显示面板及其制备方法、显示装置与流程

本公开属于显示，具体涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术：

1、有机电致发光二极管(organic light-emitting diode，oled)是一种利用有机固态半导体作为发光材料的光学器件，由于其具有制备工艺简单、成本低、功耗低、发光亮度高、工作温度适应范围广等优点，因而有着广阔的应用前景。

技术实现思路

1、本公开旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置。

2、第一方面，本公开实施例提供了一种显示面板，其中，所述显示面板包括：基底、位于所述基底上的像素限定层；所述像素限定层包括：多个像素挡墙；所述显示面板还包括：位于部分所述像素挡墙背离所述基底一侧的隔离柱；

3、所述隔离柱包括：导电结构；所述导电结构覆盖所述像素挡墙至少部分侧面，以传输电信号。

4、在一些实施例中，所述隔离柱包括：沿着背离所述基底方向依次设置的第一隔离层和第二隔离层；

5、所述第二隔离层在所述基底上的正投影面积大于所述第一隔离层在所述基底上的正投影面积。

6、在一些实施例中，所述第一隔离层与所述导电结构为同一结构。

7、在一些实施例中，所述显示面板具有多个像素区及围绕所述像素区的非像素区，所述像素限定层还包括：位于相邻所述像素挡墙之间且分别设置于所述像素区和非像素区的第一容纳部和第二容纳部；所述显示面板还包括：光学器件；所述光学器件包括：叠层设置的第一电极、第二电极和第三电极；

