光源对准的确定方法和装置、电子设备和存储介质与流程

本申请涉及全息光刻领域，尤其涉及一种光源对准的确定方法和装置、电子设备和存储介质。

背景技术：

1、激光全息光刻是一种很有潜力的光刻技术，它的基本原理是通过全息成像，照射经过特别设计的全息掩模，在硅片上得到想要的图形。在照射过程中，往往需要光源对准，在现有的全息光刻领域里，对准需要通过引入一套额外的对准系统来进行，但是引入一套额外的对准系统，往往意味着一套额外的光路和专门的对准光源，这带来了成本的上升和系统复杂性、不稳定性的增加。

2、因此，现有的相关技术中存在引入额外对准系统导致的成本过高、系统较复杂且稳定性不足致使对准不精确的问题。

技术实现思路

1、本申请提供了一种光源对准的确定方法和装置、电子设备和存储介质，以至少解决相关技术中存在引入额外对准系统导致的成本过高、系统较复杂且稳定性不足致使对准不精确的问题。

2、根据本申请实施例的一个方面，提供了一种光源对准的确定方法，该方法包括：

3、获取由全息成像生成的干涉图样或对掩膜进行调整后的目标掩膜；

4、根据所述干涉图样或所述目标掩膜，得到照射在光栅之后所检测到的透过所述光栅的光照强度；

5、根据所述光照强度生成对应的线条变化图，其中，线条变化图用于表征光学信号；

6、根据所述线条变化图确定对准点，并将所述对准点对应的当前掩膜的第一位置信息和当前硅片的第二位置信息作为光源对准的约束条件。

7、根据本申请实施例的另一个方面，还提供了一种光源对准的确定装置，该装置包括：

8、获取模块，用于获取由全息成像生成的干涉图样或对掩膜进行调整后的目标掩膜；

9、得到模块，用于根据所述干涉图样或所述目标掩膜，得到照射在光栅之后所检测到的透过所述光栅的光照强度；

10、第一生成模块，用于根据所述光照强度生成对应的线条变化图，其中，所述线条变化图用于表征光学信号；

11、确定模块，用于根据所述线条变化图确定对准点，并将所述对准点对应的当前掩膜的第一位置信息和当前硅片的第二位置信息作为光源对准的约束条件。

12、可选地，得到模块包括：

13、第一获取单元，用于获取所述干涉图样在预设周期的光照强度的空间分布；

14、第二获取单元，用于获取包含所述预设周期的光栅；

15、第三获取单元，用于将所述空间分布对准所述光栅的过程中，获取照射所述光栅之后透过所述光栅的所述光照强度。

16、可选地，第一生成模块包括：

17、第一产生单元，用于由所述空间分布与所述光栅之间产成光学信号；

18、第一生成单元，用于根据所述光学信号生成第一曲线变化图。

19、可选地，得到模块包括：

20、第二生成单元，用于利用所述目标掩膜，使得光源通过所述目标掩膜照射到所述光栅之后，透过所述光栅生成信号为一次函数的所述光照强度。

21、可选地，第一生成模块包括：

22、第二产生单元，用于由一次函数的所述光照强度产生光学信号；

23、第三生成单元，用于根据所述光学信号生成折线变化图。

24、可选地，该装置还包括：

25、设置模块，用于在所述透过所述光栅生成信号为一次函数的所述光照强度之后，将第一预设周期下的一次函数的所述光照强度的光强分布设置为第一预设分布，将第二预设周期下的一次函数的所述光照强度的光强分布设置为第二预设分布；

26、产生模块，用于基于所述第一预设分布和所述第二预设分布，产生光学信号；

27、第二生成模块，用于根据所述光学信号生成第二曲线变化图。

28、可选地，确定模块包括：

29、判断单元，用于判断所述线条变化图中是否包含顶点相交产生的交点；

30、设置单元，用于在确定出现所述交点的情况下，将所述交点作为对准点。

31、根据本申请实施例的又一个方面，还提供了一种电子设备，包括处理器、通信接口、存储器和通信总线，其中，处理器、通信接口和存储器通过通信总线完成相互间的通信；其中，存储器，用于存储计算机程序；处理器，用于通过运行所述存储器上所存储的所述计算机程序来执行上述任一实施例中的方法步骤。

32、根据本申请实施例的又一个方面，还提供了一种计算机可读的存储介质，该存储介质中存储有计算机程序，其中，该计算机程序被设置为运行时执行上述任一实施例中的方法步骤。

33、在本申请实施例中，通过获取由全息成像生成的干涉图样或对掩膜进行调整后的目标掩膜；根据干涉图样或目标掩膜，得到照射在光栅之后所检测到的透过光栅的光照强度；根据光照强度生成对应的线条变化图，其中，线条变化图用于表征光学信号；根据线条变化图确定对准点，并将对准点对应的当前掩膜的第一位置信息和当前硅片的第二位置信息作为光源对准的约束条件。由于本申请实施例利用全息光刻技术可以对空间光照强度分布自行设计，利用全息成像生成的干涉图样或对掩膜调整后得到目标掩膜得到透过所述光栅的光照强度，然后根据信号接收器接收到的信号线条变化图去确定对准点，这一套对准方法不需要额外的光路、装置和光学过程，因此可以减少能源消耗、降低成本、减小误差、简化系统、降低安装和调配难度、减少加工难度，提高了整套系统的整体性、稳定性和精确性，进而解决了相关技术中存在的引入额外对准系统导致的成本过高、系统较复杂且稳定性不足致使对准不精确的问题。

技术特征：

1.一种光源对准的确定方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述干涉图样，得到照射在光栅之后所检测到的透过所述光栅的光照强度，包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述光照强度生成对应的线条变化图，包括：

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据目标掩膜，得到照射在光栅之后所检测到的透过所述光栅的光照强度，包括：

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据所述光照强度生成对应的线条变化图，包括：

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，在所述透过所述光栅生成信号为一次函数的所述光照强度之后，所述方法还包括：

7.根据权利要求1至6任一所述的方法，其特征在于，所述根据所述线条变化图确定对准点，包括：

8.一种光源对准的确定装置，其特征在于，所述装置包括：

9.一种电子设备，包括处理器、通信接口、存储器和通信总线，其中，所述处理器、所述通信接口和所述存储器通过所述通信总线完成相互间的通信，其特征在于，

10.一种计算机可读的存储介质，其特征在于，所述存储介质中存储有计算机程序，其中，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至7中任一项中所述的方法步骤。

技术总结本申请提供了一种光源对准的确定方法和装置、电子设备和存储介质，其中，该方法包括：获取由全息成像生成的干涉图样或对掩膜进行调整后的目标掩膜；根据所述干涉图样或所述目标掩膜，得到照射在光栅之后所检测到的透过所述光栅的光照强度；根据所述光照强度生成对应的线条变化图，其中，所述线条变化图用于表征光学信号；根据所述线条变化图确定对准点，并将所述对准点对应的当前掩膜的第一位置信息和当前硅片的第二位置信息作为光源对准的约束条件。通过本申请，解决了相关技术中存在的引入额外对准系统导致的成本过高、系统较复杂且稳定性不足致使对准不精确的问题。技术研发人员：谢稳,牛志元,丛敏,程智,秦宏鹏,王凯诚受保护的技术使用者：光科芯图(北京)科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/13