一种可实现均匀处理的磁力反应釜的制作方法

本技术涉及磁力反应釜，特别涉及一种可实现均匀处理的磁力反应釜。

背景技术：

1、磁力反应釜是一种利用磁力驱动的特殊反应设备，广泛应用于化学合成、制药工艺和实验室研究等领域，磁力反应釜的独特之处在于其无需机械密封，通过磁力耦合实现转子的搅拌与驱动，从而避免了传统机械密封可能引起的泄漏问题，磁力反应釜由两部分组成：驱动部分和反应容器，驱动部分包括一个由电机驱动的外部磁铁，而反应容器则通常由不锈钢材料制成。在反应过程中，磁力通过容器壁传递给容器内的磁力耦合驱动装置，使其能够旋转并提供搅拌力。

2、申请人在申请本发明时，经过检索，发现中国专利公开了一种“自动洗锅器”，其申请号为“201520547283.1”，该专利主要通过釜体和磁力搅拌器，所述磁力搅拌器设置在所述釜体内，所述磁力搅拌器的搅拌轴的径向延伸端连接若干根搅拌杆，所述搅拌杆的外端垂直连接一个铁板；所述釜体上固定有电磁加热装置；所述电磁加热装置的加热面板与所述铁板相对且与所述铁板在同一高度上。该装置未对反应釜中的搅拌机构进行细致化从而反应釜中的反应将会不完全充分。

技术实现思路

1、本实用新型，提供一种可实现均匀处理的磁力反应釜，能够有效避免反应釜中的反应不够充分，通过对反应釜中的搅拌机构进行改良实现搅拌过程中的搅拌机构上下移动且不增加负荷。

2、为实现上述目的，提供一种可实现均匀处理的磁力反应釜，包括底架，所述底架上表面固定连接有主体，所述主体顶端固定连接有防护机构，所述防护机构上表面固定连接有驱动机构，所述防护机构表面固定连接有进料口，所述驱动机构输出端固定连接有升降结构，所述升降结构下端设置有搅拌机构，所述主体下表面设置有出料口。通过设置防护机构是为了能够进行保护，通过设置驱动机构是为了能够搅拌，通过设置进料口是为了让料进入，通过设置升降机构是为了让搅拌上下移动，通过设置出料口是为了让料输出。

3、根据所述的一种可实现均匀处理的磁力反应釜装置，所述防护机构包括活动器、固定螺杆、护盖，所述护盖呈椭圆弧状位于主体的上方且不固定，所述活动器位于护盖与主体的交界处，所述固定螺杆位于护盖的对立面且在护盖与主体的突出块状内部。通过设置活动器是为了让护盖能够打开，通过设置固定螺杆是为了进行固定，通过设置护盖是为了进行保护。

4、根据所述的一种可实现均匀处理的磁力反应釜装置，所述驱动机构包括电机、延伸壁、驱动杆和固定螺纹杆，所述延伸壁位于护盖的正中心处，所述电机位于延伸壁的上端圆状处且连接。通过设置电机是为了能够驱动，通过设置延伸臂是为了能够托起电机，通过设置驱动杆是为了能够驱动搅拌机构，通过设置固定螺纹杆是为了固定电机。

5、根据所述的一种可实现均匀处理的磁力反应釜装置，所述固定螺纹杆位于延伸壁与电机的交界处且设置有两个，所述驱动杆位于电机的输出端且贯穿于主体的内部。

6、根据所述的一种可实现均匀处理的磁力反应釜装置，所述搅拌机构包括柱形搅拌棒、弧形搅拌器、固定器，所述柱形搅拌棒设置有两根且位于最底端与驱动杆的延伸处进行连接，所述固定器直径略大于驱动杆的直径且设置有两个，所述弧形搅拌器呈圆弧状且与固定器进行连接呈对称分布。通过设置弧形搅拌棒是为了能够进行固定搅拌，通过设置弧形搅拌器是为了能够上下搅拌，通过设置固定器是为了能够让弧形搅拌器上下活动。

7、根据所述的一种可实现均匀处理的磁力反应釜装置，所述升降结构包括齿轮、活动杆、滑动螺纹杆、移动器和伸缩杆，所述移动器的直径略大于驱动杆的直径，所述移动器位于主体内部最上方，所述伸缩杆顶端与移动器的突出圆柱体进行固定连接。通过设置齿轮是为了能够让上下移动，通过设置活动杆是为了让齿轮转动，通过设置滑动螺纹杆是为了能够让齿轮在其上滚动，通过设置移动器是为了支撑齿轮且不影响上下移动，通过设置伸缩杆是为了能够辅助上下移动伸缩。

