一种用于反应釜的除垢清洁装置的制作方法

本发明涉及反应釜，具体为一种用于反应釜的除垢清洁装置。

背景技术：

1、反应釜是一种反应设备，从广义上来说，它是有物理或化学反应的容器，过对容器的结构设计与参数配置，反应釜可以实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能，主要组成部分包括釜体、釜盖、夹套、搅拌装置、传动装置和密封装置等。

2、反应釜在使用后，其内部很容易残留杂物。这些残留物不仅会逐渐堆积，影响釜的容量，而且其中的成分还可能对后续反应产生不良影响，因此当反应釜在使用过后需要对内侧壁上的污垢进行清洗。

3、然而，由于反应釜内侧壁可能存在坚硬厚实的污垢，现有的反应釜污垢清洗装置在将反应釜内侧壁的污垢进行清理时，会出现存在清洁不到位的情况，因此需要设计一种带有检测功能的反应釜除垢装置。

技术实现思路

1、为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：包括釜体，所述釜体顶部有釜盖，所述釜体内腔有中心轴，所述中心轴顶端贯穿釜盖的内腔，所述中心轴顶端安装有外置电机，所述中心轴外侧靠近中心处固定套接有固定环，所述固定环外侧安装有若干联动杆，且若干所述联动杆以中心轴圆心为中心，呈环形阵列排列，若干所述联动杆远离中心轴的一侧均铰接有回旋板，若干所述回旋板远离中心轴的一侧均铰接有刮板，所述刮板内腔开设有开口，所述刮板远离中心轴的一侧开设有若干矩形口，且若干所述矩形口从上至下，依次呈线性排列，所述开口的内腔左侧固定连接有若干挡板，且所述挡板位于矩形口的顶部处，若干所述矩形口的内腔均安装有弹性保护膜，所述开口内侧壁固定连接有两个侧板，且两个所述侧板为左右对称设置，两个所述侧板之间滑动连接有若干滑板，且若干所述滑板从上至下依次呈线性排列，若干所述滑板前侧均固定连接有固定板，所述滑板前侧铰接有两个曲柄，所述固定板左侧有活动块，所述活动块右侧固定连接有两个第四铰接板，两个所述曲柄均与相邻的第四铰接板铰接，若干所述固定板的内腔共同贯穿设有钢索，并与其固定连接，所述钢索顶端贯穿刮板，并固定连接在回旋板底部处。

2、优选的，所述釜体外侧靠近中心处固定套接有圆板，所述釜体顶部处均开设有若干圆孔，且若干所述圆孔以圆板圆心为中心，呈环形阵列排列，所述圆板顶部固定连接有若干竖杆，且若干所述竖杆以圆板圆心为中心，呈环形阵列排列。

3、优选的，所述竖杆外侧靠近顶端处固定连接有两个簧片，且两个所述簧片为左右对称设置，两个所述簧片顶部均固定连接有限位块，所述竖杆外侧靠近顶端处套接有圆筒，且所述圆筒位于圆孔的内腔，所述圆筒的内侧壁靠近底端处开设有两个盲孔，若干所述圆筒顶端均固定连接在釜盖底部处。

4、优选的，所述活动块内腔开设有凹槽，所述凹槽的内腔滑动连接有往复板，所述往复板右侧固定连接有两个弹簧，且两个所述弹簧为上下对称设置，所述往复板右侧有触发开关，所述触发开关右侧固定连接在凹槽的内侧壁上。

5、优选的，所述中心轴外侧靠近顶端处套接有环形板，所述环形板外侧固定连接有若干第二铰接板，且若干所述第二铰接板以环形板圆心为中心，呈环形阵列排列，若干所述第二铰接板远离环形板的一侧均铰接有摆动板，若干所述摆动板底部均铰接有第一铰接板，所述第一铰接板远离中心轴的一侧固定连接有转轴，所述中心轴外侧有若干翻转板，若干所述翻转板以中心轴圆心为中心，呈环形阵列排列。

6、优选的，每两个相邻的所述翻转板之间均有第二套筒和第一套筒，所述第一套筒和第二套筒为前后对称设置，所述中心轴外侧固定连接有若干第三铰接板，且若干所述第三铰接板以中心轴圆心为中心，呈环形阵列排列，所述第三铰接板远离中心轴的一侧均铰接有横杆，所述横杆贯穿相邻的第一套筒和第二套筒，所述转轴贯穿相邻的第一套筒和第二套筒，所述所述第二套筒和第一套筒相背离的一侧均与相邻的翻转板固定连接。

