耐指纹性的评价方法、光学构件的生产方法及光学构件与流程

本发明涉及一种耐指纹性的评价方法、利用了该评价方法的光学构件的生产方法及光学构件、特别是耐指纹性优异的光学构件。

背景技术：

1、近年来，在各种电子设备中，多利用兼具显示装置与输入手段的触摸面板。为了防止擦伤，通常在该触摸面板的表面上设置有具有硬涂层的硬涂膜。

2、对于该触摸面板，由于利用手指进行操作的情况较多，因此通常在触摸面板的表面上会附着因手指油脂导致的指纹。若像这样指纹附着于触摸面板的表面，则外观变差，且同时难以看清显示图像。因此，要求上述硬涂膜具有作为不易看见附着指纹的性能的耐指纹性。

3、在以往，并没有明确的用于评价耐指纹性的指标，作为参考，不过是测定水或油酸的接触角、或对实际附着指纹时的外观进行感官评价而已。然而，所测定的接触角与感官评价之间的相关性低，此外，存在仅通过肉眼进行感官评价时，再现性低的问题。

4、对此，专利文献1中提出了一种污染性评价方法，该方法中，对试验体照射光，检测该试验体中发生反射或透射的散射光，评价试验体表面的污染程度。具体而言，利用国际照明委员会(cie)所规定的l*a*b*颜色模型中的δe*ab，根据表面被人为污染后的δe*ab与之后实施了清洗处理后的δe*ab的差，进行污染程度的评价。

5、现有技术文献

6、专利文献

7、专利文献1：国际公开第2008/029946号公报

技术实现思路

1、(一)要解决的技术问题

2、然而，像专利文献1那样利用δe*ab时，表面被人为污染后的δe*ab与之后实施了清洗处理后的δe*ab的差绝对地小，难以明确指纹的附着程度。因此，其并非是评价耐指纹性的充分的指标。

3、本发明是鉴于上述实际状况而完成的，其目的在于提供一种能够定量地、且以高再现性评价耐指纹性的耐指纹性的评价方法、利用了该评价方法的光学构件的生产方法以及耐指纹性优异的光学构件。

4、(二)技术方案

5、为了实现上述目的，第一，本发明提供一种耐指纹性的评价方法，其特征在于，测定评价对象表面的、由cie1976l*a*b*表色系所规定的明度l*，接着，在所述评价对象的表面上涂布油酸稀释液并使其干燥后，测定由cie1976l*a*b*表色系所规定的明度l*，将涂布所述油酸稀释液前后的所述明度l*作为指标，评价所述评价对象的表面的耐指纹性(发明1)。

6、另外，本发明中的“耐指纹性”是指不易通过肉眼看到附着指纹的性能。

7、根据上述发明(发明1)，能够定量地、且以高再现性评价耐指纹性。此外，与基于肉眼的评价之间的相关性也高。

8、上述发明(发明1)中，优选油酸稀释液为利用挥发性溶剂稀释油酸而成的液体。此外，优选挥发性溶剂为醇类溶剂，优选醇类溶剂为乙醇。油酸稀释液中的油酸的浓度优选为0.12质量％以上、12质量％以下。优选使用棒涂机将油酸稀释液涂布在评价对象的表面上。

9、上述发明(发明1)中，优选：将涂布所述油酸稀释液前的所述明度l*设为涂布前明度l*，将涂布所述油酸稀释液后的所述明度l*设为涂布后明度l*，根据由所述涂布后明度l*减去所述涂布前明度l*而得到的变化量δl*，评价所述评价对象的表面的耐指纹性；或者将涂布所述油酸稀释液前的所述明度l*设为涂布前明度l*，将涂布所述油酸稀释液后的所述明度l*设为涂布后明度l*，根据利用下述式算出的变化率(％)，评价所述评价对象的表面的耐指纹性(发明2、3)。此外，也可以根据这两者来进行评价。

10、变化率＝{(涂布后明度l*-涂布前明度l*)/涂布前明度l*}×100

11、上述发明(发明1～3)中，优选在所述评价对象的涂布有所述油酸稀释液的表面上存在硬涂层(发明4)。

12、上述发明(发明1～4)中，优选所述评价对象为光学构件(发明5)。

13、第二，本发明提供一种光学构件的生产方法，其特征在于，其具备：得到光学构件的工序；及将所述光学构件作为评价对象，通过所述耐指纹性的评价方法(发明1～5)进行耐指纹性的评价的评价工序(发明6)。

14、第三，本发明提供一种光学构件，其特征在于，将涂布油酸稀释液前的、由cie1976l*a*b*表色系所规定的明度l*设为涂布前明度l*，并将涂布油酸稀释液后的、由cie1976l*a*b*表色系所规定的明度l*设为涂布后明度l*时，由所述涂布后明度l*减去所述涂布前明度l*而得到的变化量δl*小于0.3(发明7)。

15、第四，本发明提供一种光学构件，其特征在于，将涂布油酸稀释液前的、由cie1976l*a*b*表色系所规定的明度l*设为涂布前明度l*，并将涂布油酸稀释液后的、由cie1976l*a*b*表色系所规定的明度l*设为涂布后明度l*时，利用下述式算出的变化率为6％以下(发明8)。

16、变化率＝{(涂布后明度l*-涂布前明度l*)/涂布前明度l*}×100

17、上述发明(发明7、8)中，优选在所述光学构件的涂布有所述油酸稀释液的表面上存在硬涂层(发明9)。

18、(三)有益效果

19、根据本发明的耐指纹性的评价方法，能够定量地、且以高再现性评价耐指纹性。此外，根据本发明的光学构件的生产方法，能够定量地、且以高再现性评价耐指纹性，并能够生产光学构件。进一步，本发明的光学构件的耐指纹性优异。

技术特征：

1.一种硬涂膜，其具备基材且在最外层表面具备硬涂层，所述硬涂膜的特征在于，

2.根据权利要求1所述的硬涂膜，其特征在于，相对于100质量份的所述活性能量射线固化性成分的所述表面调整剂的掺合比例为0.01质量份以上且1质量份以下。

3.根据权利要求1所述的硬涂膜，其特征在于，所述表面调整剂为具有金刚烷骨架的氟类化合物。

4.根据权利要求1所述的硬涂膜，其特征在于，相对于100质量份的所述活性能量射线固化性成分的所述微粒的掺合比例为1质量份以上且50质量份以下。

5.根据权利要求1所述的硬涂膜，其特征在于，所述微粒的平均粒径为0.1μm以上且20μm以下。

6.根据权利要求1所述的硬涂膜，其特征在于，所述物品为触摸面板。

7.一种触摸面板，其为具备权利要求1～6中任一项所述的硬涂膜的触摸面板，其特征在于，其以所述硬涂膜的硬涂层位于该触摸面板中可能附着指纹的最外层表面的方式配置。

技术总结本发明提供一种能够定量地、且以高再现性评价耐指纹性的耐指纹性的评价方法、利用了该评价方法的光学构件的生产方法以及耐指纹性优异的光学构件。该耐指纹性的评价方法中，测定评价对象表面的、由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*，接着，在评价对象的表面上涂布油酸稀释液并使其干燥后，测定由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*，将涂布油酸稀释液前后的明度L*作为指标，评价评价对象的表面的耐指纹性。技术研发人员：星野弘气,户高昌也,大类知生受保护的技术使用者：琳得科株式会社技术研发日：技术公布日：2024/11/4