彩膜基板及其制作方法、掩膜版、显示面板及显示装置与流程

本发明涉及显示，尤其涉及彩膜基板及其制作方法、掩膜版、显示面板及显示装置。

背景技术：

1、显示面板一般由彩膜基板及阵列基板贴合而成，并在两者之间填充液晶，通过电场控制液晶偏转，从而实现对透过光的控制调节。

2、黑矩阵(blackmatrix，bm)作为彩膜基板的重要一层，主要起到遮光作用，以及后续对位标记(mark)制作。通常，在彩膜基板中bm间距窗口(gap window)及对齐标记(alignmark)处在同一直线上，bm制作时会同时保留gap window及align mark。但由于gap window处高度高于无bm图案处，导致形成的配向膜异常，使显示面板易产生水平黑线。

3、鉴于此，如何防止显示面板产生水平黑线，成为一个亟待解决的技术问题。

技术实现思路

1、本发明实施例提供彩膜基板及其制作方法、掩膜版、显示面板及显示装置，用以解决现有技术中存在显示面板易产生水平黑线的技术问题。

2、第一方面，为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种彩膜基板，具有色阻区和围绕所述色阻区的周边区，包括：

3、衬底基板；

4、黑矩阵位于所述衬底基板的一侧；所述黑矩阵在所述周边区包括环绕所述色阻区设置的多个第一辅助条和多组对位标记，同一组对位标记位于距所述色阻区最远的第一辅助条远离所述色阻区的一侧，所述多组对位标记位于所述色阻区的不同侧；其中，所述第一辅助条用于稳固所述周边区对应的盒厚；

5、距所述色阻区最远的第一辅助条在靠近对应组对位标记的预设区域内图形连续、且线宽均匀一。

6、一种可能的实施方式，所述彩膜基板还包括：

7、色阻层，位于所述黑矩阵远离所述衬底基板的一侧；所述色阻层在所述色阻区包括多个不同颜色的色阻，所述色阻层在所述周边区包括多个第二辅助条，所述多个第二辅助条位于相邻两个所述第一辅助条之间，所述多个第二辅助条分别与所述多个不同颜色的色阻同层设置。

8、一种可能的实施方式，所述彩膜基板还包括：

9、保护层，位于所述色阻层远离所述衬底基板的一侧；

10、配向膜，位于所述保护膜远离所述衬底基板的一侧；

11、支撑柱，位于所述配向膜远离所述衬底基板的一侧；

12、公共电极层，位于所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧。

13、第二方面，本发明实施例提供了一种掩膜版，具有色阻区和围绕所述色阻区的周边区，包括：

14、所述周边区包括环绕所述色阻区的多个第一辅助条图案、多组对位标记图案及与每组对位标记图案对应的测距窗；同一组对位标记图案及对应的测距窗位于距所述色阻区最远的第一辅助条图案远离所述色阻区的一侧，且沿距所述色阻区最远的第一辅助条图案的延伸方向排列，所述多组对位标记图案位于所述色阻区的不同侧；其中，所述测距窗透光；

15、在所述色阻区指向所述周边区的方向上，所述同一组对位标记图案与对应的测距窗间的距离大于4mm且小于所述同一组对位标记图案与所述掩膜版边缘的最小间距。

16、一种可能的实施方式，所述第一辅助条图案和所述对位标记图案透光，所述掩膜版对应黑矩阵的材料为负光阻材料。

17、第三方面，本发明实施例提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：

18、提供一衬底基板；

19、在所述衬底基板的一侧形成黑矩阵；所述黑矩阵在所述周边区包括环绕所述色阻区设置的多个第一辅助条和多组对位标记，同一组对位标记位于距所述色阻区最远的第一辅助条远离所述色阻区的一侧，所述多组对位标记位于所述色阻区的不同侧；其中，所述第一辅助条用于稳固所述周边区对应的盒厚；距所述色阻区最远的第一辅助条在靠近对应组对位标记的预设区域内图形连续、且线宽均匀一。

20、一种可能的实施方式，在所述衬底基板的一侧形成黑矩阵，包括：

21、在所述衬底基板的一侧涂布负光阻材料；

22、在所述负光阻材料远离所述衬底基板的一侧，设置如第三方面述的掩膜版；

23、在所述掩膜版的测距窗测量所述掩膜版与所述衬底基板间的距离；

24、判断所述距离是否为预设值；若为否调整所述掩膜版相对所述衬底基板的高度，使所述掩膜版与所述衬底基板间的距离为所述预设值；

25、用遮光板遮挡所述测距窗后对所述负光阻材料进行曝光、显影，形成所述黑矩阵。

26、一种可能的实施方式，在所述衬底基板的一侧形成黑矩阵之后，还包括：

27、在所述黑矩阵远离所述衬底基板的一侧，依次形成色阻层、保护层、配向膜、支撑柱；其中，形成的膜层中膜层使用的材料为付负光阻材料时，对应掩膜版中的测距窗使用遮光板遮挡。

28、第四方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：

29、如第一方面所述的彩膜基板；

30、阵列基板，与彩膜基板相对设置；

31、液晶层，位于所述彩膜基板和所述阵列基板之间。

32、第五方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括如第四方面所示的显示面板。

技术特征：

1.一种彩膜基板，具有色阻区和围绕所述色阻区的周边区，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：

3.如权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：

4.一种掩膜版，具有色阻区和围绕所述色阻区的周边区，其特征在于，包括：

5.如权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述第一辅助条图案和所述对位标记图案透光，所述掩膜版对应黑矩阵的材料为负光阻材料。

6.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：

7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，在所述衬底基板的一侧形成黑矩阵，包括：

8.如权利要求6或7所述的制作方法，其特征在于，在所述衬底基板的一侧形成黑矩阵之后，还包括：

9.一种显示面板，其特征在于，包括：

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的显示面板。

技术总结本发明公开了彩膜基板及其制作方法、掩膜版、显示面板及显示装置，该彩膜基板具有色阻区和围绕所述色阻区的周边区，彩膜基板包括：衬底基板；黑矩阵位于所述衬底基板的一侧；所述黑矩阵在所述周边区包括环绕所述色阻区设置的多个第一辅助条和多组对位标记，同一组对位标记位于距所述色阻区最远的第一辅助条远离所述色阻区的一侧，所述多组对位标记位于所述色阻区的不同侧；其中，所述第一辅助条用于稳固所述周边区对应的盒厚；距所述色阻区最远的第一辅助条在靠近对应组对位标记的预设区域内图形连续、且线宽均匀一。技术研发人员：施申伟,唐文浩,陈建,钟国强,刘震一,曾小强,孙志伟,丰兴坤,张然受保护的技术使用者：合肥鑫晟光电科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/5