7、优选的，所述环形板顶部开设有环形槽，所述环形槽的内腔滑动连接有两个拉杆，且两个所述拉杆为左右对称设置，两个所述拉杆顶端均固定连接在釜盖内腔顶部处，若干所述翻转板底部均固定连接有清洗机，且所述清洗机与触发开关电性连接，是中心轴底端固定连接有搅拌叶片，所述回旋板顶部固定连接有拉绳，所述拉绳顶端固定连接在第一铰接板底部处。

8、优选的，位于左右两侧的所述活动块高度一致，位于前后两侧的所述活动块高度低于位于左右两侧的活动块，呈交叉设置。

9、优选的，所述往复板内腔开设有贯穿口，所述活动块内腔底部固定连接有两个底杆，且两个所述底杆为前后对称设置，位于前侧的所述底杆顶端固定连接有第一定位板，位于后侧的所述底杆顶端固定连接有第一定位板，位于前侧的所述底杆顶端固定连接有第二定位板，所述第一定位板和第二定位板内腔均开设有弧形口，所述第一定位板和第二定位板内腔均开设有条形口，且所述条形口位于弧形口下方，所述条形口与弧形口为相互贯通设置，所述第一定位板和第二定位板之间靠近底部处有活动板，所述活动板前后两侧均固定连接有两个滑杆，若干所述滑杆为左右对称设置，每两个相邻的所述滑杆均贯穿相对应的条形口内腔，所述活动板顶部固定连接有两个调节板，两个所述调节板为前后对称设置，两个所述调节板靠近顶部处共同铰接有翻转传动板，所述翻转传动板内腔靠近顶部处贯穿设有传动杆，所述传动杆外侧靠近后侧处套接有摇柄，所述第一定位板前侧靠近右侧处贯穿设有旋转杆，所述摇柄靠近底部处套接在旋转杆上，所述旋转杆外侧靠近后端处固定套接有齿轮。

10、优选的，所述往复板右侧靠近后侧处固定连接有联动杆，所述联动杆右侧有l形限位框，所述l形限位框底部固定连接有卡板，所述卡板底部固定连接在第一定位板上，所述联动杆右端延伸至l形限位框的内腔，所述l形限位框内腔有若干滚球，所述l形限位框右侧有复位板，所述复位板左侧延伸至l形限位框的内腔，所述复位板远离l形限位框的一侧固定连接有软性皮带，软性皮带内侧壁上设有若干齿块，且若干齿块从左至右依次呈线性排列，齿轮外侧与相邻的齿块啮合，软性皮带内侧壁开设有若干通口，软性皮带内腔为空腔设置，若干通口均与空腔贯通，若干齿块均与相邻的通口铰接，若干齿块靠近空腔的一侧均固定连接有下位板，下位板上球形连接有球形连接杆，空腔固定连接有下位板，球形连接杆贯穿下位板的内腔，齿块与通口的铰接处安装有发条，所述活动块内腔右侧固定连接有焊接板，所述焊接板上铰接有滚轮，所述软性皮带远离复位板的一端缠绕在滚轮上，所述活动板36左侧固定连接有同步板，所述同步板左侧固定连接有清理板。

11、与现有技术相比，本发明的有益效果是：

12、1、本发明通过刮板、活动块、第四铰接板、钢索、曲柄、侧板、固定板等部件之间的相互配合，可实现当刮板对反应釜内侧壁进行初步清洁过后，对反应釜的内侧壁进行污垢检测，当反应釜内侧壁还存在坚硬厚实的污垢时，可通过触发开关启动清洗机，通过清洗机实现对反应釜内部进行化学清洗，提高清洗效率。

技术特征：

1.一种用于反应釜的除垢清洁装置，包括釜体(1)，其特征在于：所述釜体(1)顶部有釜盖(2)，所述釜体(1)内腔有中心轴(8)，所述中心轴(8)顶端贯穿釜盖(2)的内腔，所述中心轴(8)顶端安装有外置电机，所述中心轴(8)外侧靠近中心处固定套接有固定环(20)，所述固定环(20)外侧安装有若干联动杆(26)，且若干所述联动杆(26)以中心轴(8)圆心为中心，呈环形阵列排列，若干所述联动杆(26)远离中心轴(8)的一侧均铰接有回旋板(19)，若干所述回旋板(19)远离中心轴(8)的一侧均铰接有刮板(14)，所述刮板(14)内腔开设有开口，所述刮板(14)远离中心轴(8)的一侧开设有若干矩形口，且若干所述矩形口从上至下，依次呈线性排列，所述开口的内腔左侧固定连接有若干挡板，且所述挡板位于矩形口的顶部处，若干所述矩形口的内腔均安装有弹性保护膜，所述开口内侧壁固定连接有两个侧板(31)，且两个所述侧板(31)为左右对称设置，两个所述侧板(31)之间滑动连接有若干滑板(30)，且若干所述滑板(30)从上至下依次呈线性排列，若干所述滑板(30)前侧均固定连接有固定板(32)，所述滑板(30)前侧铰接有两个曲柄(29)，所述固定板(32)左侧有活动块(27)，所述活动块(27)右侧固定连接有两个第四铰接板(28)，两个所述曲柄(29)均与相邻的第四铰接板(28)铰接，若干所述固定板(32)的内腔共同贯穿设有钢索(24)，并与其固定连接，所述钢索(24)顶端贯穿刮板(14)，并固定连接在回旋板(19)底部处。

