基站、清洁装置以及释放组件的制作方法

本技术涉及清洁设备，具体涉及一种基站、清洁装置以及释放组件。

背景技术：

1、具有洗地、扫地等清洁功能的清洁机器人能够代替用户进行清洗地面等清洁工作，给用户带来诸多便利，因而得到广泛的应用。清洁机器人通常配备有基站。目前的基站能够自动向清洁机器人补充清洁液，其中清洁液用以辅助清洁机器人进行清洁工作。基站配备有用于储存清洁液的水箱，水箱中具有清洁剂缓释模块，清洁剂缓释模块中的清洁剂能够缓慢溶解于水箱的清水中以形成清洁液。

2、考虑到清洁机器人使用频率较低的情况，目前清洁剂缓释模块中的清洁剂始终与水箱中的清水保持接触，这导致清洁剂缓释模块中的清洁剂不断溶解，致使清洁剂缓释模块需要频繁地维护或更换，不仅给用户的日常使用过程带来诸多不便，还增加了用户的使用成本。

技术实现思路

1、本技术提供一种基站、清洁装置以及释放组件，能够降低释放组件维护或更换的频率。

2、本技术提供一种基站，包括：基站主体；储液组件，设置于基站主体，且储液组件具有用于储存清洁液的储液腔，其中清洁液由清洁溶剂以及清洁溶质构成；以及释放组件，容置于储液腔中，释放组件包括：基座，具有用于储存清洁溶质的储存腔；以及释放盖，与基座连接，释放盖用于选择性地导通或阻断储存腔与储液腔；其中，释放盖被配置为能够在第一状态和第二状态之间切换；第一状态下的释放盖导通储存腔与储液腔，使得储存腔中的清洁溶质与储液腔中的清洁溶剂混合以形成清洁液；第二状态下的释放盖阻断储存腔与储液腔。

3、在本技术的一实施例中，释放盖与基座活动连接；其中，释放盖被配置为能够相对基座在第一位置和第二位置之间活动切换；处于第一位置的释放盖导通储存腔与储液腔；处于第二位置的释放盖阻断储存腔与储液腔。

4、在本技术的一实施例中，释放盖的密度小于清洁溶剂的密度；其中，在向储液腔添加清洁溶剂的过程中，响应于清洁溶剂施加于释放盖的浮力，释放盖自第一位置上浮至第二位置。

5、在本技术的一实施例中，储存腔的一端为第一开口；释放盖包括：盖本体；连接部，连接于盖本体朝向基座的一侧；以及抵接部，连接于连接部远离盖本体的端部，且抵接部与盖本体以及连接部配合围成容置腔，基座靠近第一开口的端部嵌设于容置腔中；其中，当释放盖处于第一位置时，释放盖与基座之间具有流体通路，第一开口通过流体通路与储液腔连通；当释放盖上浮至第二位置时，抵接部连接基座，以阻断流体通路。

6、在本技术的一实施例中，释放组件具有浮动方向，释放盖沿浮动方向自第一位置上浮至第二位置；储液腔的横截面面积为s；储液腔的目标储液量为r；清洁溶质的溶解速率为v；清洁液中的清洁溶质的目标浓度为n；在添加清洁溶剂的过程中清洁溶剂的流量为l；当释放盖上浮至第二位置时，盖本体与基座在浮动方向上的间距为h；当释放盖上浮至第二位置时，在浮动方向上处于盖本体与基座之间的连接部的体积为t；释放盖自第一位置上浮至第二位置耗费的时长为t；其中，满足：t＝(s*h-t)/l，且v*t≥n*r。

7、在本技术的一实施例中，基座包括：基座本体，具有储存腔；以及耳部，凸设于基座本体的外侧壁，耳部靠近第一开口设置，且耳部嵌设于容置腔中；其中，当释放盖处于第二位置时，抵接部连接耳部。

8、在本技术的一实施例中，流体通路包括依次连通的第一通路段、第二通路段、第三通路段以及第四通路段；其中，第一通路段位于盖本体与耳部之间；第二通路段位于连接部与耳部之间；第三通路段位于抵接部与耳部之间；第四通路段位于抵接部与基座本体的外侧壁之间。

