一种目标光栅生成系统的制作方法

本发明涉及光学，特别是涉及一种目标光栅生成系统。

背景技术：

1、光栅是由大量等宽等间距的平行狭缝构成的表面周期性结构，可以通过电子束光刻、聚焦离子束光刻以及各类掩模刻蚀方案等方法制备生成，并广泛应用于各种领域。

2、随着激光技术的快速发展，通过激光诱导的方法可以利用激光与基板相互作用，进而在基板表面形成光栅结构，但是由于不同领域中对光栅中空间结构的间距大小和间距精度等参数要求不同，需要基于应用需求制备出符合要求的光栅。

3、因此，如何提高光栅的生成效率和准确性成为亟待解决的问题。

技术实现思路

1、针对上述技术问题，本发明采用的技术方案为一种目标光栅生成系统，该目标光栅生成系统包括目标光源、初始光反射模块、基板、处理器和存储有计算机程序的存储器，当计算机程序被处理器执行时，实现以下步骤：

2、s1，根据目标光源中输出的初始光束集合，获取到初始光反射模块的目标倾斜角度集合。

3、s2，根据目标倾斜角度集合设置初始光反射模块，获取到第一目标光反射模块。

4、s3，根据目标光源中输出的初始光束集合和第一目标光反射模块，获取到初始光束集合对应的第一干涉区域。

5、s4，根据第一干涉区域放置基板，生成第一目标光栅。

6、本发明与现有技术相比具有明显的有益效果，借由上述技术方案，本发明提供的目标光栅生成系统可达到相当的技术进步性及实用性，并具有产业上的广泛利用价值，其至少具有以下有益效果：根据目标光源中输出的初始光束集合，获取到初始光反射模块的目标倾斜角度集合，根据目标倾斜角度集合设置初始光反射模块，获取到第一目标光反射模块，根据目标光源中输出的初始光束集合和第一目标光反射模块，获取到初始光束集合对应的第一干涉区域，根据第一干涉区域放置基板，生成第一目标光栅，通过控制初始光反射模块对应的倾斜角度，获取了满足预设的应用要求的第一干涉区域以及第一目标光束，进而获取了满足预设的应用要求的第一目标光栅，提高了光栅的生成准确性和效率。

技术特征：

1.一种目标光栅生成系统，其特征在于，所述目标光栅生成系统包括目标光源、初始光反射模块、基板、处理器和存储有计算机程序的存储器，当所述计算机程序被处理器执行时，实现以下步骤：

2.根据权利要求1所述的目标光栅生成系统，其特征在于，所述初始光反射模块包括第一个初始光反射元件、第二个初始光反射元件、……、第г个初始光反射元件，其中，г是指所述初始光反射模块中初始光反射元件的总数量。

3.根据权利要求2所述的目标光栅生成系统，其特征在于，所述目标倾斜角度集合包括所述第一个初始光反射元件对应的第一个目标倾斜角度、所述第二个初始光反射元件对应的第二个目标倾斜角度、……、所述第г个初始光反射元件对应的第г个目标倾斜角度。

4.根据权利要求3所述的目标光栅生成系统，其特征在于，所述第一目标光反射模块包括第一个目标光反射元件、第二个目标光反射元件、……、第г个目标光反射元件。

5.根据权利要求1所述的目标光栅生成系统，其特征在于，所述目标光栅生成系统还包括预设的仿真器，所述预设的仿真器中包括目标仿真光源和仿真光反射模块，所述仿真光反射模块包括第一个仿真光反射元件、第二个仿真光反射元件、……、第г个仿真光反射元件，s1还包括如下步骤：

6.根据权利要求5所述的目标光栅生成系统，其特征在于，s16具体包括如下步骤：

7.根据权利要求6所述的目标光栅生成系统，其特征在于，s162具体包括如下步骤：

8.根据权利要求5所述的目标光栅生成系统，其特征在于，所述存储器中还存储有所述初始光反射模块对应的透射比例，所述预设光束属性包括光功率；

9.根据权利要求8所述的目标光栅生成系统，其特征在于，所述存储器中还存储有所述初始光束集合的初始入射角度集合和初始入射位置集合，s3还包括如下步骤：

10.根据权利要求9所述的目标光栅生成系统，其特征在于，s4还包括如下步骤：

技术总结本发明涉及光学技术领域，尤其涉及一种目标光栅生成系统，目标光栅生成系统包括目标光源、初始光反射模块、基板、处理器和存储有计算机程序的存储器，当计算机程序被处理器执行时实现以下步骤：根据目标光源输出的初始光束集合获取到初始光反射模块的目标倾斜角度集合，根据目标倾斜角度集合设置初始光反射模块，获取到第一目标光反射模块，根据目标光源和第一目标光反射模块获取到初始光束集合对应的第一干涉区域，根据第一干涉区域放置基板生成第一目标光栅，通过控制初始光反射模块的倾斜角度集合，获取了满足预设的应用要求的第一干涉区域和第一目标光束，进而获取了满足预设的应用要求的第一目标光栅，提高了目标光栅的生成准确性和效率。技术研发人员：李利军,张磊,付小虎,潘伟巍,侯立博受保护的技术使用者：上海频准激光科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/11