一种均匀镀膜的镀膜装置的制作方法

本技术涉及镀膜设备，具体为一种均匀镀膜的镀膜装置。

背景技术：

1、镀膜装置是一种用于在物体表面形成薄膜的设备，根据不同的应用方式，镀膜装置可以分为真空蒸发镀膜法、化学气相沉积镀膜法、磁控溅射镀膜法等，镀膜离子束为一种对表面处理的技术，它主要是通过离子束对靶材进行轰击，从而使得沉积薄膜的方法，离子束辅助沉积技术和离子束溅射沉积技术皆是离子镀膜技术中的一种，现在的镀膜装置在镀膜的过程中对镀膜均匀性的要求更高，所以现在更需要一种能实现均匀镀膜的镀膜装置。

2、现有技术在使用的过程中还存在以下缺陷：

3、1、现有技术中的镀膜装置的置物台位置较为固定，放置于其上方的待镀膜件的位置也较为固定，在进行镀膜的过程中因为镀膜方向以及待镀膜件的固定，从而导致镀膜可能出现不均匀的情况，使得待镀膜件可能需要反复重新的镀膜，大大降低了工作效率；

4、2、现有技术中的镀膜装置需要一种可调整的修正板，因为蒸发源到待镀膜件中存在一定的距离，且根据镀膜材料和镀膜需求的改变，要实现均匀镀膜的情况，需要通过对修正板的覆盖面积进行改变，从而来使得工作效率获得较大的提高。

5、鉴于此我们提出一种均匀镀膜的镀膜装置来解决现有的问题。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种均匀镀膜的镀膜装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种均匀镀膜的镀膜装置，包括镀膜装置，所述镀膜装置内部设置有真空腔，所述真空腔底部一侧安装有离子源，所述真空腔靠近离子源一侧安装有第一转向打击源，所述真空腔顶部靠近第一转向打击源处安装有装夹板，所述真空腔顶部远离第一转向打击源处安装有第二转向打击源，所述第二转向打击源两侧安装有固定杆，所述固定杆下端安装有修正板，所述修正板内部设置有内调整板，所述修正板上设置有通孔，所述修正板中心位置处设置有中心调整孔，所述真空腔底部远离离子源一侧安装有底座，所述底座中心处安装有中心转轴，所述中心转轴上固定有随动齿轮，所述随动齿轮两侧连接有主动齿轮，所述主动齿轮中心处安装有电机转轴，所述电机转轴下端连接有电机，所述中心转轴上端安装有置物平台，所述置物平台上端两侧安装有竖板，所述竖板上安装有弹簧，所述弹簧一端安装有夹板。

3、优选的，所述装夹板下端安装有靶材。

4、优选的，所述中心转轴两端设置有保护凹槽。

5、优选的，所述镀膜装置上端安装有真空泵。

6、优选的，所述镀膜装置靠近修正板一侧安装有盖头。

7、优选的，所述弹簧一端连接有竖板，且弹簧另一端连接有夹板。

8、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

9、1、本实用新型通过在镀膜装置上设置可自由旋转的置物平台，使得放置于置物平台上端的待镀膜件变的较为灵活，在进行镀膜的过程中，能有效的通过置物平台的旋转从而使得待镀膜件的镀膜变得更加均匀，能有效的提高镀膜的质量。

10、2、本实用新型通过在镀膜装置中设计一中可以调整的修正板，通过更具蒸发源与镀膜件之间距离的不同以及镀膜材料等的不同，来对修正板做出一定程度的改变，从而有效实现均匀镀膜的情况，通过改变修正板的覆盖面积来对其改变，大大提高工作的效率。

技术特征：

1.一种均匀镀膜的镀膜装置，包括镀膜装置(1)，其特征在于：所述镀膜装置(1)内部设置有真空腔(2)，所述真空腔(2)底部一侧安装有离子源(3)，所述真空腔(2)靠近离子源(3)一侧安装有第一转向打击源(4)，所述真空腔(2)顶部靠近第一转向打击源(4)处安装有装夹板(6)，所述真空腔(2)顶部远离第一转向打击源(4)处安装有第二转向打击源(9)，所述第二转向打击源两侧安装有固定杆(8)，所述固定杆(8)下端安装有修正板(12)，所述修正板(12)内部设置有内调整板(11)，所述修正板(12)上设置有通孔(14)，所述修正板(12)中心位置处设置有中心调整孔(13)，所述真空腔(2)底部远离离子源(3)一侧安装有底座(15)，所述底座(15)中心处安装有中心转轴(16)，所述中心转轴(16)上固定有随动齿轮(17)，所述随动齿轮(17)两侧连接有主动齿轮(18)，所述主动齿轮(18)中心处安装有电机转轴(20)，所述电机转轴(20)下端连接有电机(19)，所述中心转轴(16)上端安装有置物平台(21)，所述置物平台(21)上端两侧安装有竖板(22)，所述竖板(22)上安装有弹簧(23)，所述弹簧(23)一端安装有夹板(24)。

2.根据权利要求1所述的一种均匀镀膜的镀膜装置，其特征在于：所述装夹板(6)下端安装有靶材(7)。

3.根据权利要求1所述的一种均匀镀膜的镀膜装置，其特征在于：所述中心转轴(16)两端设置有保护凹槽(25)。

4.根据权利要求1所述的一种均匀镀膜的镀膜装置，其特征在于：所述镀膜装置(1)上端安装有真空泵(5)。

5.根据权利要求1所述的一种均匀镀膜的镀膜装置，其特征在于：所述镀膜装置(1)靠近修正板(12)一侧安装有盖头(10)。

6.根据权利要求1所述的一种均匀镀膜的镀膜装置，其特征在于：所述弹簧(23)一端连接有竖板(22)，且弹簧(23)另一端连接有夹板(24)。

技术总结本技术涉及镀膜设备技术领域，尤其涉及一种均匀镀膜的镀膜装置，其技术方案包括镀膜装置，所述镀膜装置内部设置有真空腔，所述真空腔底部一侧安装有离子源，所述真空腔靠近离子源一侧安装有第一转向打击源，所述真空腔顶部靠近第一转向打击源处安装有装夹板，所述真空腔顶部远离第一转向打击源处安装有第二转向打击源，所述第二打击源两侧安装有固定杆，所述固定杆下端安装有修正板。本技术通过在镀膜装置上设置可自由旋转的置物平台，使得放置于置物平台上端的待镀膜件变的较为灵活，在进行镀膜的过程中，能有效的通过置物平台的旋转从而使得待镀膜件的镀膜变得更加均匀，能有效的提高镀膜的质量。技术研发人员：蒋丽丽受保护的技术使用者：苏州美芝恩电子科技有限公司技术研发日：20231010技术公布日：2024/7/23