9、在本技术的一实施例中，释放组件具有浮动方向，释放盖沿浮动方向自第一位置上浮至第二位置；其中，在浮动方向上，盖本体与抵接部的间距大于耳部的长度。

10、在本技术的一实施例中，释放组件具有相互垂直的浮动方向以及参考平面，释放盖沿浮动方向自第一位置上浮至第二位置；其中，容置腔在参考平面上的正投影面积大于耳部在参考平面上的正投影所限定区域的面积。

11、在本技术的一实施例中，释放组件具有相互垂直的浮动方向以及参考平面，释放盖沿浮动方向自第一位置上浮至第二位置；抵接部围设形成连通容置腔的第二开口，基座穿过第二开口而嵌设于容置腔中；其中，第二开口在参考平面上的正投影面积大于基座本体在参考平面上的正投影面积。

12、在本技术的一实施例中，释放组件还包括：第一密封件，设置于耳部背离盖本体的一侧和/或设置于抵接部朝向盖本体的一侧；其中，当释放盖处于第二位置时，抵接部与耳部配合夹持第一密封件以形成密封。

13、在本技术的一实施例中，基座的密度大于释放盖的密度。

14、在本技术的一实施例中，基座的密度大于清洁溶剂的密度。

15、在本技术的一实施例中，释放盖与基座可拆卸连接，以当释放盖与基座分离时，允许向储存腔补充清洁溶质。

16、在本技术的一实施例中，释放盖包括：盖本体，包括主体部、固定盖以及第二密封件，主体部围设形成第三开口，固定盖可拆卸地连接于主体部以选择性地封堵第三开口，第二密封件夹设于主体部与固定盖之间以形成密封；其中，当固定盖与主体部分离时，固定盖开放第三开口，以允许基座穿过第三开口而与释放盖分离。

17、在本技术的一实施例中，储液组件包括：储液箱，内部设置有储液腔；进液管，与储液腔连通，其中通过进液管向储液腔添加清洁溶剂；以及出液管，与储液腔连通，出液管还用于连接清洁装置，以通过出液管将储液腔中的清洁液补充至清洁装置。

18、相应地，本技术还提供一种清洁装置，包括：装置主体；储液组件，设置于装置主体，且储液组件具有用于储存清洁液的储液腔，其中清洁液由清洁溶剂以及清洁溶质构成；以及释放组件，容置于储液腔中，释放组件包括：基座，具有用于储存清洁溶质的储存腔；以及释放盖，与基座连接，释放盖用于选择性地导通或阻断储存腔与储液腔；其中，释放盖被配置为能够在第一状态和第二状态之间切换；第一状态下的释放盖导通储存腔与储液腔，使得储存腔中的清洁溶质与储液腔中的清洁溶剂混合以形成清洁液；第二状态下的释放盖阻断储存腔与储液腔。

19、相应地，本技术还提供一种释放组件，释放组件与清洁装置或基站中的储液组件搭配使用，释放组件包括：基座，具有用于储存清洁溶质的储存腔；以及释放盖，与基座连接，释放盖用于选择性地导通或阻断储存腔与储液组件；其中，释放盖被配置为能够在第一状态和第二状态之间切换；第一状态下的释放盖导通储存腔与储液组件，使得储存腔中的清洁溶质与储液组件中的清洁溶剂混合以形成清洁液；第二状态下的释放盖阻断储存腔与储液组件。

20、本技术的有益效果是：区别于现有技术，本技术提供一种基站、清洁装置以及释放组件。该释放组件包括基座以及释放盖。基座具有用于储存清洁溶质的储存腔。释放盖被配置为能够在第一状态和第二状态之间切换。第一状态下的释放盖导通储存腔与储液组件的储液腔，使得储存腔中的清洁溶质与储液腔中的清洁溶剂混合以形成清洁液。第二状态下的释放盖阻断储存腔与储液腔。换言之，本技术释放盖能够切换至第二状态以阻断储存腔与储液腔，使得储存腔中的清洁溶质不再接触储液腔中的清洁溶剂，能够避免释放组件中的清洁溶质过快消耗，因而能够降低释放组件维护或更换的频率，进而有利于方便用户的日常使用过程以及降低用户的使用成本。