一种电化学沉积装置的制作方法

本技术属于电化学沉积领域，具体涉及一种电化学沉积装置。

背景技术：

1、电沉积是建立在电化学理论基础上的成膜技术，通过电沉积技术在材料表面获得具有一定功能的膜层，是一种历史较长、工艺相对成熟的表面处理技术。在现有的电化学沉积装置中，所述电化学沉积装置多是以两个电极夹为固定装置，用以平行放置阴极和阳极。现有技术cn114618017a公开了以固定铂丝的电极夹为阳极，固定钛片的电极夹为阴极，将铂丝正对钛片中央进行电化学沉积。然而这种组合装置中两个电极之间不平行，阴极体积过小，无法覆盖整个阳极，导致其所制备的电沉积膜在正对铂丝的位置通常有一定的凹陷，导致整体均匀性欠佳，且此类装置无法准确调整两电极之间的距离，导致实验结果的稳定性欠佳。此外，此类装置所搭配的阴极电极片面积一般不超过20cm2，不适用于放大生产。

2、现有技术cn206330932u公开了一种用于电化学沉积的夹具和电化学沉积装置，该夹具包括用于夹持生长基底的夹板、用于承载对电极的平板、用于安置参比电极的支撑件和底座，夹板和底座通过支柱固定在一起，平板通过支柱沿着第一方向可调节地安装在夹板和底座之间，且夹板、平板和底座相互平行，所述支撑件设置在夹板和平板之间，其中在所述夹板上安装有测温探头。该电化学沉积装置包括电解池、上述夹具、电化学工作站、水浴恒温系统、以及测温表和可选的显示终端，所述电解池用于放置所述夹具。采用该现有技术的电化学沉积装置制备的材料的均匀性可以得到极大提升。但是该现有技术中的电极不能被稳定地固定，容易掉落，且该现有技术需要单独的底座固定该装置，结构相对复杂。

技术实现思路

1、为了解决上述现有技术存在的问题，即两个电极之间不平行，电极不能被稳定的固定，容易掉落，且结构相对复杂，本实用新型提供一种电化学沉积装置，包括如下技术方案：

2、一种电化学沉积装置，包括电解池和电极架，所述电极架设置于所述电解池内部，所述电极架包括底座框架以及设置于所述底座框架上方的上层框架，所述上层框架用于夹持电极片，所述的底座框架上设置开口向上的凹槽，所述凹槽用于放置另一电极片。

3、进一步地，所述底座框架与上层框架沿水平方向平行，所述上层框架设置于底座框架正上方，上层框架包括第一上层框架和第二上层框架，第一上层框架和第二上层框架的角与角之间紧密贴合、边与边之间为镂空层，镂空层用于夹持另一电极片。

4、进一步地，所述上层框架的中部为网格状结构。

5、进一步地，所述的电极架还包括定位柱，所述定位柱设置于所述底座框架的框体上，所述上层框架在与定位柱对应的位置上开设固定孔，上层框架通过固定孔穿设在定位柱上。

6、进一步地，所述电极架还包括垫圈，所述垫圈穿设于定位柱中，垫圈底面接触底座框架，垫圈顶面接触上层框架。

7、进一步地，所述垫圈高度包括0.5cm、1cm、1.5cm、2cm。

8、进一步地，所述的电极架还包括提手，所述提手的底端设置于所述底座框架相对的边上，提手的顶端高于电解池的上端。

9、进一步地，所述的提手侧壁上开设倒角的孔，孔的上端高于电解池的上端。

10、进一步地，所述上层框架的侧壁内凹。

11、进一步地，所述电解池、电极架均为绝缘材料。

12、与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：

13、1)本实用新型的底座框架上设置开口向上的凹槽，所述凹槽用于放置电极片，能够保证电极片被稳定地承载，不易掉落；

14、2)本实用新型的电极架的底座框架和上层框架平行放置，因此能够平行相对放置等面积阴极电极片和阳极电极片，保证了所制造电场的均匀性，从而能够稳定制备整体性能均一的电沉积膜；

15、3)本实用新型的底座框架除了放置电极片，还起到对整体装置的固定的作用，不需要单独的底座，结构简单。

技术特征：

1.一种电化学沉积装置，包括电解池和电极架，所述电极架设置于所述电解池内部，所述电极架包括底座框架以及设置于所述底座框架上方的上层框架，所述上层框架用于夹持电极片，其特征在于：所述的底座框架上设置开口向上的凹槽，所述凹槽用于放置另一电极片。

2.根据权利要求1所述的电化学沉积装置，其特征在于：所述底座框架与上层框架沿水平方向平行，所述上层框架设置于底座框架正上方，上层框架包括第一上层框架和第二上层框架，第一上层框架和第二上层框架的角与角之间紧密贴合、边与边之间为镂空层，镂空层用于夹持另一电极片。

3.根据权利要求1所述的电化学沉积装置，其特征在于：所述上层框架的中部为网格状结构。

4.根据权利要求1所述的电化学沉积装置，其特征在于：所述的电极架还包括定位柱，所述定位柱设置于所述底座框架的框体上，所述上层框架在与定位柱对应的位置上开设固定孔，上层框架通过固定孔穿设在定位柱上。

5.根据权利要求4所述的电化学沉积装置，其特征在于：所述电极架还包括垫圈，所述垫圈穿设于定位柱中，垫圈底面接触底座框架，垫圈顶面接触上层框架。

6.根据权利要求5所述的电化学沉积装置，其特征在于：所述垫圈高度包括0.5cm、1cm、1.5cm、2cm。

7.根据权利要求1所述的电化学沉积装置，其特征在于：所述的电极架还包括提手，所述提手的底端设置于所述底座框架相对的边上，提手的顶端高于电解池的上端。

8.根据权利要求7所述的电化学沉积装置，其特征在于：所述的提手侧壁上开设倒角的孔，孔的上端高于电解池的上端。

9.根据权利要求8所述的电化学沉积装置，其特征在于：所述上层框架的侧壁内凹。

10.根据权利要求1-9任一项所述的电化学沉积装置，其特征在于：所述电解池、电极架均为绝缘材料。

技术总结本技术属于电化学沉积领域，具体涉及一种电化学沉积装置，包括电解池和电极架，所述电极架设置于所述电解池内部，所述电极架包括底座框架以及设置于所述底座框架上方的上层框架，所述上层框架用于夹持电极片，所述的底座框架上设置开口向上的凹槽，所述凹槽用于放置另一电极片。本技术的电极片能够被电极架稳定固定，不易掉落。技术研发人员：谈浩琪,梁宵受保护的技术使用者：江苏博创生物科技有限公司技术研发日：20230912技术公布日：2024/5/8