应用于掩膜版制造的图形非线性补偿方法、设备和介质与流程

本发明涉及掩膜图纸处理，具体涉及一种应用于掩膜版制造的图形非线性补偿方法、设备和介质。

背景技术：

1、掩膜版(photomask)，又称光罩、铬版、photo mask等，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的重要载体。在光刻过程中，掩膜版是设计图形的载体。通过光刻，将掩膜版上的设计图形转移到光刻胶上，再经过刻蚀，将图形刻到衬底上，从而实现图形到硅片的转移。掩膜版是光刻过程中的重要部件，其承载着图形数据的正确性、完整性，直接决定着下游产业产品的良品率，有着至关重要的影响。

2、随着显示产业对于屏幕高清画要求不断提升，以及ic行业电路精细度要求越来越高，随之而变的像素点设计和集成电路设计也越发精细，对于掩膜版加工厂商来说像素点越小集成的像素点越多，线路更精细也意味着设计图纸的数据量就会越大，而掩膜加工过程当中，大数据量的图纸在处理的同时还需要配合客户对数据进行各种要求的图形补正，各种复杂的补正要求还需要结合客户产品的特性进行计算各个影响因素下的形变补偿值，掩膜版数据在处理过程受到客户的应用场景以及功能变化，在进行数据处理时，依据图形位置模拟计算出来的偏差值，反向补偿到掩膜版的数据上，最终通过制作出来的掩膜版曝光到客户端产品上，使图形位置达到预期的理想位置。在整个数据图形补偿演算过程中，通过传统的逐个点对点位的补偿方法已经无法满足目前超大数据量处理要求，因此我们需要发明更适合大数据图形补偿，更便利更准确的方法。且掩膜版属于定制型产品，客户图纸和所需要的数据补偿都会根据各自的产品不同而发生变化。以fmm(精细金属掩膜版)数据为例，因其使用的材料和工艺特性，在制造过程中会出现因其材料变形导致原本的像素点点位出现变化，因此在制作之前需要将其因工艺、材料等因素导致的变化补偿在数据当中，补偿数据由多种线性和非线性补偿组成，一块fmm的开口图形数量很多(几百万到几千万个不等)、且每一个开口的补偿值都不一样，因此人员在图档处理过程中工作量巨大且难以保证数据准确性、及时性。

技术实现思路

1、本发明所要解决的技术问题是在图档处理过程中工作量巨大且难以保证数据准确性，目的在于提供一种应用于掩膜版制造的图形非线性补偿方法、设备和介质，通过获取目标补充掩膜图纸，获取掩膜图纸中的开口图形，对图纸的补偿区域进行网格划分，额度四个点位组围合的矩形区域，先通过补偿需求获取每个网格中四个点位的补偿值，再根据四个点位的补偿值对该网格所在的开口图形中进行补偿，并根据图形名称对补偿后的开口图形进行排列，得到补充后的掩膜图形，能够提高掩膜图纸处理的准确效率和品质，提高掩膜版生产效率。

2、本发明通过下述技术方案实现：

3、本发明第一方面提供一种应用于掩膜版制造的图形非线性补偿方法，包括以下具体步骤：

4、获取目标补充掩膜图纸，获取掩膜图纸中的开口图形，构建坐标；

5、对图纸的补偿区域进行网格划分，每个网格为由四个点位组围合的矩形区域；

6、根据补偿需求获取每个网格中四个点位的补偿值，根据四个点位的补偿值对该网格所在的开口图形中进行补偿；

7、根据图形名称对补偿后的开口图形进行排列，得到补充后的掩膜图形。

8、本发明中针对非线性补偿，由于补偿类型复杂且数据量巨大，使用常规的处理方法，人员在图档处理过程中工作量巨大且难以保证数据准确性，通过获取目标补充掩膜图纸，获取掩膜图纸中的开口图形，对图纸的补偿区域进行网格划分，额度四个点位组围合的矩形区域，先通过补偿需求获取每个网格中四个点位的补偿值，再根据四个点位的补偿值对该网格所在的开口图形中进行补偿，并根据图形名称对补偿后的开口图形进行排列，得到补充后的掩膜图形，能够提高掩膜图纸处理的准确效率和品质，提高掩膜版生产效率，可优化掩膜版的图纸设计流程，降低人工处理过程中产生的失误，提高掩膜版图纸设计效率和品质，缩短掩膜版生产周期，从而进一步提升国产化替代的交付周期优势。

