一种镀膜均匀的镀膜系统、镀膜方法与流程

本发明涉及镀膜领域，具体指有一种镀膜均匀的镀膜系统、镀膜方法。

背景技术：

1、镀膜是指把蒸发源加热蒸发，沉积到基片表面形成单层或多层薄膜。如今已成为以电子学为中心的电子、光学、钟表、宇航等工业部门不可缺少的新技术。

2、镀膜系统一般包含放卷机构、收卷机构、缠绕机构、蒸镀源，基片通过放卷机构出发，经过缠绕机构到达收卷机构，通过蒸镀源蒸发作用将蒸汽分子传递到暴露在缠绕机构上的基片，并使蒸汽分子在基片表面凝结。现有技术中，如图1所示，蒸镀源一般设置于缠绕机构的中心线上，蒸发源呈从下往上发散的形式升高并到达基片下表面，由于基片的左右两侧到达蒸镀源的距离相比基片中间位置到达蒸镀源的距离较大，一方面，蒸发分子更难以到达基片的左右两侧，另一方面，蒸发分子到达基片的左右两侧需要将更多的热能转换为动能，使得基片的左右两侧的温度更低，最终基片的左右两侧形成的薄膜较薄，整体镀膜的均匀性不一。

3、针对上述的现有技术存在的问题设计一种镀膜均匀的镀膜系统、镀膜方法是本发明研究的目的。

技术实现思路

1、针对上述现有技术存在的问题，本发明在于提供一种镀膜均匀的镀膜系统、镀膜方法，能够有效解决上述现有技术存在的至少一个问题。

2、本发明的技术方案是：

3、一种镀膜均匀的镀膜系统，包括：

4、真空室，所述真空室通过相应的真空系统获得真空环境；

5、放卷机构，设置于所述真空室内，用于输出待镀膜的基片；

6、收卷机构，设置于所述真空室内，用于收卷所述待镀膜的基片；

7、缠绕机构，设置于所述真空室内，所述基片缠绕经过所述缠绕机构，所述缠绕机构包括镀膜辊，所述镀膜辊将绕经的所述基片张开并暴露所述基片的底面，所述镀膜辊包括辊体，所述辊体为内设置有安装腔体，所述安装腔体可密封设置，所述辊体的外表面包覆有橡胶层，所述橡胶层在其左右两端各埋设有环形囊，所述辊体内设置有泵体，所述泵体用于对所述环形囊加压或泄压，所述环形囊加压后将所述橡胶层的两端鼓起形成两边粗中间等径的结构，所述环形囊泄压后将所述橡胶层恢复成等径的结构；

8、若干蒸发源，等间距间隔设置于所述镀膜辊轴线下方；

9、控制系统，用于控制所述泵体加压或泄压。

10、进一步地，所述橡胶层在对应所述环形囊的外围设置有一圈弧形板，所述弧形板的一端铰接至所述辊体，所述环形囊加压后驱动所述弧形板未铰接的一端张开，所述环形囊泄压后驱动所述弧形板未铰接的一端闭合，所述弧形板用于隆起或恢复所述橡胶层的两端的直径。

11、进一步地，所述泵体为正反向水泵，所述安装腔体内设置有液体袋，所述液体袋内储存有液体，所述液体袋连接至所述正反向水泵，所述正反向水泵通过将所述液体袋内的液体输入所述环形囊从而对所述环形囊加压，所述正反向水泵通过将所述环形囊内的液体输入所述液体袋从而对所述环形囊泄压。

12、进一步地，所述泵体和所述环形囊之间设置有保压阀，所述保压阀用于保持所述环形囊内的压力。

13、进一步地，包括若干温度传感器，所述温度传感器布设于所述橡胶层的左右两端和中间位置，所述温度传感器设置于所述橡胶层的表面用于获取基片的温度，所述控制系统用于根据若干所述温度传感器的数据控制所述泵体对所述环形囊加压或泄压的工作量。

