集成电路图形的光波场确定方法、装置、设备及存储介质与流程

本发明涉及集成电路制造，具体涉及一种集成电路图形的光波场确定方法、装置、设备及存储介质。

背景技术：

1、光刻工艺是现代极大规模集成电路制造过程中最重要的制造工艺，即通过光刻机将掩模上集成电路的设计图形转移到硅片上的重要手段。随着特征尺寸逐渐缩小，可用于制造的工艺窗口越来越小，整个光刻工艺过程都需要做到精准控制，对光刻过程各部分硬件、软件都提出了更严峻的挑战。

2、与传统投影式光刻技术相比，全息光刻具有照明系统结构简单、无需投影物镜、全息掩模容错率高、易于保存等优点。因此，全息光刻受到越来越多的关注。实际上，全息光刻中所使用光源的光波长甚小，为了精确捕捉相位信息，集成电路所处物平面与像平面之间的采样间隔需要足够小。但是对于像平面的任意点而言，要确定其衍射光波场，需要遍历物平面上的所有采样点，这就使得衍射过程中的光波场确定复杂度呈指数形增长，从而导致全息掩模生成及成像时间较长。在超大规模集成电路制造领域，像平面上的光波场确定将会变得极其困难，严重影响了全息掩模的生成及成像效率。

技术实现思路

1、有鉴于此，本发明实施例提供了一种集成电路图形的光波场确定方法、装置、设备及存储介质，以解决全息光刻过程中光波场确定效率较低的问题。

2、根据第一方面，本发明实施例提供了一种集成电路图形的光波场确定方法，包括：获取预构建的集成电路图形所对应的版图多边形；对所述版图多边形进行划分，得到多个目标矩形；基于各个所述目标矩形的位置信息，确定各个所述目标矩形在像平面上生成的光波场；对多个所述光波场进行叠加，生成所述集成电路图形的目标光波场。

3、本发明实施例提供的集成电路图形的光波场确定方法，通过将集成电路图形对应的版图多边形划分为多个目标矩形，以针对每个目标矩形进行像平面的光波场生成，继而将多个光波场进行叠加即可。该方法以目标矩形作为单位进行光波场的确定，无需对物平面上的所有采样点进行遍历，而划分版图多边形所得到的目标矩形的数量远小于物平面的采样点数量，由此大大降低了衍射过程中的光波场计算复杂度，减少了光波场的确定时间，从而提高了光波场的确定效率。

4、结合第一方面，在第一方面的第一实施方式中，所述对所述版图多边形进行划分，得到多个目标矩形，包括：获取矩形划分规则；基于所述矩形划分规则将所述版图多边形划分为多个目标矩形。

5、本发明实施例提供的集成电路图形的光波场确定方法，通过设定矩形划分规则，以便根据矩形划分规则进行版图多边形的划分，由此便于根据实际场景分割版图多边形，提高了版图多边形的分割灵活度。

6、结合第一方面，在第一方面的第二实施方式中，基于各个所述目标矩形的位置信息，确定各个所述目标矩形在像平面上生成的光波场，包括：获取第i个目标矩形的顶点位置；基于所述顶点位置，确定所述第i个目标矩形的水平长度、垂直长度以及中心位置；基于所述水平长度、所述垂直长度以及所述中心位置，确定所述第i个目标矩形在像平面生成的光波场；其中，i为大于0的正整数。

7、结合第一方面第二实施方式，在第一方面的第三实施方式中，所述基于所述顶点位置，确定所述第i个目标矩形的水平长度、垂直长度以及中心位置，包括：获取所述第i个目标矩形的左下顶点对应的第一坐标，以及右上顶点对应的第二坐标；基于所述第一坐标和所述第二坐标，确定出所述水平长度、所述垂直长度以及所述中心位置。

8、结合第一方面第二实施方式，在第一方面的第四实施方式中，所述基于所述水平长度、所述垂直长度以及所述中心位置，确定所述第i个目标矩形在像平面生成的光波场，包括：

9、

10、其中，i为目标矩形索引；ei(x，y)为第i个目标矩形在像平面生成的光波场；xi为中心点横坐标，yi为中心点横坐标；li为水平长度；wi为垂直长度；j为虚数单位；k为波数，k＝2π/λ，λ为波长；d为集成电路图形所处物平面到像平面的距离。