2.根据权利要求1所述的一种用于反应釜的除垢清洁装置，其特征在于：所述釜体(1)外侧靠近中心处固定套接有圆板(3)，所述釜体(1)顶部处均开设有若干圆孔，且若干所述圆孔以圆板(3)圆心为中心，呈环形阵列排列，所述圆板(3)顶部固定连接有若干竖杆(4)，且若干所述竖杆(4)以圆板(3)圆心为中心，呈环形阵列排列。

3.根据权利要求1所述的一种用于反应釜的除垢清洁装置，其特征在于：所述竖杆(4)外侧靠近顶端处固定连接有两个簧片(21)，且两个所述簧片(21)为左右对称设置，两个所述簧片(21)顶部均固定连接有限位块(25)，所述竖杆(4)外侧靠近顶端处套接有圆筒(5)，且所述圆筒(5)位于圆孔的内腔，所述圆筒(5)的内侧壁靠近底端处开设有两个盲孔，若干所述圆筒(5)顶端均固定连接在釜盖(2)底部处。

4.根据权利要求2所述的一种用于反应釜的除垢清洁装置，其特征在于：所述活动块(27)内腔开设有凹槽，所述凹槽的内腔滑动连接有往复板(34)，所述往复板(34)右侧固定连接有两个弹簧(33)，且两个所述弹簧(33)为上下对称设置，所述往复板(34)右侧有触发开关(35)，所述触发开关(35)右侧固定连接在凹槽的内侧壁上。

5.根据权利要求3所述的一种用于反应釜的除垢清洁装置，其特征在于：所述中心轴(8)外侧靠近顶端处套接有环形板(10)，所述环形板(10)外侧固定连接有若干第二铰接板(22)，且若干所述第二铰接板(22)以环形板(10)圆心为中心，呈环形阵列排列，若干所述第二铰接板(22)远离环形板(10)的一侧均铰接有摆动板(7)，若干所述摆动板(7)底部均铰接有第一铰接板(11)，所述第一铰接板(11)远离中心轴(8)的一侧固定连接有转轴，所述中心轴(8)外侧有若干翻转板(6)，若干所述翻转板(6)以中心轴(8)圆心为中心，呈环形阵列排列。

6.根据权利要求5所述的一种用于反应釜的除垢清洁装置，其特征在于：每两个相邻的所述翻转板(6)之间均有第二套筒(13)和第一套筒(12)，所述第一套筒(12)和第二套筒(13)为前后对称设置，所述中心轴(8)外侧固定连接有若干第三铰接板(23)，且若干所述第三铰接板(23)以中心轴(8)圆心为中心，呈环形阵列排列，所述第三铰接板(23)远离中心轴(8)的一侧均铰接有横杆(15)，所述横杆(15)贯穿相邻的第一套筒(12)和第二套筒(13)，所述转轴贯穿相邻的第一套筒(12)和第二套筒(13)，所述所述第二套筒(13)和第一套筒(12)相背离的一侧均与相邻的翻转板(6)固定连接。

7.根据权利要求6所述的一种用于反应釜的除垢清洁装置，其特征在于：所述环形板(10)顶部开设有环形槽，所述环形槽的内腔滑动连接有两个拉杆(9)，且两个所述拉杆(9)为左右对称设置，两个所述拉杆(9)顶端均固定连接在釜盖(2)内腔顶部处，若干所述翻转板(6)底部均固定连接有清洗机(17)，且所述清洗机(17)与触发开关(35)电性连接，是中心轴(8)底端固定连接有搅拌叶片(16)，所述回旋板(19)顶部固定连接有拉绳(18)，所述拉绳(18)顶端固定连接在第一铰接板(11)底部处。