9、进一步的，所述根据补偿需求进行坐标点位补偿，具体包括：

10、获取每个网格中四个点位；

11、根据补偿需求获取四个点位中每个点位的补偿值。

12、进一步的，所述根据四个点位的补偿值对该网格所在的开口图形进行补偿，具体包括：

13、根据四个点位的坐标和四个点位在x方向和y方向上的补偿值；

14、根据坐标围合成矩形的连线，得到每个网格的x方向补偿值和y方向补偿值；

15、根据每个网格的x方向补偿值和y方向补偿值，确定目标补偿点进行x方向补偿和y方向补偿。

16、进一步的，所述每个网格的x方向补偿值和y方向补偿值的计算步骤具体包括：

17、连线p12的x方向补偿值：ap12＝(b1-b2)/(y1-y2)*(yp12-y2)+b2＝(b1-b2)/(y1-y2)*(yp-y2)+b2；

18、连线p34的x方向补偿值：ap34＝(b3-b4)/(y3-y4)*(yp34-y4)+b4＝(b3-b4)/(y3-y4)*(yp-y4)+b4；

19、连线p13的y方向补偿值：bp13＝(a1-a3)/(x1-x3)*(xp13-x3)+a3＝(a1-a3)/(x1-x3)*(xp-x3)+a3；

20、连线p24的y方向补偿值：bp24＝(a2-a4)/(x2-x4)*(xp24-x4)+a4＝(a2-a4)/(x2-x4)*(xp-x4)+a4；

21、其中，四个点位为p12(xp12，yp12)、p34(xp34，yp34)、p13(xp13，yp13)、p24(xp24，yp24)；xp12＝x1＝x2，xp34＝x3＝x4，yp13＝y1＝y3，yp24＝y2＝y4；a1、a2、a3、a4分别为四个点位x方向补偿值，b1、b2、b3、b4分别为四个点位y方向补偿值。

22、进一步的，所述目标补偿点进行x方向补偿和y方向补偿具体包括：

23、x方向补偿为：ap＝(ap12-ap34)/(xp12-xp34)*(xp-xp34)+ap34＝(((b1-b2)/(y1-y2)*(yp-y2)+b2)-((b3-b4)/(y3-y4)*(yp-y4)+b4))/(x1-x3)*(xp-x3)+((b3-b4)/(y3-y4)*(yp-y4)+b4)；

24、y方向补偿为：bp＝(bp13-bp24)/(yp13-yp24)*(yp-yp24)+bp24＝(((a1-a3)/(x1-x3)*(xp-x3)+a3)-((a2-a4)/(x2-x4)*(xp-x4)+a4))/(y1-y2)*(yp-y2)+((a2-a4)/(x2-x4)*(xp-x4)+a4)。

25、进一步的，所述获取掩膜图纸中的开口图形，构建坐标，具体包括：

26、提取每个开口图形所在版图中的位置坐标和图形名称，输出包含位置坐标和图形名称的txt文本。

27、进一步的，在输出所述图形名称时，还包括获取目标掩膜版图的种类block name，将不同种类的block name对应的开口图形分别输出*.dxf文件。

28、进一步的，在对四个点位补偿后，根据自动生成的cad脚本和*.dxf文件，在cad中将图形重新进行自动排列，输出补偿后的图像。

29、本发明第二方面提供一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述程序时实现一种应用于掩膜版制造的图形非线性补偿方法。

30、本发明第三方面提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现一种应用于掩膜版制造的图形非线性补偿方法。

31、本发明与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：

32、通过获取目标补充掩膜图纸，获取掩膜图纸中的开口图形，对图纸的补偿区域进行网格划分，额度四个点位组围合的矩形区域，先通过补偿需求获取每个网格中四个点位的补偿值，再根据四个点位的补偿值对该网格所在的开口图形中进行补偿，并根据图形名称对补偿后的开口图形进行排列，得到补充后的掩膜图形，能够提高掩膜图纸处理的准确效率和品质，提高掩膜版生产效率，可优化掩膜版的图纸设计流程，降低人工处理过程中产生的失误，提高掩膜版图纸设计效率和品质，缩短掩膜版生产周期，从而进一步提升国产化替代的交付周期优势。