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具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构的制作方法

  • 国知局
  • 2024-08-02 15:13:32

本发明涉及具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构,更详细地,涉及一种无需解除真空腔室的真空度便可使得原有利用真空紫外线的除静电装置从真空腔室自由拆装的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构。

背景技术:

1、为了事先预防在lcd、oled、晶片等各种基板或者片状结构或各种膜结构等各种材料或者制品处理工序中,因附着细微灰尘或静电而发生器件损坏等问题,通常安装除静电装置。

2、另一方面,最近随着lcd、oled、半导体技术进一步精密化,在减压真空环境下进行的例如沉积工序或真空腔室内工序,或在特殊环境下进行的例如处置惰性气体等工序也呈现大幅增加的趋势。

3、在这种特殊环境下,电晕放电式装置因高压放电导致的溅射现象、离子平衡调整导致的不便等问题,存在难以应用的问题,x射线辐射式装置由于除电性能低而存在难以应用的问题。

4、因此,最近开发了照射真空紫外线来执行除电的利用真空紫外线的除静电装置技术,这种利用真空紫外线的除静电装置加装于减压或惰性气体的真空腔室的视口,用以去除在显示面板或半导体晶片中产生的静电。

5、但是,这种利用真空紫外线的除静电装置的寿命较短,约为2000小时,因而每当更换制品时,需解除真空腔室的真空度,因此存在难以满足需求方制造工序进度的问题。

6、而且,以往的利用真空紫外线的除静电装置随着运转时间的推移,在真空紫外线灯表面吸附有异物,真空紫外线光量减少,因而发生除静电性能低下的问题。

7、【现有技术文献】

8、【专利文献】

9、(专利文献1)韩国授权专利第10-2065347号(2020.01.07)

技术实现思路

1、技术课题

2、本发明的目的旨在解决如上所述问题,提供一种具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构,使得可只将利用真空紫外线的除静电装置从真空状态的真空腔室自由拆装。

3、另外,提供一种用以防止异物在真空紫外线灯表面吸附的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构。

4、本发明的目的不限于以上提及的目的,未提及的其他目的是本发明技术领域的技术人员可以从以下记载明确理解的。

5、技术方案

6、为了达成所述目的,本发明的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构的特征在于,包括:视口,所述视口配置成能在保持真空腔室真空状态的状态下轻松拆装除静电装置;及除静电装置,所述除静电装置结合于所述视口并向所述真空腔室内照射真空紫外线;其中,所述除静电装置包括:真空紫外线灯,所述真空紫外线灯照射所述真空紫外线;头部,所述头部具备可供所述真空紫外线灯照射的真空紫外线透过的第一照射窗并结合于所述视口;其中,所述视口具备由高真空紫外线透过率材质构成的第二照射窗。

7、另外,其特征在于,所述第一照射窗由高真空紫外线透过率材质构成。

8、另外,其特征在于,所述视口在供所述头部插入的插入口形成有阻尼器,所述阻尼器用以防止由高真空紫外线透过率材质构成的所述第一照射窗和所述第二照射窗因抵接而破损。

9、另外,其特征在于,所述高真空紫外线透过率材质能够由包括氟化镁(magnesiumfluoride、mgf2)、氟化钙(calcium fluoride、caf2)、氟化铜(copper (ii) fluoride、cuf2)、氟化锂(lithium fluoride,lif)的高透过率材质中的一种制作,但优选由真空紫外线透过率优异的氟化镁(magnesium fluoride、mgf2)材质构成。

10、另外,其特征在于,所述阻尼器形成得使所述第一照射窗与所述第二照射窗的间隔能够保持0.1至2.0mm。

11、另外,其特征在于,所述阻尼器由包括聚四氟乙烯材质的不被臭氧腐蚀的材料构成,以便使得不被在所述第一照射窗与所述第二照射窗的间隔之间因真空紫外线而产生的臭氧腐蚀。

12、另外,其特征在于,所述阻尼器形成有插入孔,所述头部形成有凸出部件,所述凸出部件用以插入于所述插入孔而被所述阻尼器定位,当所述视口与所述头部之间结合时,能够在借助于所述阻尼器而保持所述第一照射窗与所述第二照射窗的间隔的状态下相互结合。

13、发明效果

14、本发明的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构具有的效果是,利用真空腔室的视口与除静电装置的头部的自动拆卸结构,每当更换除静电装置时无需解除真空腔室的真空度。

15、另外,本发明的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构具有的效果是,通过双重的高真空紫外线透过率材质照射窗结构,使得在真空紫外线灯表面不吸附异物,可以防止因异物吸附导致的除电性能低下。

技术特征:

1.一种具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构,其特征在于,所述第一照射窗由高真空紫外线透过率材质构成。

3.根据权利要求2所述的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构,其特征在于,所述视口在供所述头部插入的插入口形成有阻尼器,所述阻尼器用以防止由高真空紫外线透过率材质构成的所述第一照射窗和所述第二照射窗因抵接而破损。

4.根据权利要求1至3所述的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构,其特征在于,所述高真空紫外线透过率材质为氟化镁(mgf2)。

5.根据权利要求3所述的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构,其特征在于,所述阻尼器形成得使所述第一照射窗与所述第二照射窗的间隔能够保持0.1至2.0mm。

6.根据权利要求3所述的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构,其特征在于,所述阻尼器由包括聚四氟乙烯材质的不被臭氧腐蚀的材料构成,以便使得不被在所述第一照射窗与所述第二照射窗的间隔之间因真空紫外线而产生的臭氧腐蚀。

7.根据权利要求3所述的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构,其特征在于,

技术总结本发明的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构包括:视口,所述视口配置成能在保持真空腔室真空状态的状态下轻松拆装除静电装置;及除静电装置,所述除静电装置结合于所述视口并向所述真空腔室内照射真空紫外线;其中,所述除静电装置包括:真空紫外线灯,所述真空紫外线灯照射所述真空紫外线;头部,所述头部具备可供所述真空紫外线灯照射的真空紫外线透过的第一照射窗并结合于所述视口;其中,所述视口具备由高真空紫外线透过率材质构成的第二照射窗。技术研发人员:李东勋,李炳俊,李寿永,朴进哲,郑董吉受保护的技术使用者:禅才高科技股份有限公司技术研发日:技术公布日:2024/7/15

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