载台装置、光刻装置和物品制造方法与流程

本发明涉及一种载台装置、光刻装置和物品制造方法。

背景技术：

1、作为制造半导体元件、平板显示器等电子器件的光刻装置，有通过扫描载台而对搭载于载台的基板照射狭缝光，将掩模的图案转印到基板上的投影曝光装置。在该曝光装置中，为了在曝光结束后从载台搬出基板并搭载新的基板，需要在载台与基板搬送装置之间进行基板的交接。

2、在基板交接过程中切断了载台的控制的情况下，由于载台的非计划的动作而使基板搬送装置或其它的构造物发生干涉，从而曝光装置有可能破损。因此，存在具备在切断了载台的控制时用于保持载台的制动部的装置(例如，专利文献1)。

3、在先技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本专利第5824274号公报

技术实现思路

1、发明要解决的课题

2、但是，由于现有的载台保持机构将缸体等按压在载台上并通过摩擦力固定，因此，有可能产生灰尘。

3、本发明提供一种对于载台装置异常时载台的保持有利于减少产生灰尘的技术。

4、用于解决课题的方案

5、根据本发明的第一技术方案，提供一种载台装置，其特征在于，所述载台装置具备：平台；基板载台，保持基板，并在所述平台之上的第一区域和第二区域之间移动；制动部，在所述基板载台位于所述第二区域时，利用磁力以非接触的方式限制所述基板载台的移动；以及调整部，调整所述制动部对所述基板载台的保持力。

6、根据本发明的第二技术方案，提供一种光刻装置，用于在基板上形成原版的图案，其特征在于，所述光刻装置具备保持所述基板的上述第一技术方案所涉及的载台装置。

7、根据本发明的第三技术方案，提供一种物品制造方法，其特征在于，所述物品制造方法具有：形成工序，使用上述第二技术方案所涉及的光刻装置在基板上形成图案；以及加工工序，对形成有所述图案的所述基板进行加工，由在所述加工工序中加工了的所述基板制造物品。

8、发明的效果

9、根据本发明，能够提供一种对于载台装置异常时载台的保持有利于减少产生灰尘的技术。

技术特征：

1.一种载台装置，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的载台装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的载台装置，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的载台装置，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的载台装置，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的载台装置，其特征在于，

7.根据权利要求5所述的载台装置，其特征在于，

8.根据权利要求1所述的载台装置，其特征在于，

9.根据权利要求8所述的载台装置，其特征在于，

10.根据权利要求9所述的载台装置，其特征在于，

11.根据权利要求9所述的载台装置，其特征在于，

12.根据权利要求1所述的载台装置，其特征在于，

13.根据权利要求1所述的载台装置，其特征在于，

14.根据权利要求7所述的载台装置，其特征在于，

15.一种光刻装置，用于在基板上形成原版的图案，其特征在于，

16.一种物品制造方法，其特征在于，

技术总结本发明提供对于载台装置的异常时的载台的保持有利于减少产生灰尘的载台装置、光刻装置和物品制造方法。载台装置具备：平台；基板载台，保持基板，并在所述平台之上的第一区域和第二区域之间移动；制动部，在所述基板载台位于所述第二区域时，利用磁力以非接触的方式限制所述基板载台的移动；以及调整部，调整所述制动部对所述基板载台的保持力。技术研发人员：三浦孝夫受保护的技术使用者：佳能株式会社技术研发日：技术公布日：2024/6/5