11、本发明实施例提供的集成电路图形的光波场确定方法，通过确定各个目标矩形的顶点位置以确定出水平长度、垂直长度以及中心位置，继而根据水平长度、垂直长度以及中心位置确定相应的光波场。而矩形的水平长度、垂直长度以及中心位置较为简单，由此，大大降低了光波场的计算复杂度。

12、结合第一方面，在第一方面的第五实施方式中，所述获取预构建的集成电路图形所对应的版图多边形，包括：响应于对集成电路图形的版图文件的操作，基于所述操作获取所述集成电路图形的版图文件；解析所述版图文件，确定所述集成电路图形对应的版图多边形。

13、本发明实施例提供的集成电路图形的光波场确定方法，支持集成电路图形的上传，便于根据实际使用场景选择相应的版图文件，使得版图文件的上传更加灵活，从而能够针对性的处理版图文件。

14、结合第一方面，在第一方面的第六实施方式中，所述方法还包括：根据所述目标光波场确定光强分布；基于所述光强分布生成所述集成电路图形的衍射图像。

15、本发明实施例提供的集成电路图形的光波场确定方法，通过目标光波场确定像平面上的光强分布，基于该光强分布得到相应的衍射图像，在目标光波场的生成效率较高的基础上，保证了衍射图像的生成效率。

16、根据第二方面，本发明实施例提供了一种集成电路图形的光波场确定装置，包括：获取模块，用于获取预构建的集成电路图形所对应的版图多边形；划分模块，用于对所述版图多边形进行划分，得到多个目标矩形；确定模块，用于基于各个所述目标矩形的位置信息，确定各个所述目标矩形在像平面上生成的光波场；生成模块，用于对所述多个光波场进行叠加，生成所述集成电路图形的目标光波场。

17、根据第三方面，本发明实施例提供了一种电子设备，包括：存储器和处理器，所述存储器和所述处理器之间互相通信连接，所述存储器中存储有计算机指令，所述处理器通过执行所述计算机指令，从而执行第一方面或第一方面任一实施方式所述的集成电路图形的光波场确定方法。

18、根据第四方面，本发明实施例提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机指令，所述计算机指令用于使计算机执行第一方面或第一方面任一实施方式所述的集成电路图形的光波场确定方法。

19、需要说明的是，本发明实施例提供的集成电路图形的光波场确定装置、电子设备以及计算机可读存储介质的相应有益效果，请参见集成电路图形的光波场确定方法中相应内容的描述，在此不再赘述。

技术特征：

1.一种集成电路图形的光波场确定方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述版图多边形进行划分，得到多个目标矩形，包括：

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于各个所述目标矩形的位置信息，确定各个所述目标矩形在像平面上生成的光波场，包括：

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述基于所述顶点位置，确定所述第i个目标矩形的水平长度、垂直长度以及中心位置，包括：

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述基于所述水平长度、所述垂直长度以及所述中心位置，确定所述第i个目标矩形在像平面生成的光波场，包括：

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取预构建的集成电路图形所对应的版图多边形，包括：

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：

8.一种集成电路图形的光波场确定装置，其特征在于，包括：

9.一种电子设备，其特征在于，包括：

10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质存储有计算机指令，所述计算机指令用于使计算机执行权利要求1-7任一项所述的集成电路图形的光波场确定方法。

技术总结本发明涉及集成电路制造技术领域，公开了一种集成电路图形的光波场确定方法、装置、设备及存储介质。其中，该方法包括：获取预构建的集成电路图形所对应的版图多边形；对版图多边形进行划分，得到多个目标矩形；基于各个目标矩形的位置信息，确定各个目标矩形在像平面上生成的光波场；对多个光波场进行叠加，生成集成电路图形的目标光波场。通过实施本发明技术方案，在确定像平面上所生成的光波场时，无需对物平面上的所有采样点进行遍历，大大降低了衍射过程中的光波场计算复杂度，减少了光波场的确定时间，从而提高了光波场的确定效率。技术研发人员：和琨,牛志元,杜德川,张瑾轩受保护的技术使用者：光科芯图（北京）科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/13