全息掩模成像数据及全息掩模透射率的确定方法与流程

本发明涉及集成电路制造，具体涉及一种全息掩模成像数据及全息掩模透射率的确定方法。

背景技术：

1、全息光刻是利用光的衍射成像原理，在硅片上对集成电路图形的振幅和相位信息进行重建以得到所需的集成电路图形。理论上，在硅片上所呈现的集成电路图形的像应与实际所需的集成电路图形完全一致，但是，受掩模面积的大小、光源、孪生像、采样间隔等因素的影响，难以一次确定出全息掩模成像数据，还需要进行不断地迭代优化，因此全息掩模的成像效率至关重要。

技术实现思路

1、有鉴于此，本发明实施例提供了一种全息掩模成像数据及全息掩模透射率的确定方法，以解决难以快速确定全息掩模成像数据的问题。

2、根据第一方面，本发明实施例提供了一种全息掩模成像数据的确定方法，包括：获取针对于全息掩模的重建光数据、透射率；基于所述重建光数据与所述透射率生成第一光波场数据；按照预设采样间隔分别对所述第一光波场数据和预设的第一衍射传递数据进行采样处理，得到对应于所述第一光波场数据的第一光波场离散数据，以及对应于所述第一衍射传递数据的第一目标衍射传递数据；基于以第一矩阵表征的第一光波场离散数据以及以第二矩阵表征的第一目标衍射传递数据之间的卷积结果，确定全息掩模成像数据。

3、本发明实施例提供的全息掩模成像数据的确定方法，通过同样的采样间隔对光波场数据和第一衍射传递数据进行采样处理，以得到第二光波场离散数据和第一目标衍射传递数据，继而通过第一矩阵表征第二光波场离散数据，并通过第二矩阵表征第一目标衍射传递数据，以实现光波分布数据与第一目标衍射传递数据的卷积，生成全息掩模成像数据。借助分段卷积的思想，保证光波场离散数据与目标衍射传递数据的阶数匹配，并在保证计算精度的前提下，提高了全息掩模成像数据的确定效率。

4、结合第一方面，在第一方面的第一实施方式中，所述基于以第一矩阵表征的第一光波场离散数据以及以第二矩阵表征的第一目标衍射传递数据之间的卷积结果，确定全息掩模成像数据，包括：获取所述第一矩阵表征的第一光波场离散数据的第一阶数；按照所述第一阶数对所述第二矩阵表征的第一目标衍射传递数据进行划分，得到多个衍射传递子矩阵，所述第二矩阵的第二阶数大于所述第一阶数；将所述第一矩阵表征的第一光波场离散数据以及多个所述衍射传递子矩阵扩充至目标阶数，得到所述目标阶数的目标光波场矩阵以及多个目标衍射传递矩阵；对所述目标光波场矩阵和多个所述第一目标衍射传递矩阵进行卷积处理，得到所述全息掩模成像数据。

5、本发明实施例提供的全息掩模成像数据的确定方法，通过将第一矩阵和衍射传递子矩阵扩充至目标阶数，以对相同阶数的目标光波场矩阵和第一目标衍射传递矩阵进行卷积，由此避免了目标光波场矩阵和第二矩阵的阶数不匹配的问题，并且计算过程对内存要求大大降低。通过相同阶数的目标光波场矩阵与各个第一目标衍射传递矩阵进行卷积处理，实现了目标光波场矩阵和目标衍射传递矩阵的分段卷积，并能够结合快速傅里叶变换以优化针对于全息掩模成像数据的计算复杂度，提高了全息掩模成像数据的确定效率。

6、结合第一方面第一实施方式，在第一方面的第二实施方式中，将所述第一矩阵表征的第一光波场离散数据扩充至目标阶数，得到所述目标阶数的目标光波场矩阵，包括：基于所述目标阶数与所述第一阶数，确定所述第一矩阵的第一扩充阶数；对所述第一扩充阶数对应的元素位置进行补零处理，得到多个零元素；按照预设拼接规则将多个所述零元素拼接至所述第一矩阵，得到所述目标光波场矩阵，其中，拼接后得到的所述目标光波场矩阵具有所述目标阶数。

7、结合第一方面第二实施方式，在第一方面的第三实施方式中，将所述第一衍射传递子矩阵扩充至目标阶数，得到所述目标阶数的第一目标衍射传递矩阵，包括：基于所述目标阶数与所述第一阶数，确定所述第一衍射传递子矩阵的第二扩充阶数；从所述第二矩阵中提取出对应于所述第二扩充阶数的目标元素；按照所述预设拼接规则将所述目标元素拼接至所述第一衍射传递子矩阵，生成所述第一目标衍射传递矩阵，其中，拼接后得到的所述第一目标衍射传递子矩阵具有所述目标阶数。

8、本发明实施例提供的全息掩模成像数据的确定方法，对第一矩阵进行补零处理以得到目标阶数的目标光波场矩阵，以将循环卷积化为线性卷积，按照第二矩阵中的目标元素对第一衍射传递子矩阵的扩充阶数进行扩充，以实现后续的分段卷积处理，由于无需按照第二矩阵的阶数将第一矩阵进行补零处理，第二矩阵分块后能够对各个卷积采取并行手段，进一步缩短了计算时间。

