一种降低赤泥含水率的方法与流程
- 国知局
- 2024-07-29 12:46:31
本申请涉及铝工业,尤其涉及赤泥的处理。
背景技术:
1、
2、赤泥绿色利用的原材料通常是赤泥滤饼。现有工业生产中,赤泥滤饼含水量一般在30%左右,赤泥含水率高,会影响其资源化、材料化利用。如中国专利cn117228995a通过赤泥制备球团黏土,要求赤泥含水率为25%-35%;中国专利cn116949283a制备炼钢冷却化渣剂,所需赤泥的含水率为25~30%。进一步降低赤泥含水率可减少附碱流失、降低赤泥干化成本、降低堆存风险。
3、现有技术一般通过晾晒、热风等方式降低赤泥滤饼的含水量,这些方法往往存在对场地或设备要求过高的问题。
技术实现思路
1、本申请实施例提供了一种降低赤泥含水率的方法,以解决现有降低赤泥滤饼含水量的技术对场地或设备要求过高的技术问题。
2、本申请实施例提供一种降低赤泥含水率的方法,所述降低赤泥含水率的方法包括如下步骤:
3、提供赤泥浆,向所述赤泥浆中加入物理助滤剂和表面活性剂后充分混合均匀,得到混合浆;
4、对所述混合浆进行压滤作业,得到赤泥滤饼,
5、其中,所述物理助滤剂为不溶于水、并且不溶于碱的颗粒物。
6、在本申请的一些实施例中,所述物理助滤剂包括河砂、热电厂炉渣、粉煤灰、脱硫石膏中的至少一种。
7、在本申请的一些实施例中,所述物理助滤剂的添加量为赤泥浆中赤泥干重的0.05%~6%。
8、在本申请的一些实施例中,所述物理助滤剂的粒径在0.1~0.9mm之间。
9、在本申请的一些实施例中,所述物理助滤剂的粒径满足以下条件:以所述物理助滤剂的总质量计,粒径为0.1~0.15mm的颗粒占8%~15%,粒径为0.15~0.4mm的颗粒占45%~55%,粒径为0.4~0.9mm的颗粒占35%~45%。
10、在本申请的一些实施例中,所述表面活性剂包括亘香醇、松柏醇、芥子醇、聚丙烯酸钠、次甲基多萘磺酸钠、硫酸钠、羟基乙酸酯、硬脂酸、油酸、月桂酸、仲烷基磺酸钠、脂肪酸甲酯磺酸钠、脂肪酰二乙醇胺中的至少一种。
11、在本申请的一些实施例中,所述表面活性剂的添加量为赤泥浆中赤泥干重的0.01%~0.6%。
12、在本申请的一些实施例中,所述压滤作业的压力为0.7~1mpa,所述压滤作业的时间为18~22min。
13、在本申请的一些实施例中,所述赤泥滤饼的含水率为22%~25%。
14、本申请实施例提供的上述技术方案与现有技术相比具有如下优点:
15、本申请实施例提供的降低赤泥含水率的方法,通过在赤泥浆中加入物理助滤剂和表面活性剂后再进行压滤,物理助滤剂可以在压滤的过程中保持颗粒状态,降低赤泥的粘性,保持水分的流动通道,改善脱水性能;表面活性剂可以防止赤泥微粒的凝聚包裹水分,还可以在赤泥微粒表面形成溶剂化膜,阻止赤泥微粒间的直接接触,维持水分流出的通道,最终使得压滤作业能够挤出更多水分,使赤泥滤饼的含水率降低。本申请仅涉及正常的压滤作业,对场地和设备要求很低。
技术特征:1.一种降低赤泥含水率的方法,其特征在于,所述降低赤泥含水率的方法包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的降低赤泥含水率的方法,其特征在于,所述物理助滤剂包括河砂、热电厂炉渣、粉煤灰、脱硫石膏中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的降低赤泥含水率的方法,其特征在于,所述物理助滤剂的添加量为赤泥浆中赤泥干重的0.05%~6%。
4.根据权利要求1所述的降低赤泥含水率的方法,其特征在于,所述物理助滤剂的粒径在0.1~0.9mm之间。
5.根据权利要求1所述的降低赤泥含水率的方法,其特征在于,所述物理助滤剂的粒径满足以下条件:以所述物理助滤剂的总质量计,粒径为0.1~0.15mm的颗粒占8%~15%,粒径为0.15~0.4mm的颗粒占45%~55%,粒径为0.4~0.9mm的颗粒占35%~45%。
6.根据权利要求1所述的降低赤泥含水率的方法,其特征在于,所述表面活性剂包括亘香醇、松柏醇、芥子醇、聚丙烯酸钠、次甲基多萘磺酸钠、硫酸钠、羟基乙酸酯、硬脂酸、油酸、月桂酸、仲烷基磺酸钠、脂肪酸甲酯磺酸钠、脂肪酰二乙醇胺中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的降低赤泥含水率的方法,其特征在于,所述表面活性剂的添加量为赤泥浆中赤泥干重的0.01%~0.6%。
8.根据权利要求1所述的降低赤泥含水率的方法,其特征在于,所述压滤作业的压力为0.7~1mpa,所述压滤作业的时间为18~22min。
9.根据权利要求1所述的降低赤泥含水率的方法,其特征在于,所述赤泥滤饼的含水率为22%~25%。
技术总结本申请涉及一种降低赤泥含水率的方法,所述降低赤泥含水率的方法包括如下步骤:提供赤泥浆,向所述赤泥浆中加入物理助滤剂和表面活性剂后充分混合均匀,得到混合浆;对所述混合浆进行压滤作业,得到赤泥滤饼,其中,所述物理助滤剂为不溶于水、并且不溶于碱的颗粒物。本申请仅涉及正常的压滤作业,对场地和设备要求很低。技术研发人员:张延利,康泽双,刘中凯,雷树喜,和新忠,田野,李花霞,范泽坤,龙鑫鑫,胡秋云,李建成受保护的技术使用者:中铝郑州有色金属研究院有限公司技术研发日:技术公布日:2024/7/15本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20240725/142145.html
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