清洁装置及利用该清洁装置的粉体处理装置的制作方法

本发明涉及一种清洁残留在被清洁对象上的热熔性粉体的清洁装置及利用该清洁装置的粉体处理装置。

背景技术：

1、以往，作为这种类型的清洁装置，例如已知有专利文献1～3中记载的清洁装置。

2、专利文献1中公开有一种清洁装置，其构成为如下，即，与设置装置主体的环境的变动对应地通过温调单元对清洁刮板进行加热或冷却，或者附设补充清洁刮板的弹性变化的刮板辅助部件，由此与设置装置主体的环境的变动对应地补充清洁刮板的弹性力，始终适当地维持清洁刮板相对于图像承载体的抵接角及侵入量。

3、专利文献2中公开有一种清洁装置，其具有与作为被清洁体的中间转印带抵接的清洁刮板，将该清洁刮板固定于导热性良好的刮板托架，在该托架设置加热机构，对清洁刮板进行加热，使针对带的追随接触性良好。

4、专利文献3中，将清洁刮板、发热体及回收色调剂传送机构的铅垂方向的位置关系设为从上到下为清洁刮板、发热体、回收色调剂传送机构的顺序。并且，公开有一种图像形成装置，其在水平方向上覆盖清洁刮板及支承清洁刮板的部件和发热体的一部分。

5、专利文献1：日本特开2007-163611号公报(用于实施发明的优选方式，图2)

6、专利文献2：日本特开平05-307346号公报(实施例，图1)

7、专利文献3：日本特开2018-054646号公报(用于实施发明的方式，图2)

技术实现思路

1、本发明所要解决的技术课题在于提供一种清洁装置及利用该清洁装置的粉体处理装置，所述清洁装置在利用具有弹性的板状清洁机构清洁残留在被清洁对象上的热熔性粉体时，即使在清洁机构容易硬化的低温环境下，也良好地保持清洁机构相对于被清洁对象的接触状态，并改善基于清洁机构的清洁性能的降低。

2、本发明的第1技术特征是一种清洁装置，其特征在于，具备：板状清洁机构，前端部与沿预先确定的方向移动的被清洁对象的表面接触而配置，向与被清洁对象的移动方向对置的方向倾斜设置，并且具有清洁残留在所述被清洁对象上的热熔性粉体的弹性；对置机构，与所述被清洁对象的背面侧接触而配置，并设置成夹着所述被清洁对象与所述清洁机构对置；及加热机构，通过对所述对置机构进行加热来将所述清洁机构的接触部加热至比所述粉体的软化点低的温度。

3、本发明的第2技术特征是具备第1技术特征的清洁装置，其特征在于，所述加热机构将所述对置机构加热至比所述粉体的软化点低的温度。

4、本发明的第3技术特征是具备第1或第2技术特征的清洁装置，其特征在于，所述加热机构与所述对置机构接触而进行加热。

5、本发明的第4技术特征是具备第3技术特征的清洁装置，其特征在于，所述对置机构具有空心部，所述加热机构配备于所述空心部。

6、本发明的第5技术特征是具备第3技术特征的清洁装置，其特征在于，所述加热机构与所述对置机构的表面接触而配置。

7、本发明的第6技术特征是具备第3技术特征的清洁装置，其特征在于，所述对置机构在金属制轴的周围具有合成树脂制辊主体，所述加热机构与所述轴的两端接触而对所述对置机构进行加热。

8、本发明的第7技术特征是具备第1或第2技术特征的清洁装置，其特征在于，所述加热机构利用其他热源的热，以非接触状态对所述对置机构进行局部加热。

9、本发明的第8技术特征是具备第7技术特征的清洁装置，其特征在于，所述加热机构中，在所述其他热源与所述对置机构之间配设空气流通机构，经由所述空气流通机构将由所述其他热源产生的热引导至所述对置机构。

10、本发明的第9技术特征是具备第1至第8技术特征中的任一技术特征的清洁装置，其特征在于，所述对置机构包含所述清洁机构的接触部区域而对置配置。

11、本发明的第10技术特征是具备第9技术特征的清洁装置，其特征在于，所述对置机构以与所述被清洁对象接触的状态移动，所述清洁机构追随所述对置机构的移动而移动。

12、本发明的第11的技术特征是具备第1至第8技术特征中的任一技术特征的清洁装置，其特征在于，所述对置机构对置配置于靠近所述清洁机构的接触部区域的位置。

13、本发明的第12技术特征是一种粉体处理装置，其特征在于，具备：处理机构，利用热熔性粉体实施预先确定的处理；及具备第1至第11技术特征中的任一技术特征的清洁装置，清洁残留在沿预先确定的方向移动的被清洁对象上的所述粉体。

