光窗及其制造方法、红外探测器与流程

本发明属于mems器件，尤其涉及一种光窗及其制造方法、红外探测器。

背景技术：

1、随着技术的发展，红外探测器广泛应用于汽车、电力、航空及热成像等技术领域。红外探测器一般设有一用于光线射入内部的窗口。窗口的透光率直接影响红外探测器的探测精度。

技术实现思路

1、根据本发明实施例的第一方面，提供一种光窗，包括：

2、光窗基底，具有第一表面；

3、多个增透微结构，多个所述增透微结构凸设于所述光窗基底的第一表面；

4、增透膜层，设于所述光窗基底的第一表面上，并包覆所述增透微结构。

5、在一些实施例中，所述膜层结构为增透膜层。

6、在一些实施例中，所述增透膜层背离所述第一表面的表面为光滑平面。

7、在一些实施例中，所述光窗用于透过预设波长范围的光线，相邻增透微结构之间的距离小于所述预设波长范围中的光线波长的最小尺寸。

8、在一些实施例中，所述增透微结构的高度为0.1μm-8μm；和/或，

9、相邻增透微结构之间的距离为0.1μm-6μm；和/或，

10、所述增透微结构横截面的径向尺寸为0.1μm-8μm；和/或，

11、所述增透膜层包括位于相邻增透微结构之间的第一部分和位于所述增透微结构背离所述光窗基底一侧的第二部分，所述第二部分的厚度为0.1μm-5μm；和/或，

12、所述增透膜层的材料为zns、ybf3或baf2。

13、在一些实施例中，所述膜层结构为抗静电膜层，所述抗静电膜层的介电常数小于所述光窗基底的介电常数。

14、在一些实施例中，所述增透微结构的高度为0.1μm-8μm；和/或，

15、相邻增透微结构之间的距离为0.1μm-6μm；和/或，

16、所述增透微结构横截面的径向尺寸为0.1μm-8μm；和/或，

17、所述抗静电膜层的厚度为0.1μm-5μm；和/或，

18、所述抗静电膜层的材料为sio2或al2o3。

19、在一些实施例中，所述增透微结构呈柱状；和/或，

20、所述增透微结构横截面的形状为长方形、圆形、三角形、六边形中的至少一种。

21、在一些实施例中，所述光窗包括光窗主体及位于光窗主体外围的焊接区域，所述光窗主体的第一表面设置有所述增透微结构及膜层结构，所述焊接区域的第一表面外露

22、根据本发明实施例的第二方面，提供一种红外探测器，包括探测器基底、mems器件及如上所述的光窗；所述光窗与所述探测器基底围成密封的容设腔，所述mems器件设于所述容设腔中。

