对较小目标进行重叠量测。可以在国际专利申请wo 2009/078708和wo 2009/106279中找到暗场成像量测的示例，所述申请的文件由此以全文引用的方式并入。出版的专利公开文件us20110027704a、us20110043791a、us2011102753a1、us20120044470a、us20120123581a、us20130258310a、us20130271740a和wo2013178422a1中已经描述所述技术的进一步开发。这些目标可以小于照射斑且可以由晶片上的产品结构围绕。可以使用复合光栅目标在一个图像中测量多个光栅。所有这些申请的内容也以引用的方式并入本文中。

4、在一些量测应用中，诸如在一些散射仪或对准传感器中，确保耦合至光纤中以用于输送至量测工具的测量辐射正确地对准是重要的。这可以在光纤耦合阶段中实现，在光纤耦合阶段中，针对至光纤中的最大化的激光功率的传输调整光纤耦合工具。这样的光纤耦合调整可以使用光纤对准监测工具或电学文氏管工具。将期望改善这样的光纤对准监测工具和光纤耦合方法。

技术实现思路

1、本发明在第一方面中提供一种用于监测由源模块产生的束相对于光纤的束对准的光纤对准监测工具，所述光纤对准监测工具包括：耦合装置，所述耦合装置用于将所述光纤对准监测工具耦合至所述源模块的束调整工具；和束对准传感器，所述束对准传感器能够操作以感测束对准且提供指示束对准状态的束对准信号，所述束对准状态描述所述束的位置状态和/或角度状态。

2、也公开一种将由源模块产生的束相对于光纤对准的方法，所述方法包括：将光纤对准监测工具附接至所述源模块的束调整工具；以及根据从所述光纤对准监测工具获得的束对准状态使用所述束调整工具对准所述束，所述束对准状态描述所述束的位置和/或角度。

3、将根据对下文所描述的示例的考虑理解本发明的以上和其它方面。

技术特征：

1.一种用于监测由源模块产生的束相对于光纤的束对准的光纤对准监测工具，所述光纤对准监测工具包括：

2.根据权利要求1所述的光纤对准监测工具，其中，所述束对准传感器能够操作以使得束对准信号在所述束对准的调整期间实时指示所述束对准状态。

3.根据权利要求1或2所述的光纤对准监测工具，包括用于向用户显示所述束对准状态的显示器。

4.根据权利要求3所述的光纤对准监测工具，其中，所述显示器能够操作以显示所述束对准的一个或更多个目标值的视觉表示，以及显示关于一个或更多个目标值的所述视觉表示的所述束对准状态。

5.根据任一前述权利要求所述的光纤对准监测工具，其中，所述显示器能够操作以在对应的位移栅格上显示每个所述位置和/或角度。

6.根据任一前述权利要求所述的光纤对准监测工具，其中，所述束对准状态包括束位置状态和束角度状态。

7.根据任一前述权利要求所述的光纤对准监测工具，其中，所述源模块包括用于为量测装置提供测量辐射的测量辐射源模块。

8.根据任一前述权利要求所述的光纤对准监测工具，包括能够操作以接收所述束对准信号且将所述束对准状态提供至使用者的处理器。

9.根据权利要求8所述的光纤对准监测工具，其中，所述处理器能够操作以产生传送至在所述处理器的控制下的调整致动器的致动信号，使得所述处理器致动对所述束对准的调整以便自动地对准所述束。

10.根据任一前述权利要求所述的光纤对准监测工具，其中，所述耦合装置被配置成在束调整阶段期间耦合至代替所述光纤的所述光纤对准监测工具。

11.根据任一前述权利要求所述的光纤对准监测工具，包括用于将所述束引导至所述束对准传感器中的反射镜。

12.根据任一前述权利要求所述的光纤对准监测工具，包括用于至少部分地容纳所述光纤耦合装置和束对准传感器的壳体。

13.一种将由源模块产生的束相对于光纤对准的方法，所述方法包括：

14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述光纤对准监测工具包括根据权利要求1至12中任一项所述的光纤对准监测工具。

15.根据权利要求13或14所述的方法，其中，所述束对准状态包括束位置状态和束角度状态。

16.根据权利要求13、14或15所述的方法，包括在对准所述束的所述步骤中参考所述束对准状态的视觉表示。

17.根据权利要求13至16中任一项所述的方法，其中，所述源模块包括测量辐射源模块，所述测量辐射源模块用于为量测装置提供测量辐射，使得所述束包括测量辐射束。

18.根据权利要求17所述的方法，其中，所述量测装置为光刻设备内的对准传感器，并且所述光纤包括用于将所述测量辐射输送至所述对准传感器的光纤。

技术总结公开了一种用于监测由源模块产生的束相对于光纤的束对准的光纤对准监测工具。所述光纤对准监测工具包括：耦合装置，所述耦合装置用于将所述光纤对准监测工具耦合至所述源模块的束调整工具；和束对准传感器，所述束对准传感器能够操作以感测束对准且提供指示束对准状态的束对准信号，所述束对准状态描述所述束的位置状态和/或角度状态。技术研发人员：金赫,姜珉受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/2