8、根据所述的一种可实现均匀处理的磁力反应釜装置，所述活动杆上外侧壁与伸缩杆进行连接且下外侧壁与突出圆柱体连接到弧形搅拌器进行连接，所述活动杆贯穿于齿轮的内部，所述齿轮的齿牙处与滑动螺纹杆进行接触，所述滑动螺纹杆附着于驱动杆的外侧壁。

9、本实用新型的有益效果：通过设置主体、防护机构、驱动机构、升降结构和出料口，能够有效地将反应釜中进行充分搅拌，同时将搅拌机构进行上下移动更加活跃了内部物料。

10、本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

技术特征：

1.一种可实现均匀处理的磁力反应釜，包括底架(1)，其特征在于：所述底架(1)上表面固定连接有主体(2)，所述主体(2)顶端固定连接有防护机构(3)，所述防护机构(3)上表面固定连接有驱动机构(6)，所述防护机构(3)表面固定连接有进料口(5)，所述驱动机构(6)输出端固定连接有升降结构(8)，所述升降结构(8)下端设置有搅拌机构(7)，所述主体(2)下表面设置有出料口(4)。

2.根据权利要求1所述的一种可实现均匀处理的磁力反应釜，其特征在于，所述防护机构(3)包括活动器(301)、固定螺杆(302)、护盖(303)，所述护盖(303)呈椭圆弧状位于主体(2)的上方且不固定，所述活动器(301)位于护盖(303)与主体(2)的交界处，所述固定螺杆(302)位于护盖(303)的对立面且在护盖(303)与主体(2)的突出块状内部。

3.根据权利要求1所述的一种可实现均匀处理的磁力反应釜，其特征在于，所述驱动机构(6)包括电机(601)、延伸壁(602)、驱动杆(603)和固定螺纹杆(604)，所述延伸壁(602)位于护盖(303)的正中心处，所述电机(601)位于延伸壁(602)的上端圆状处且连接。

4.根据权利要求3所述的一种可实现均匀处理的磁力反应釜，其特征在于，所述固定螺纹杆(604)位于延伸壁(602)与电机(601)的交界处且设置有两个，所述驱动杆(603)位于电机(601)的输出端且贯穿于主体(2)的内部。

5.根据权利要求1所述的一种可实现均匀处理的磁力反应釜，其特征在于，所述搅拌机构(7)包括柱形搅拌棒(701)、弧形搅拌器(702)、固定器(703)，所述柱形搅拌棒(701)设置有两根且位于最底端与驱动杆(603)的延伸处进行连接，所述固定器(703)直径略大于驱动杆(603)的直径且设置有两个，所述弧形搅拌器(702)呈圆弧状且与固定器(703)进行连接呈对称分布。

6.根据权利要求1所述的一种可实现均匀处理的磁力反应釜，其特征在于，所述升降结构(8)包括齿轮(801)、活动杆(802)、滑动螺纹杆(803)、移动器(804)和伸缩杆(805)，所述移动器(804)的直径略大于驱动杆(603)的直径，所述移动器(804)位于主体(2)内部最上方，所述伸缩杆(805)顶端与移动器(804)的突出圆柱体进行固定连接。

7.根据权利要求6所述的一种可实现均匀处理的磁力反应釜，其特征在于，所述活动杆(802)上外侧壁与伸缩杆(805)进行连接且下外侧壁与突出圆柱体连接到弧形搅拌器(702)进行连接，所述活动杆(802)贯穿于齿轮(801)的内部，所述齿轮(801)的齿牙处与滑动螺纹杆(803)进行接触，所述滑动螺纹杆(803)附着于驱动杆(603)的外侧壁。

技术总结本技术公开了一种可实现均匀处理的磁力反应釜，其包括底架，所述底架上表面固定连接有主体，所述主体顶端固定连接有防护机构，所述防护机构上表面固定连接有驱动机构，所述防护机构表面固定连接有进料口，所述驱动机构输出端固定连接有升降结构，所述升降结构下端设置有搅拌机构，所述主体下表面设置有出料口。通过上述结构，通过设置主体、防护结构、驱动结构、进料口、升降结构、搅拌结构以及出料口，在磁力反应釜内添加高效的搅拌器，以确保反应物质均匀混合，搅拌器可以提供强大的搅拌力，使反应溶液充分混合，从而提高反应的效率和均匀性，同时在反应釜中上下移动中进行辅助搅拌使搅拌充分。技术研发人员：董岩岩,孙亮,王春磊受保护的技术使用者：山东轩硕医药科技有限公司技术研发日：20230919技术公布日：2024/7/11