一种自干燥半导体晶圆清洗设备的制作方法

本技术涉及半导体，尤其涉及一种自干燥半导体晶圆清洗设备。

背景技术：

1、半导体晶圆生产过程中通常使用晶圆盒传送，为保护环境，降低成本，晶圆盒往往需要重复使用，但是在传送半导体晶圆后，晶圆盒内往往会残留各类金属膜层残渣、硅片或粉末等大量颗粒物，由于半导体晶圆产品较为精密，晶圆盒的重复使用前必须将防止半导体晶圆的槽体清理干净，同时，不能影响半导体晶圆产品的质量。

2、现有清洗过后的晶圆盒需要保证干燥，传统的清洗方式主要是通过蓄水池浸泡槽洗然后通过晾干或吹风烘干的方式清洗晶圆盒，但由于晶圆盒内的槽体本身空间较为狭窄，这种方式不能将晶圆盒槽体内的颗粒物清理干净而且普通的烘干方式也不能完全烘干槽体内的水分，难以满足晶圆盒重复使用的洁净度要求。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是解决现有技术中存在半导体晶圆清理不彻底，不能完全烘干其水分的问题，而提出的一种自干燥半导体晶圆清洗设备。

2、为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种自干燥半导体晶圆清洗设备，包括第一固定箱，所述第一固定箱的一侧固定安装有水箱，所述水箱的内壁固定安装有水泵，所述水泵的输出端设置有进水管，所述进水管的另一端设置有固定块，所述固定块的顶部开设有第一限位槽，所述第一限位槽的内部设置有第二固定箱，所述第二固定箱的一侧开设有第一圆孔，所述第二固定箱的顶部固定安装有支撑杆，所述支撑杆的顶部固定安装有把手，所述第二固定箱的顶部设置有第一固定盖，所述第一固定箱的内壁固定安装有限位板，所述限位板的顶部固定安装有第一电动伸缩杆，所述第一电动伸缩杆的另一端与第二固定箱的底部相接触。

3、优选的，所述第一限位槽的底部开设有第二圆孔，所述第一限位槽的一侧开设有第三圆孔，所述固定块的一侧设置有出水管。

4、优选的，所述第一固定箱的内壁开设有滑槽，所述第一固定箱的内壁固定安装有固定板，所述固定板的一侧固定安装有第二电动伸缩杆，所述第二电动伸缩杆的另一端固定安装有滑块，所述滑块位于滑槽的内部，所述滑块的一侧固定安装有圆杆。

5、优选的，所述第一固定箱的内壁固定安装有卡板，所述卡板的顶部固定安装有第三固定箱，所述第三固定箱的一侧开设有第二限位槽，所述第二限位槽的内部设置有第二固定盖。

6、优选的，所述第三固定箱的顶部固定安装有氮气箱，所述氮气箱的底部设置有固定管，所述第三固定箱的顶部固定安装有气泵，所述气泵的输出端设置有干燥管。

7、优选的，所述第三固定箱的顶部固定安装有控制面板，所述第三固定箱的顶部固定安装有蓄电池，所述控制面板与蓄电池电性连接，所述第一固定箱的一侧设置有排水管，所述排水管的外表面设置有控制阀。

8、与现有技术相比，本实用新型的优点和积极效果在于，

9、1、本实用新型中，通过在第一固定箱的一侧安装水箱，水箱的内壁安装水泵，水泵的输出端设置进水管，进水管的另一端设置固定块，固定块的顶部开设第一限位槽，第一限位槽的内部设置第二固定箱，第二固定箱的一侧开设第一圆孔，第一限位槽的底部开设第二圆孔，第一限位槽的一侧开设第三圆孔，固定块的一侧设置出水管，可以起到使水泵开启时，水箱内的水对第二固定箱内的半导体晶圆不断进行清洗，杂质通过第一圆孔与第三圆孔流出，清理得更加彻底。