9、结合第一方面第一实施方式至第三实施方式中的任一实施方式，在第一方面的第四实施方式中，所述对所述目标光波场矩阵和多个所述第一目标衍射传递矩阵进行卷积处理，得到所述全息掩模成像数据，包括：对所述目标光波场矩阵进行快速傅里叶变换，得到第一变换矩阵；对各个所述第一目标衍射传递矩阵进行快速傅里叶变换，得到多个第二变换矩阵；将所述第一变换矩阵依次与各个所述第二变换矩阵的对应元素相乘，得到多个频域矩阵；对各个所述频域矩阵进行快速傅里叶逆变换，得到多个第三变换矩阵；从各个所述第三变换矩阵中提取出对应于所述第一矩阵的矩阵元素；拼接所述矩阵元素，得到所述全息掩模成像数据。

10、本发明实施例提供的全息掩模成像数据的确定方法，结合卷积定理及快速傅里叶变换手段确定全息掩模成像数据，大大降低了全息掩模成像数据的计算复杂度。

11、根据第二方面，本发明实施例提供了一种全息掩模透射率的确定方法，包括：获取集成电路拓扑数据、照射光数据以及参考光数据；基于所述集成电路拓扑数据以及所述照射光数据生成第二光波场数据；按照预设采样间隔对所述第二光波场数据和预设的第二衍射传递数据进行采样处理，得到对应于所述第二光波场数据的第二光波场离散数据，以及对应于所述第二衍射传递数据的第二目标衍射传递数据；确定以第三矩阵表征的第二光波场离散数据以及以第四矩阵表征的第二目标衍射传递数据之间的卷积结果；基于所述卷积结果与所述参考光数据，确定全息掩模透射率。

12、结合第二方面，在第二方面的第一实施方式中，所述基于所述卷积结果与所述参考光数据，确定全息掩模的透射率，包括：将所述卷积结果与所述参考光数据进行相干叠加，得到光强叠加数据；将所述光强叠加数据归一化后确定为所述全息掩模透射率。

13、本发明实施例提供的全息掩模透射率的确定方法，通过分段卷积处理确定全息掩模的透射率，能够结合快速傅里叶变换技术降低透射率的计算复杂度，继而根据全息掩模的透射率数据进一步确定全息掩模成像数据，从而节省了全息掩模成像数据的确定时间，提升了全息掩模成像数据的确定效率。

14、根据第三方面，本发明实施例提供了一种全息掩模成像数据的确定装置，包括：第一获取模块，用于获取针对于全息掩模的重建光数据、透射率；第一生成模块，用于基于所述重建光数据与所述透射率生成第一光波场数据；第一采样模块，用于按照预设采样间隔分别对所述第一光波场数据和预设的第一衍射传递数据进行采样处理，得到对应于所述第一光波场数据的光波分布数据，以及对应于所述第一衍射传递数据的目标衍射传递数据；第一卷积模块，用于基于以第一矩阵表征的光波分布数据以及以第二矩阵表征的目标衍射传递数据之间的卷积结果，确定全息掩模成像数据。

15、根据第四方面，本发明实施例提供了一种全息掩模透射率的确定装置，其特征在于，包括：第二获取模块，用于获取集成电路拓扑数据、照射光数据以及参考光数据；第二生成模块，用于基于所述集成电路拓扑数据以及所述照射光数据生成第二光波场数据；第二采样模块，用于按照预设采样间隔对所述第二光波场数据和预设的第二衍射传递数据进行采样处理，得到对应于所述第二光波场数据的第二光波场离散数据，以及对应于所述第二衍射传递数据的第二目标衍射传递数据；第二卷积模块，用于确定以第三矩阵表征的第二光波场离散数据以及以第四矩阵表征的第二目标衍射传递数据之间的卷积结果；透射率确定模块，用于基于所述卷积结果与所述参考光数据，确定全息掩模的透射率。

16、根据第五方面，本发明实施例提供了一种电子设备，包括：存储器和处理器，所述存储器和所述处理器之间互相通信连接，所述存储器中存储有计算机指令，所述处理器通过执行所述计算机指令，从而执行第一方面或第一方面任一实施方式所述的全息掩模成像数据的确定方法，或执行第二方面或第二方面第一实施方式所述的全息掩模透射率的确定方法。

17、根据第六方面，本发明实施例提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机指令，所述计算机指令用于使计算机执行第一方面或第一方面任一实施方式所述的全息掩模成像数据的确定方法，或执行第二方面或第二方面第一实施方式所述的全息掩模透射率的确定方法。

18、需要说明的是，本发明实施例提供的全息掩模成像数据的确定装置、全息掩模透射率的确定装置、电子设备以及计算机可读存储介质的相应有益效果，请参见全息掩模成像数据的确定方法以及全息掩模透射率的确定方法中相应内容的描述，在此不再赘述。