一种半导体晶片酸洗装置的制作方法

本技术涉及半导体生产，特别涉及一种半导体晶片酸洗装置。

背景技术：

1、半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的。常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等，硅是各种半导体材料应用中最具有影响力的一种。

2、申请号为cn201821928518.1的中国专利申请就公开了一种半导体晶片酸洗装置，包括底座与承载台，底座中间位置开设有清洗槽，清洗槽顶部设置有喷洗部件，底座底部设置有排污口，排污口与清洗槽连通，排污口上固定安装有电磁阀，底座顶部固定设置有支撑架，承载台固定安装在支撑架顶部，承载台上滑动设置有齿条，承载台顶部固定安装有电机，电机输出端固定安装有齿轮，齿轮与齿条相互啮合，齿条底部两侧固定安装有液压缸，液压缸底部固定设置有连接杆，连接杆底部固定安装有镂空板，镂空板顶部固定设置有清洗篮，本实用新型为一种半导体晶片酸洗装置，能够通过齿条左右移动带动清洗篮左右摇摆，这样有效的提高了清洗的效果，简单实用。

3、然而现有的酸洗装置仍存在一些缺陷，只能对半导体晶片进行简单的冲洗，导致半导体晶片表面清洗不彻底，影响半导体晶片的后续使用。

技术实现思路

1、针对现有技术中的上述不足，本实用新型提供了一种半导体晶片酸洗装置，其目的是解决只能对半导体晶片进行简单的冲洗，导致半导体晶片表面清洗不彻底，影响半导体晶片的后续使用等问题。

2、为了达到上述实用新型目的，本实用新型采用的技术方案为：一种半导体晶片酸洗装置，包括箱体，所述箱体的底部安装有储液箱，所述储液箱的内部安装有喷洗机构，所述箱体的内部安装有升降板，所述升降板的上表面连接有驱动箱，所述驱动箱的内部安装有刷洗机构，所述驱动箱的上表面与箱体之间连接有升降机构；

3、所述刷洗机构包括安装在驱动箱内部的清洗电机，所述清洗电机的输出端连接有驱动轴，所述驱动轴上安装有锥齿轮一，所述驱动箱的底部套设有转轴，所述转轴的顶端安装有锥齿轮二，所述锥齿轮二与锥齿轮一之间相啮合，所述转轴的底端连接有毛刷。

4、进一步的，所述升降机构包括安装在箱体一侧的驱动电机，所述驱动电机的输出端连接有螺纹杆，所述螺纹杆上螺纹连接有滑块，所述滑块上安装有铰接座一，所述驱动箱的上表面安装有铰接座二，所述铰接座二与铰接座一之间铰接有活动杆。

5、进一步的，所述喷洗机构包括安装在储液箱底部的循环泵，所述循环泵的出水口连接有送水管，所述送水管的另一端伸入箱体内部连接有冲洗喷头，所述储液箱的内部安装有过滤网。

6、进一步的，所述箱体的内壁上设有导轨，所述升降板的两端连接有辅助块，所述辅助块在导轨上滑动。

7、进一步的，所述储液箱的上表面设有放置槽，所述放置槽之间设有漏水孔。

8、进一步的，所述箱体的下表面固定连接有支撑座。

9、本实用新型的有益效果为：

10、本实用新型的一种半导体晶片酸洗装置，通过循环泵抽取储液箱内部的酸液，再由送水管输送至冲洗喷头，对半导体晶片的表面进行冲洗，在进行冲洗的同时，通过启动驱动电机，带动螺纹杆转动，进而带动活动杆旋转，调节升降板的高度，启动清洗电机，带动驱动轴上的锥齿轮一转动，进而带动转轴底端的毛刷转动，可以同时对多个半导体晶片的表面进行刷洗，提高清洁效率，清洗过后的酸液，通过漏水孔流到储液箱内部，再由过滤网进行过滤，可以储液箱内的酸液循环使用，可以减少硫酸的用量，节约生产成本。

技术特征：

1.一种半导体晶片酸洗装置，其特征在于，包括箱体(1)，所述箱体(1)的底部安装有储液箱(2)，所述储液箱(2)的内部安装有喷洗机构(3)，所述箱体(1)的内部安装有升降板(4)，所述升降板(4)的上表面连接有驱动箱(5)，所述驱动箱(5)的内部安装有刷洗机构(6)，所述驱动箱(5)的上表面与箱体(1)之间连接有升降机构(7)；

2.根据权利要求1所述的一种半导体晶片酸洗装置，其特征在于：所述升降机构(7)包括安装在箱体(1)一侧的驱动电机(701)，所述驱动电机(701)的输出端连接有螺纹杆(702)，所述螺纹杆(702)上螺纹连接有滑块(703)，所述滑块(703)上安装有铰接座一(704)，所述驱动箱(5)的上表面安装有铰接座二(705)，所述铰接座二(705)与铰接座一(704)之间铰接有活动杆(706)。

3.根据权利要求1所述的一种半导体晶片酸洗装置，其特征在于：所述喷洗机构(3)包括安装在储液箱(2)底部的循环泵(301)，所述循环泵(301)的出水口连接有送水管(302)，所述送水管(302)的另一端伸入箱体(1)内部连接有冲洗喷头(303)，所述储液箱(2)的内部安装有过滤网(304)。

4.根据权利要求1所述的一种半导体晶片酸洗装置，其特征在于：所述箱体(1)的内壁上设有导轨(101)，所述升降板(4)的两端连接有辅助块(102)，所述辅助块(102)在导轨(101)上滑动。

5.根据权利要求1所述的一种半导体晶片酸洗装置，其特征在于：所述储液箱(2)的上表面设有放置槽(201)，所述放置槽(201)之间设有漏水孔(202)。

6.根据权利要求1所述的一种半导体晶片酸洗装置，其特征在于：所述箱体(1)的下表面固定连接有支撑座(8)。

技术总结本技术公开了一种半导体晶片酸洗装置，包括箱体，所述箱体的底部安装有储液箱，所述储液箱的内部安装有喷洗机构，所述箱体的内部安装有升降板，所述升降板的上表面连接有驱动箱，所述驱动箱的内部安装有刷洗机构，所述驱动箱的上表面与箱体之间连接有升降机构。本技术的一种半导体晶片酸洗装置，通过循环泵抽取储液箱内部的酸液，再由送水管输送至冲洗喷头，对半导体晶片的表面进行冲洗，在进行冲洗的同时，通过启动驱动电机，带动螺纹杆转动，进而带动活动杆旋转，调节升降板的高度，启动清洗电机，带动驱动轴上的锥齿轮一转动，进而带动转轴底端的毛刷转动，可以同时对多个半导体晶片的表面进行刷洗，提高清洁效率。技术研发人员：王汉清受保护的技术使用者：江苏阀邦半导体材料科技有限公司技术研发日：20231201技术公布日：2024/7/23