14、本发明的第13的技术特征是具备第12技术特征的粉体处理装置，其特征在于，具备：温度检测机构，检测所述被清洁对象周围的环境温度；及控制机构，在所述温度检测机构达到预先确定的低温环境的温度条件的情况下，使所述清洁装置的所述加热机构工作。

15、发明效果

16、根据本发明的第1技术特征，在利用具有弹性的板状清洁机构清洁残留在被清洁对象上的热熔性粉体时，即使在清洁机构容易硬化的低温环境下，也能够良好地保持清洁机构相对于被清洁对象的接触状态，并改善基于清洁机构的清洁性能的降低。

17、根据本发明的第2技术特征，避免对清洁机构的接触部进行过度加热的情况，能够在不使被清洁对象上的粉体熔融的情况下进行清洁。

18、根据本发明的第3技术特征，与以非接触状态对对置机构进行加热的情况相比，能够效率良好地将加热机构的热传递至对置机构。

19、根据本发明的第4技术特征，不在对置机构的外部设置加热机构就能够从内部对对置机构进行加热。

20、根据本发明的第5技术特征，能够直接对对置机构的表面进行加热。

21、根据本发明的第6技术特征，能够有效地对空心辊形态的对置机构进行加热。

22、根据本发明的第7技术特征，不使用专用热源作为加热机构就能够以非接触状态对对置机构进行加热。

23、根据本发明的第8技术特征，能够简单地构建利用其他热源的非接触型加热机构。

24、根据本发明的第9技术特征，能够有效地将来自被加热的对置机构的热传递至清洁机构的接触部。

25、根据本发明的第10技术特征，即使是对置机构相对于被清洁对象移动的方式，也能够保持对置机构与清洁机构的相对位置关系，并对清洁机构的接触部保持来自对置机构的热传递性能。

26、根据本发明的第11技术特征，能够经由被清洁对象对清洁机构的接触部区域传递被加热的对置机构的热。

27、根据本发明的第12技术特征，能够构建包括如下清洁装置的粉体处理装置，所述清洁装置在利用具有弹性的板状清洁机构清洁残留在被清洁对象上的热熔性粉体时，即使在清洁机构容易硬化的低温环境下，也能够良好地保持清洁机构相对于被清洁对象的接触状态，并改善基于清洁机构的清洁性能的降低。

28、根据本发明的第13技术特征，能够在清洁机构容易硬化的低温环境下对清洁机构适当地进行加热。

技术特征：

1.一种清洁装置，其特征在于，具备：

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，

3.根据权利要求1或2所述的清洁装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的清洁装置，其特征在于，

5.根据权利要求3所述的清洁装置，其特征在于，

6.根据权利要求3所述的清洁装置，其特征在于，

7.根据权利要求1或2所述的清洁装置，其特征在于，

8.根据权利要求7所述的清洁装置，其特征在于，

9.根据权利要求1至8中任一项所述的清洁装置，其特征在于，

10.根据权利要求9所述的清洁装置，其特征在于，

11.根据权利要求1至8中任一项所述的清洁装置，其特征在于，

12.一种粉体处理装置，其特征在于，具备：

13.根据权利要求12所述的粉体处理装置，其特征在于，具备：

技术总结本发明提供清洁装置及利用该清洁装置的粉体处理装置。清洁装置的特征在于，具备：板状清洁机构，前端部与沿预先确定的方向移动的被清洁对象的表面接触而配置，向与被清洁对象的移动方向对置的方向倾斜设置，并且具有清洁残留在所述被清洁对象上的热熔性粉体的弹性；对置机构，与所述被清洁对象的背面侧接触而配置，并设置成夹着所述被清洁对象与所述清洁机构对置；及加热机构，通过对所述对置机构进行加热来将所述清洁机构的接触部加热至比所述粉体的软化点低的温度。技术研发人员：御供喜保,下平彬受保护的技术使用者：富士胶片商业创新有限公司技术研发日：技术公布日：2024/7/23