23、在一些实施例中，所述膜层结构为抗静电膜层的，所述抗静电膜层朝向所述容设腔一侧设置。

24、根据本发明实施例的第三方面，提供一种光窗的制造方法，包括：

25、形成设有多个增透微结构的光窗基底，所述光窗基底具有第一表面，所述增透微结构凸设于所述光窗基底的第一表面并间隔排布；

26、形成膜层结构，所述膜层结构设于所述光窗基底的第一表面上并包覆所述增透微结构。

27、在一些实施例中，所述形成设有多个增透微结构的光窗基底包括：

28、提供基底本体；

29、对所述基底本体的一侧进行刻蚀，形成具有第一表面的光窗基底及设于光窗基底第一表面并间隔排布的多个增透微结构。

30、在一些实施例中，所述膜层结构为增透膜层，所述增透膜层背离所述第一表面的表面为光滑平面。

31、在一些实施例中，所述形成膜层结构包括：

32、在所述光窗基底的第一表面所在一侧形成增透材料层；

33、采用化学机械抛光工艺，对所述增透材料层背离所述第一表面的一侧进行处理形成光滑平面。

34、在一些实施例中，所述光窗用于透过预设波长范围的光线，相邻增透微结构之间的距离小于所述预设波长范围中的光线波长的最小尺寸。

35、在一些实施例中，所述增透微结构的高度为0.1μm-8μm；和/或，

36、相邻增透微结构之间的距离为0.1μm-6μm；和/或，

37、所述增透微结构横截面的径向尺寸为0.1μm-8μm；和/或，

38、所述增透膜层的厚度为0.1μm-5μm；和/或，

39、所述增透膜层的材料为zns、ybf3或baf2。

40、在一些实施例中，所述膜层结构为抗静电膜层，所述抗静电膜层的介电常数小于所述光窗基底的介电常数。

41、在一些实施例中，所述增透微结构的高度为0.1μm-8μm；和/或，

42、相邻增透微结构之间的距离为0.1μm-6μm；和/或，

43、所述增透微结构横截面的径向尺寸为0.1μm-8μm；和/或，

44、所述抗静电膜层的厚度为0.1μm-5μm；和/或，

45、所述抗静电膜层的材料为sio2或al2o3。

46、在一些实施例中，所述增透微结构呈柱状；和/或，

47、所述增透微结构横截面的形状为长方形、圆形、三角形、六边形中的至少一种。

48、基于上述技术方案，上述光窗，通过在光窗基底的第一表面形成增透微结构，并在光窗基底第一表面之上形成包覆增透微结构的膜层结构，从而能够很好地提高光窗的光线透过率，提高具有该光窗的红外探测器的探测精度，有利于提高具有该类光窗的红外探测器的探测精度，同时膜层结构的设置，还能够对所述增透结构进行很好的防护。

技术特征：

1.一种光窗，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的光窗，其特征在于，所述膜层结构为增透膜层。

3.如权利要求2所述的光窗，其特征在于，所述增透膜层背离所述第一表面的表面为光滑平面。

4.如权利要求2所述的光窗，其特征在于，所述光窗用于透过预设波长范围的光线，相邻增透微结构之间的距离小于所述预设波长范围中的光线波长的最小尺寸。

5.如权利要求2所述的光窗，其特征在于，所述增透微结构的高度为0.1μm-8μm；和/或，

6.如权利要求1所述的光窗，其特征在于，所述膜层结构为抗静电膜层，所述抗静电膜层的介电常数小于所述光窗基底的介电常数。

7.如权利要求6所述的光窗，其特征在于，所述增透微结构的高度为0.1μm-8μm；和/或，

8.如权利要求1所述的光窗，其特征在于，所述增透微结构呈柱状；和/或，

9.如权利要求1所述的光窗，其特征在于，所述光窗包括光窗主体及位于光窗主体外围的焊接区域，所述光窗主体的第一表面设置有所述增透微结构及膜层结构，所述焊接区域的第一表面外露。

10.一种红外探测器，其特征在于，包括探测器基底、mems器件及如权利要求1至9中任一项所述的光窗；所述光窗与所述探测器基底围成密封的容设腔，所述mems器件设于所述容设腔中。

11.如权利要求10所述的红外探测器，其特征在于，所述膜层结构为抗静电膜层的，所述抗静电膜层朝向所述容设腔一侧设置。

12.一种光窗的制造方法，其特征在于，包括：

13.如权利要求12所述的光窗的制造方法，其特征在于，所述形成设有多个增透微结构的光窗基底包括：

14.如权利要求12所述的光窗的制造方法，其特征在于，所述膜层结构为增透膜层，所述增透膜层背离所述第一表面的表面为光滑平面。

15.如权利要求14所述的光窗的制造方法，其特征在于，所述形成膜层结构包括：

16.如权利要求12所述的光窗的制造方法，其特征在于，所述光窗用于透过预设波长范围的光线，相邻增透微结构之间的距离小于所述预设波长范围中的光线波长的最小尺寸。

17.如权利要求14所述的光窗的制造方法，其特征在于，所述增透微结构的高度为0.1μm-8μm；和/或，

18.如权利要求12所述的光窗，其特征在于，所述膜层结构为抗静电膜层，所述抗静电膜层的介电常数小于所述光窗基底的介电常数。

19.如权利要求18所述的光窗，其特征在于，所述增透微结构的高度为0.1μm-8μm；和/或，

20.如权利要求12所述的光窗的制造方法，其特征在于，所述增透微结构呈柱状；和/或，

技术总结本发明提供一种光窗及其制造方法、红外探测器。所述光窗包括光窗基底、多个增透微结构及膜层结构。所述光窗基底具有第一表面。所述增透微结构凸设于所述光窗基底的第一表面。多个所述膜层结构设于所述光窗基底的第一表面上，并包覆所述增透微结构。上述光窗，通过在光窗基底的第一表面形成增透微结构，并在光窗基底的第一表面之上形成包覆增透微结构的膜层结构，从而能够很好地提高光窗的光线透过率，有利于提高具有该类光窗的红外探测器的探测精度，同时膜层结构的设置，还能够对所述增透结构进行很好的防护。技术研发人员：李志强,刘小柔,刘建华,丁金玲,崔亚春受保护的技术使用者：杭州海康微影传感科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/1/15