磁盘用基板及其制造方法以及磁盘与流程

本发明涉及一种磁盘用基板及其制造方法以及磁盘。更详细而言，涉及一种磁盘用基板及其制造方法以及磁盘，所述磁盘用基板虽然较薄但长期使用后也能够保持高平坦度，能够应对硬盘的高容量化，能够提高长期可靠性。

背景技术：

1、近年来，由于云计算的迅速普及，对数据中心使用的硬盘要求高容量化。相应地，采取了借由磁盘用基板的大直径化和薄化来增加基板装载张数等对策，但由于硬盘用壳体的尺寸已经标准化，因此，为难以实现进一步的大直径化的状态。因此，强烈期望磁盘用基板的薄化。但是，薄化的基板由于刚性降低，因此，在长期使用硬盘时，存在容易产生磁头崩溃等物理性错误的倾向。因此，例如，相较于厚度0.50mm以上的厚基板，厚度不足0.50mm的薄基板有可能在长期使用硬盘时产生不良影响的基板的平坦度更增加。

2、迄今为止，为了减少硬盘中的物理性错误，也进行了一些关于平坦化技术的研究(例如专利文献1)。但是，这些都只着眼于精密研磨加工后的平坦度，这种以往的平坦化基板在实际使用环境中的长期可靠性方面还有待改善。

3、[先前技术文献]

4、(专利文献)

5、专利文献1：日本特开2015-135720号公报

技术实现思路

1、[发明所要解决的问题]

2、本发明的目的在于提供一种磁盘用基板及其制造方法以及磁盘，所述磁盘用基板虽然较薄但长期使用后也能够保持高平坦度，能够应对硬盘的高容量化，且能够提高长期可靠性。

3、[解决问题的技术手段]

4、本发明人进行了深入研究，结果发现，借由改善作为模拟实际使用环境的加速试验而进行的热冲击试验后的基板的平坦度，可以得到能够应对硬盘的高容量化、具有高长期可靠性的磁盘用基板及磁盘，达到完成本发明。

5、为了实现上述目的，本发明的主旨构造如下所述。

6、(1)一种磁盘用基板，对前述基板，将以120℃加热30分钟后以-40℃冷却30分钟的过程设为1个循环时，将该循环反复进行200个循环的热冲击试验后在前述基板的表面以25℃测定的平坦度pv为12μm以下。

7、(2)根据上述(1)所述的磁盘用基板，其厚度尺寸不足0.50mm。

8、(3)根据上述(1)或(2)所述的磁盘用基板，其外径尺寸为95mm以上。

9、(4)根据上述(1)～(3)中任一项所述的磁盘用基板，其中，前述基板的材质为玻璃或铝合金。

10、(5)根据上述(1)～(4)中任一项所述的磁盘用基板，其用于热辅助磁记录方式(heat assisted magnetic recording,hamr)或微波辅助磁记录方式(microwaveassisted magnetic recording,mamr)的磁盘。

11、(6)一种磁盘，对前述磁盘，将以120℃加热30分钟后以-40℃冷却30分钟的过程设为1个循环时，将该循环反复进行200个循环的热冲击试验后在前述磁盘的表面以25℃测定的平坦度pv为12μm以下。

12、(7)一种磁盘用基板的制造方法，为制造上述(1)～(5)中任一项所述的磁盘用基板的方法，特征在于，包括：粗研磨工序，对盘状空白基板的两个表面进行粗研磨；及，精密研磨工序，对粗研磨后的前述空白基板的两个表面进行精密研磨；

13、还包括虚设研磨工序，在前述粗研磨工序之前，对于在与前述空白基板相同条件下制造的虚设基板，利用在前述粗研磨工序中使用的研磨垫，对前述虚设基板进行研磨，直到在前述粗研磨工序中粗研磨后的前述空白基板的至少一个表面上的、以截止波长0.4～5.0mm测定时的算术平均波纹度wa不足2.5nm为止，来调整在前述粗研磨工序中使用的研磨垫的表面，

14、在前述粗研磨工序中，在前述空白基板的粗研磨的中途，使前述空白基板的表背面翻转。

15、(发明的效果)

16、根据本发明，提供了一种磁盘用基板及磁盘，所述磁盘用基板虽然较薄但长期使用后也能够保持高平坦度，能够应对硬盘的高容量化，且能够提高长期可靠性。

技术特征：

1.一种磁盘用基板，对前述基板，将以120℃加热30分钟后以-40℃冷却30分钟的过程设为1个循环时，将该循环反复进行200个循环的热冲击试验后在前述基板的表面以25℃测定的平坦度pv为12μm以下。

2.根据权利要求1所述的磁盘用基板，其厚度尺寸不足0.50mm。

3.根据权利要求1或2所述的磁盘用基板，其外径尺寸为95mm以上。

4.根据权利要求1或2所述的磁盘用基板，其中，前述基板的材质为玻璃或铝合金。

5.根据权利要求1或2所述的磁盘用基板，其用于热辅助磁记录方式(hamr)或微波辅助磁记录方式(mamr)的磁盘。

6.一种磁盘，对前述磁盘，将以120℃加热30分钟后以-40℃冷却30分钟的过程设为1个循环时，将该循环反复进行200个循环的热冲击试验后在前述磁盘的表面以25℃测定的平坦度pv为12μm以下。

7.一种磁盘用基板的制造方法，为制造权利要求1或2所述的磁盘用基板的方法，特征在于，包括：粗研磨工序，对盘状空白基板的两个表面进行粗研磨；及，精密研磨工序，对粗研磨后的前述空白基板的两个表面进行精密研磨；

技术总结本发明的目的在于提供一种磁盘用基板及其制造方法以及磁盘，所述磁盘用基板虽然较薄但长期使用后也能够保持高平坦度，能够应对硬盘的高容量化，且能够提高长期可靠性。本发明为一种磁盘用基板，对前述基板，将以120℃加热30分钟后以‑40℃冷却30分钟的过程设为1个循环时，将该循环反复进行200个循环的热冲击试验后在前述基板的表面以25℃测定的平坦度PV为12μm以下。本发明还包括在相同条件下具有相同的平坦度PV的磁盘。本发明进一步还包括这些磁盘用基板的制造方法。技术研发人员：畠山英之,滝口浩一郎受保护的技术使用者：古河电气工业株式会社技术研发日：技术公布日：2024/4/24