10、2、本实用新型中，通过在卡板的顶部安装第三固定箱，第三固定箱的一侧开设第二限位槽，第二限位槽的内部设置第二固定盖，第三固定箱的顶部安装氮气箱，氮气箱的底部设置固定管，第三固定箱的顶部安装气泵，气泵的输出端设置干燥管，第三固定箱的顶部安装控制面板，第三固定箱的顶部安装蓄电池，控制面板与蓄电池电性连接，可以起到使第二固定箱进入第三固定箱的内部时，可以通过气泵吹出的热风与氮气对半导体晶圆进行干燥，使其水分完全烘干。

技术特征：

1.一种自干燥半导体晶圆清洗设备，包括第一固定箱（1），其特征在于：所述第一固定箱（1）的一侧固定安装有水箱（2），所述水箱（2）的内壁固定安装有水泵（3），所述水泵（3）的输出端设置有进水管（4），所述进水管（4）的另一端设置有固定块（5），所述固定块（5）的顶部开设有第一限位槽（6），所述第一限位槽（6）的内部设置有第二固定箱（7），所述第二固定箱（7）的一侧开设有第一圆孔（8），所述第二固定箱（7）的顶部固定安装有支撑杆（9），所述支撑杆（9）的顶部固定安装有把手（10），所述第二固定箱（7）的顶部设置有第一固定盖（11），所述第一固定箱（1）的内壁固定安装有限位板（12），所述限位板（12）的顶部固定安装有第一电动伸缩杆（13），所述第一电动伸缩杆（13）的另一端与第二固定箱（7）的底部相接触。

2.根据权利要求1所述的一种自干燥半导体晶圆清洗设备，其特征在于：所述第一限位槽（6）的底部开设有第二圆孔（14），所述第一限位槽（6）的一侧开设有第三圆孔（15），所述固定块（5）的一侧设置有出水管（16）。

3.根据权利要求1所述的一种自干燥半导体晶圆清洗设备，其特征在于：所述第一固定箱（1）的内壁开设有滑槽（17），所述第一固定箱（1）的内壁固定安装有固定板（18），所述固定板（18）的一侧固定安装有第二电动伸缩杆（19），所述第二电动伸缩杆（19）的另一端固定安装有滑块（20），所述滑块（20）位于滑槽（17）的内部，所述滑块（20）的一侧固定安装有圆杆（21）。

4.根据权利要求1所述的一种自干燥半导体晶圆清洗设备，其特征在于：所述第一固定箱（1）的内壁固定安装有卡板（22），所述卡板（22）的顶部固定安装有第三固定箱（23），所述第三固定箱（23）的一侧开设有第二限位槽（24），所述第二限位槽（24）的内部设置有第二固定盖（25）。

5.根据权利要求4所述的一种自干燥半导体晶圆清洗设备，其特征在于：所述第三固定箱（23）的顶部固定安装有氮气箱（26），所述氮气箱（26）的底部设置有固定管（27），所述第三固定箱（23）的顶部固定安装有气泵（28），所述气泵（28）的输出端设置有干燥管（29）。

6.根据权利要求4所述的一种自干燥半导体晶圆清洗设备，其特征在于：所述第三固定箱（23）的顶部固定安装有控制面板（30），所述第三固定箱（23）的顶部固定安装有蓄电池（31），所述控制面板（30）与蓄电池（31）电性连接，所述第一固定箱（1）的一侧设置有排水管（32），所述排水管（32）的外表面设置有控制阀（33）。

技术总结本技术提供一种自干燥半导体晶圆清洗设备，涉及半导体技术领域，包括第一固定箱，所述第一固定箱的一侧固定安装有水箱，所述水箱的内壁固定安装有水泵。本技术中，通过在第一固定箱的一侧安装水箱，水箱的内壁安装水泵，水泵的输出端设置进水管，进水管的另一端设置固定块，固定块的顶部开设第一限位槽，第一限位槽的内部设置第二固定箱，第二固定箱的一侧开设第一圆孔，第一限位槽的底部开设第二圆孔，第一限位槽的一侧开设第三圆孔，固定块的一侧设置出水管，可以起到使水泵开启时，水箱内的水对第二固定箱内的半导体晶圆不断进行清洗，杂质通过第一圆孔与第三圆孔流出，清理得更加彻底。技术研发人员：刘煜昆,郭明灿受保护的技术使用者：潍坊明哲智能科技有限公司技术研发日：20231025技术公布日：2024/7/29