技术新讯 > 电气元件制品的制造及其应用技术 > 一种硅片氧化退火烧结全自动扩散炉的制作方法  >  正文

一种硅片氧化退火烧结全自动扩散炉的制作方法

  • 国知局
  • 2024-07-31 18:19:16

本技术涉及扩散炉领域,特别涉及一种硅片氧化退火烧结全自动扩散炉。

背景技术:

1、扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一,用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。

2、现有的扩散炉在对材料进行上下料处理时,容易发生位置的偏移,以此会影响材料的正常上下料工作,在材料泄露后还会造成停机的现象发生,严重会影响扩散炉的正常工作。

3、因此,提出一种硅片氧化退火烧结全自动扩散炉来解决上述问题很有必要。

技术实现思路

1、本实用新型的主要目的在于提供一种硅片氧化退火烧结全自动扩散炉,可以有效解决背景技术中的问题。

2、为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:

3、一种硅片氧化退火烧结全自动扩散炉,包括扩散炉本体,所述扩散炉本体的底部固定连接有底座,所述底座顶部的正面活动连接有接料小车,所述扩散炉本体正面的正中活动连接有第二密封盖;

4、所述扩散炉本体内腔的正面活动连接有炉体,所述炉体底部的正面安装有电动阀板,所述炉体的左右两侧对称固定连接有活动块,所述炉体顶部的右侧设置有电动滑轨,所述电动滑轨的右侧设置有测距传感器。

5、优选的,所述底座顶部左右两侧的正面对称开设有滑槽,所述接料小车底部的四周对称固定连接有万向轮,四个所述万向轮的底部对称贴合在滑槽内腔的底部,所述接料小车正面的正中固定连接有把手。

6、优选的,所述第二密封盖背面的四周对称固定连接有活动柱,四个所述活动柱的背面对称固定连接有限位块,所述活动柱的外壁缠绕有弹簧,所述弹簧的背面固定连接在限位块的正面,所述弹簧的正面固定连接在扩散炉本体内腔的正面,所述活动柱活动连接在扩散炉本体的内腔和正面。

7、优选的,所述扩散炉本体顶部的背面开设有下料区,所述下料区的顶部插接有第一密封盖,所述炉体顶部的背面开设有接料口,所述扩散炉本体右侧的背面固定连接有控制器,所述扩散炉本体右侧的正面固定连接有防爆玻璃。

8、优选的,所述扩散炉本体内腔左右的两侧对称固定连接有导向柱,两个所述活动块对称套在两个活动块的外壁,右侧所述活动块的顶部固定连接有连接杆。

9、优选的,所述电动滑轨固定连接在扩散炉本体内腔顶部的右侧,所述连接杆电性连接在电动滑轨的底部,所述测距传感器固定连接在连接杆右侧的顶部。

10、有益效果

11、与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:

12、1、该硅片氧化退火烧结全自动扩散炉,通过打开设置的第一密封盖,能将材料通过下料区注入至接料口的内腔,以此可以将材料倒入至炉体的内腔中,通过启动设置的电动滑轨,使得连接杆能带动右侧的活动块进行前后移动,以此方便炉体对材料进行上下料处理。

13、2、该硅片氧化退火烧结全自动扩散炉,通过设置的测距传感器,可以对连接杆移动的距离进行检测,在进行上下料时,可以将炉体移动到合适的位置,使得接料口能与下料区处于同一轴线,使得电动阀板位于接料小车的顶部,通过设置的活动块和导向柱,能对炉体的移动进行限位和导向,同时还能保证炉体移动的稳定性。

14、3、该硅片氧化退火烧结全自动扩散炉,通过设置的第二密封盖,在炉体向前移动后,会将第二密封盖向正面移动,配合打开设置的电动阀板,即可将工作完成后的材料倒入至接料小车的内腔,当炉体复位后,通过设置的活动柱,会将第二密封盖向背面收缩,使得第二密封盖能重新将扩散炉本体的正面密封,拉动把手,配合万向轮即可对接料小车进行位置的转移工作。

技术特征:

1.一种硅片氧化退火烧结全自动扩散炉,包括扩散炉本体(1),其特征在于:所述扩散炉本体(1)的底部固定连接有底座(2),所述底座(2)顶部的正面活动连接有接料小车(3),所述扩散炉本体(1)正面的正中活动连接有第二密封盖(18);

2.根据权利要求1所述的一种硅片氧化退火烧结全自动扩散炉,其特征在于:所述底座(2)顶部左右两侧的正面对称开设有滑槽,所述接料小车(3)底部的四周对称固定连接有万向轮(5),四个所述万向轮(5)的底部对称贴合在滑槽内腔的底部,所述接料小车(3)正面的正中固定连接有把手(4)。

3.根据权利要求1所述的一种硅片氧化退火烧结全自动扩散炉,其特征在于:所述第二密封盖(18)背面的四周对称固定连接有活动柱(19),四个所述活动柱(19)的背面对称固定连接有限位块(20),所述活动柱(19)的外壁缠绕有弹簧(21),所述弹簧(21)的背面固定连接在限位块(20)的正面,所述弹簧(21)的正面固定连接在扩散炉本体(1)内腔的正面,所述活动柱(19)活动连接在扩散炉本体(1)的内腔和正面。

4.根据权利要求1所述的一种硅片氧化退火烧结全自动扩散炉,其特征在于:所述扩散炉本体(1)顶部的背面开设有下料区(9),所述下料区(9)的顶部插接有第一密封盖(8),所述炉体(10)顶部的背面开设有接料口(11),所述扩散炉本体(1)右侧的背面固定连接有控制器(6),所述扩散炉本体(1)右侧的正面固定连接有防爆玻璃(7)。

5.根据权利要求1所述的一种硅片氧化退火烧结全自动扩散炉,其特征在于:所述扩散炉本体(1)内腔左右的两侧对称固定连接有导向柱(13),两个所述活动块(14)对称套在两个活动块(14)的外壁,右侧所述活动块(14)的顶部固定连接有连接杆(15)。

6.根据权利要求5所述的一种硅片氧化退火烧结全自动扩散炉,其特征在于:所述电动滑轨(16)固定连接在扩散炉本体(1)内腔顶部的右侧,所述连接杆(15)电性连接在电动滑轨(16)的底部,所述测距传感器(17)固定连接在连接杆(15)右侧的顶部。

技术总结本技术公开了一种硅片氧化退火烧结全自动扩散炉,涉及扩散炉领域,包括扩散炉本体,所述扩散炉本体的底部固定连接有底座,所述底座顶部的正面活动连接有接料小车,所述扩散炉本体正面的正中活动连接有第二密封盖,所述扩散炉本体内腔的正面活动连接有炉体,所述炉体底部的正面安装有电动阀板,所述炉体的左右两侧对称固定连接有活动块,所述炉体顶部的右侧设置有电动滑轨,所述电动滑轨的右侧设置有测距传感器。本技术所述的一种硅片氧化退火烧结全自动扩散炉,此扩散炉方便进行材料的上下料处理,同时能对成品材料进行位置的转移,在整体工作时较为安全。技术研发人员:李成明,李同权,唐光武受保护的技术使用者:聚勒微电子科技(太仓)有限公司技术研发日:20231201技术公布日:2024/7/25

本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20240731/178760.html

版权声明:本文内容由互联网用户自发贡献,该文观点仅代表作者本人。本站仅提供信息存储空间服务,不拥有所有权,不承担相关法律责任。如发现本站有涉嫌抄袭侵权/违法违规的内容, 请发送邮件至 YYfuon@163.com 举报,一经查实,本站将立刻删除。