8、所述第一电极位于所述第一容纳部内；

9、所述第二电极和所述第三电极均由所述第一容纳部延伸至所述第二容纳部，且均被所述第二隔离层隔断。

10、在一些实施例中，所述第三电极在所述第一隔离层的侧壁攀爬，且与所述第一隔离层连接。

11、在一些实施例中，各个所述第二容纳部的深度相同，且均小于或等于所述第一容纳部的深度。

12、在一些实施例中，所述显示面板还包括：分别位于不同的所述第二容纳部内的第一转接电极和第二转接电极；

13、所述第一转接电极与所述第二电极连接；所述第二转接电极通过所述第一隔离层与所述第三电极连接。

14、在一些实施例中，所述第一转接电极、第二转接电极和所述第一电极同层设置。

15、在一些实施例中，所述第一转接电极和所述第二转接电极所传输的电信号不同。

16、在一些实施例中，所述显示面板还包括：位于所述基底与所述第一电极之间且沿背离所述基底方向依次设置的驱动电路层和平坦化层；所述驱动电路层包括：像素驱动电路；

17、所述第一电极通过贯穿所述平坦化层的第一过孔与所述像素驱动电路连接。

18、在一些实施例中，所述驱动电路层还包括：第一电源信号线和第二电源信号线；

19、所述第一电源信号线和所述第二电源信号线分别通过贯穿所述平坦化层的第二过孔和第三过孔与所述第一转接电极和所述第二转接电极连接。

20、在一些实施例中，所述光学器件还包括：第一发光层和第二发光层；

21、所述第一发光层位于所述第一电极和所述第二电极之间；

22、所述第二发光层位于所述第二电极和所述第三电极之间。

23、在一些实施例中，所述光学器件还包括：第一发光层和感光层；

24、所述第一发光层位于所述第一电极和所述第二电极之间；

25、所述感光层位于所述第二电极和所述第三电极之间。

26、在一些实施例中，所述第一隔离层的边缘与所述第二隔离层的边缘之间的距离为a，所述第一隔离层的厚度为b，所述第二隔离层与所述第一转接电极之间的距离为c；

27、a＝k*b，k为0.5至0.9之间的常数；

28、c-b≥500纳米；

29、10°≤arctan(a/b)≤40°。

30、第二方面，本公开实施例提供了一种显示装置，其中，所述显示装置包括如上述提供的显示面板。

31、第三方面，本公开实施例提供了一种显示面板的制备方法，其中，所述显示面板的制备方法包括：

32、在基底上形成像素限定层；所述像素限定层包括：多个像素挡墙；

33、在所述像素挡墙背离所述基底一侧形成隔离柱；所述隔离柱包括：导电结构；所述导电结构覆盖所述像素挡墙至少部分侧面，以传输电信号。

34、在一些实施例中，在所述像素挡墙背离所述基底一侧形成隔离柱，包括：

35、在所述像素挡墙上形成第一隔离层；所述第一隔离层覆盖所述像素挡墙至少部分侧面；

36、在所述第一隔离层上形成第二隔离层。

37、在一些实施例中，在所述像素挡墙上形成第一隔离层，之后还包括：

38、对所述第一隔离层和所述第二隔离层进行刻蚀，使得所述第二隔离层在所述基底上的正投影面积大于所述第一隔离层在所述基底上的正投影面积。

技术特征：

1.一种显示面板，其中，所述显示面板包括：基底、位于所述基底上的像素限定层；所述像素限定层包括：多个像素挡墙；所述显示面板还包括：位于部分所述像素挡墙背离所述基底一侧的隔离柱；

2.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述隔离柱包括：沿着背离所述基底方向依次设置的第一隔离层和第二隔离层；

3.根据权利要求2所述的显示面板，其中，所述第一隔离层与所述导电结构为同一结构。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其中，所述显示面板具有多个像素区及围绕所述像素区的非像素区，所述像素限定层还包括：位于相邻所述像素挡墙之间且分别设置于所述像素区和非像素区的第一容纳部和第二容纳部；所述显示面板还包括：光学器件；所述光学器件包括：叠层设置的第一电极、第二电极和第三电极；

5.根据权利要求4所述的显示面板，其中，所述第三电极在所述第一隔离层的侧壁攀爬，且与所述第一隔离层连接。

6.根据权利要求4所述的显示面板，其中，各个所述第二容纳部的深度相同，且均小于或等于所述第一容纳部的深度。

7.根据权利要求5所述的显示面板，其中，所述显示面板还包括：分别位于不同的所述第二容纳部内的第一转接电极和第二转接电极；

8.根据权利要求7所述的显示面板，其中，所述第一转接电极、第二转接电极和所述第一电极同层设置。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其中，所述第一转接电极和所述第二转接电极所传输的电信号不同。

10.根据权利要求7所述的显示面板，其中，所述显示面板还包括：位于所述基底与所述第一电极之间且沿背离所述基底方向依次设置的驱动电路层和平坦化层；所述驱动电路层包括：像素驱动电路；

11.根据权利要求10所述的显示面板，其中，所述驱动电路层还包括：第一电源信号线和第二电源信号线；

12.根据权利要求4所述的显示面板，其中，所述光学器件还包括：第一发光层和第二发光层；

13.根据权利要求4所述的显示面板，其中，所述光学器件还包括：第一发光层和感光层；

14.根据权利要求7所述的显示面板，其中，所述第一隔离层的边缘与所述第二隔离层的边缘之间的距离为a，所述第一隔离层的厚度为b，所述第二隔离层与所述第一转接电极之间的距离为c；

15.一种显示装置，其中，所述显示装置包括如权利要求1至14任一项所述的显示面板。

16.一种显示面板的制备方法，其中，所述显示面板的制备方法包括：

17.根据权利要求16所述的显示面板的制备方法，其中，在所述像素挡墙背离所述基底一侧形成隔离柱，包括：

18.根据权利要求17所述的显示面板的制备方法，其中，在所述像素挡墙上形成第一隔离层，之后还包括：

技术总结本公开提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的显示面板中的双器件不能独立控制的问题。本公开的显示面板，包括：基底、位于基底上的像素限定层；像素限定层包括：多个像素挡墙；显示面板还包括：位于部分像素挡墙背离基底一侧的隔离柱；隔离柱包括：导电结构；导电结构覆盖像素挡墙至少部分侧面，以传输电信号。技术研发人员：王登宇,郑克宁,李浪涛,潘雪楠,吴桐受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司技术研发日：技术公布日：2024/7/29