磁盘装置及制造磁盘装置的方法与流程

本发明涉及一种磁盘装置及制造磁盘装置的方法。

背景技术：

1、由于智能手机及智能家电的普及，每个人所使用的数据量正在増加。这些庞大的数据被通过互联网保存于数据中心内的磁盘装置(hdd：hard disk drive；硬盘驱动器)。为了记录庞大的数据量，需要磁盘装置的高容量化。

2、例如，引用文献1公开了一种信息记录介质用玻璃基板，其被稳定地固定于spm(主轴电机)的轮毂，即使在强冲击被施加于组装有spm的磁盘记录装置的情况下，其也不会破损。

3、[现有技术文献]

4、[专利文献]

5、专利文献1:日本特许第5392075号公报

技术实现思路

1、[发明要解决的课题]

2、作为用于实现磁盘装置的高容量化的一例，存在一种以下这样的技术动向：增加搭载于磁盘装置的磁盘的张数，并使每一台磁盘装置的数据区域扩大。关于磁盘装置，其尺寸由标准来确定，因此为了增加使其搭载的磁盘张数，需要设法使磁盘的厚度变薄等。当使磁盘的厚度变薄时，刚性会降低，在使hdd下落时等加有冲击时，磁盘会易于变形等，耐冲击性会降低。即，磁盘装置的高容量化与磁盘装置的耐冲击性处于两难的关系，需要具有优异的耐冲击性及高数据容量的磁盘装置。

3、本发明鉴于这样的实际情况而完成，其目的在于提供一种具有优异的耐冲击性及高数据容量的磁盘装置及制造磁盘装置的方法。

4、[用于解决技术课题的技术方案]

5、为了达成上述目的，本发明的第1侧面的磁盘装置包括：

6、圆盘形状的多个磁盘，其在中央部具有贯通孔，

7、间隔件，其被配置在所述磁盘之间，并在中央部具有贯通孔，

8、轮毂，其被插入到所述磁盘及所述间隔件的贯通孔中，以及

9、夹持件，其对所述磁盘及所述间隔件进行按压保持；

10、在所述磁盘与所述间隔件或所述夹持件所接触的面中，与所述间隔件或所述夹持件的外周部接触的所述磁盘的上表面的平面高度比所述间隔件或所述夹持件的内周部接触的所述磁盘的上表面的平面高度更低。

11、在所述磁盘与所述间隔件或所述夹持件所接触的面中，与所述间隔件或所述夹持件的外周部接触的所述磁盘的平面高度、以及与所述间隔件或所述夹持件的内周部接触的所述磁盘的平面高度之差在－3.0μm以下为好。

12、关于至少被配置于最上部的所述磁盘，在所述磁盘与所述夹持件所接触的面中，与所述夹持件的外周部接触的所述磁盘的上表面的平面高度比与所述夹持件的内周部接触的所述磁盘的上表面的平面高度更低为好。

13、所述磁盘的厚度在0.48mm以下为好。

14、所述磁盘的厚度在0.36mm以下为好。

15、为了达成上述目的，制造本发明的第2侧面的磁盘装置的方法为一种制造磁盘装置的方法，该磁盘装置包括：

16、圆盘形状的多个磁盘，其在中央部具有贯通孔，

17、间隔件，其被配置于所述磁盘之间，在中央部具有贯通孔，

18、轮毂，其被插入到所述磁盘及所述间隔件的贯通孔中，以及

19、夹持件，其对所述磁盘及所述间隔件进行按压保持；

20、该方法包括：

21、对与所述间隔件或所述夹持件的外周部接触的所述磁盘的上表面的平面高度、以及与所述间隔件或所述夹持件的内周部接触的所述磁盘的上表面的平面高度进行测定的工序，以及

22、以与所述间隔件或所述夹持件的外周部接触的所述磁盘的上表面的平面高度变得比与所述间隔件的内周部接触的所述磁盘的上表面的平面高度更低的配置，将所述磁盘插入到所述轮毂中的工序。

23、发明效果

24、根据本发明，能够提供一种具有优异的耐冲击性及高数据容量的磁盘装置及制造磁盘装置的方法。

技术特征：

1.一种磁盘装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的磁盘装置，其特征在于，

3.如权利要求1或2所述的磁盘装置，其特征在于，

4.如权利要求1～3的任意一项所述的磁盘装置，其特征在于，

5.如权利要求1～3的任意一项所述的磁盘装置，其特征在于，

6.一种制造磁盘装置的方法，该磁盘装置包括：

技术总结磁盘装置包括圆盘形状的多个磁盘(30)、间隔件(80)、轮毂(90)、以及夹持件(70)。磁盘(30)在中央部具有贯通孔。间隔件(80)被配置在磁盘(30)之间，在中央部具有贯通孔。轮毂(90)被插入到磁盘(30)及间隔件(80)的贯通孔中。夹持件(70)对磁盘(30)及间隔件(80)进行按压保持。在磁盘(30)与间隔件(80)或夹持件(70)所接触的面中，与间隔件(80)或夹持件(70)的外周部接触的磁盘(30)的上表面的平面高度比与间隔件(80)或夹持件(70)的内周部接触的磁盘(30)的上表面的平面高度更低。技术研发人员：北胁高太郎,山田凉平,东藤慎平,畠山英之受保护的技术使用者：株式会社UACJ技术研发日：技术公布日：2024/1/15