14、进一步地，所述控制系统控制所述泵体对所述环形囊加压或泄压的工作量使所述基片的两端和中间位置的温度相同。

15、进一步地，所述环形囊的外圈为中间高两侧低的结构。

16、进一步地，所述橡胶层在其左右两端的外圈设置有润滑层。

17、进一步提供一种镀膜均匀的镀膜方法，包括以下步骤：

18、获取基片的左右两端以及中间的位置的温度；

19、将所述基片的左右两端向下弯曲，使基片的左右两端与中间部分的温度相同。

20、进一步地，所述镀膜方法基于所述的一种镀膜均匀的镀膜系统，其特征在于：

21、通过所述控制系统控制所述泵体加压或泄压的工作量，控制所述镀膜辊的左右两端的直径变化量，使基片的左右两端向下弯曲。

22、因此，本发明提供以下的效果和/或优点：

23、本申请通过将镀膜辊的左右两端设置为可隆起的结构，可使基片的底面的左右两端向下弧形弯曲，降低基片的底面的左右两端与蒸发源之间的距离，使基片底面的左右两端受到充分的蒸发分子，同时能够令蒸发分子对该位置传递的热能与基片的中间位置的热能尽可能地相同，从而使整个基片的温度基本相同，最终得到基片底面的镀膜均匀这样的技术效果。

24、本发明的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点在说明书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

25、应当明白，本发明的上文的概述和下面的详细说明是示例性和解释性的，并且意在提供对如要求保护的本发明的进一步的解释。

技术特征：

1.一种镀膜均匀的镀膜系统，其特征在于：包括：

2.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的镀膜系统，其特征在于：所述橡胶层在对应所述环形囊的外围设置有一圈弧形板，所述弧形板的一端铰接至所述辊体，所述环形囊加压后驱动所述弧形板未铰接的一端张开，所述环形囊泄压后驱动所述弧形板未铰接的一端闭合，所述弧形板用于隆起或恢复所述橡胶层的两端的直径。

3.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的镀膜系统，其特征在于：所述泵体为正反向水泵，所述安装腔体内设置有液体袋，所述液体袋内储存有液体，所述液体袋连接至所述正反向水泵，所述正反向水泵通过将所述液体袋内的液体输入所述环形囊从而对所述环形囊加压，所述正反向水泵通过将所述环形囊内的液体输入所述液体袋从而对所述环形囊泄压。

4.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的镀膜系统，其特征在于：所述泵体和所述环形囊之间设置有保压阀，所述保压阀用于保持所述环形囊内的压力。

5.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的镀膜系统，其特征在于：包括若干温度传感器，所述温度传感器布设于所述橡胶层的左右两端和中间位置，所述温度传感器设置于所述橡胶层的表面用于获取基片的温度，所述控制系统用于根据若干所述温度传感器的数据控制所述泵体对所述环形囊加压或泄压的工作量。

6.根据权利要求5所述的一种镀膜均匀的镀膜系统，其特征在于：所述控制系统控制所述泵体对所述环形囊加压或泄压的工作量使所述基片的两端和中间位置的温度相同。

7.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的镀膜系统，其特征在于：所述环形囊的外圈为中间高两侧低的结构。

8.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的镀膜系统，其特征在于：所述橡胶层在其左右两端的外圈设置有润滑层。

9.一种镀膜均匀的镀膜方法，其特征在于：包括以下步骤：

10.根据权利要求9所述的一种镀膜均匀的镀膜方法，其特征在于：所述镀膜方法基于权利要求1-8任意一条所述的一种镀膜均匀的镀膜系统，其特征在于：

技术总结本发明涉及一种镀膜均匀的镀膜系统、镀膜方法，包括：真空室，所述真空室通过相应的真空系统获得真空环境；放卷机构；收卷机构；缠绕机构，包括镀膜辊，所述镀膜辊将绕经的所述基片张开并暴露所述基片的底面，所述镀膜辊包括辊体，所述辊体为内设置有安装腔体，所述安装腔体可密封设置，所述辊体的外表面包覆有橡胶层，所述橡胶层在其左右两端各埋设有环形囊，所述辊体内设置有泵体，所述泵体用于对所述环形囊加压或泄压，所述环形囊加压后将所述橡胶层的两端鼓起形成两边粗中间等径的结构；若干蒸发源，等间距间隔设置于所述镀膜辊轴线下方；控制系统，用于控制所述泵体加压或泄压。技术研发人员：黄永刚,席晓晶,邹春毅,王小兵,李明亮,王云飞,王旭东,李沛宏,曹兰,张梅玉受保护的技术使用者：福建建壹真空科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/11