8.根据权利要求7所述的一种用于反应釜的除垢清洁装置，其特征在于：位于左右两侧的所述活动块(27)高度一致，位于前后两侧的所述活动块(27)高度低于位于左右两侧的活动块(27)，呈交叉设置。

9.根据权利要求8所述的一种用于反应釜的除垢清洁装置，其特征在于：所述往复板(34)内腔开设有贯穿口，所述活动块(27)内腔底部固定连接有两个底杆(42)，且两个所述底杆(42)为前后对称设置，位于前侧的所述底杆(42)顶端固定连接有第一定位板(39)，位于后侧的所述底杆(42)顶端固定连接有第一定位板(39)，位于前侧的所述底杆(42)顶端固定连接有第二定位板(52)，所述第一定位板(39)和第二定位板(52)内腔均开设有弧形口，所述第一定位板(39)和第二定位板(52)内腔均开设有条形口，且所述条形口位于弧形口下方，所述条形口与弧形口为相互贯通设置，所述第一定位板(39)和第二定位板(52)之间靠近底部处有活动板(36)，所述活动板(36)前后两侧均固定连接有两个滑杆(40)，若干所述滑杆(40)为左右对称设置，每两个相邻的所述滑杆(40)均贯穿相对应的条形口内腔，所述活动板(36)顶部固定连接有两个调节板(41)，两个所述调节板(41)为前后对称设置，两个所述调节板(41)靠近顶部处共同铰接有翻转传动板(54)，所述翻转传动板(54)内腔靠近顶部处贯穿设有传动杆(45)，所述传动杆(45)外侧靠近后侧处套接有摇柄(53)，所述第一定位板(39)前侧靠近右侧处贯穿设有旋转杆，所述摇柄(53)靠近底部处套接在旋转杆上，所述旋转杆外侧靠近后端处固定套接有齿轮(55)。

10.根据权利要求9所述的一种用于反应釜的除垢清洁装置，其特征在于：所述往复板(34)右侧靠近后侧处固定连接有联动杆(37)，所述联动杆(37)右侧有l形限位框(38)，所述l形限位框(38)底部固定连接有卡板(51)，所述卡板(51)底部固定连接在第一定位板(39)上，所述联动杆(37)右端延伸至l形限位框(38)的内腔，所述l形限位框(38)内腔有若干滚球(50)，所述l形限位框(38)右侧有复位板(46)，所述复位板(46)左侧延伸至l形限位框(38)的内腔，所述复位板(46)远离l形限位框(38)的一侧固定连接有软性皮带(47)，所述软性皮带(47)内侧壁上设有若干齿块(56)，且若干所述齿块(56)从左至右依次呈线性排列，所述齿轮(55)外侧与相邻的齿块(56)啮合，所述软性皮带(47)内侧壁开设有若干通口，所述软性皮带(47)内腔为空腔设置，若干所述通口均与空腔贯通，若干所述齿块(56)均与相邻的通口铰接，若干所述齿块(56)靠近空腔的一侧均固定连接有下位板(58)，所述下位板(58)上球形连接有球形连接杆(57)，所述空腔固定连接有下位板(59)，所述球形连接杆(57)贯穿下位板(59)的内腔，所述齿块(56)与通口的铰接处安装有发条，所述活动块(27)内腔右侧固定连接有焊接板(48)，所述焊接板(48)上铰接有滚轮(49)，所述软性皮带(47)远离复位板(46)的一端缠绕在滚轮(49)上，所述活动板36左侧固定连接有同步板(44)，所述同步板(44)左侧固定连接有清理板(43)。

技术总结本发明公开了一种用于反应釜的除垢清洁装置，属于除垢清洗技术领域。包括釜体，釜体顶部有釜盖，釜体内腔有中心轴，中心轴顶端贯穿釜盖的内腔，中心轴顶端安装有外置电机，中心轴外侧靠近中心处固定套接有固定环，固定环外侧安装有若干联动杆，且若干所述联动杆以中心轴圆心为中心，呈环形阵列排列，若干所述联动杆远离中心轴的一侧均铰接有回旋板，本发明通过刮板、活动块、第四铰接板、钢索、曲柄、侧板、固定板等部件之间的相互配合，可实现当刮板对反应釜内侧壁进行初步清洁过后，对反应釜的内侧壁进行污垢检测，当反应釜内侧壁还存在坚硬厚实的污垢时，可通过触发开关启动清洗机，通过清洗机实现对反应釜内部进行化学清洗，提高清洗效率。技术研发人员：邹积威,张志华,吕鸿晓受保护的技术使用者：威海市正威机械设备股份有限公司技术研发日：技术公布日：2024/7/23