本技术属于半导体材料,涉及一种pvt法生长aln单晶的籽晶固定装置。背景技术:1、氮化铝作为第三代宽禁带半导体材料,具有高禁带宽度(6.2ev)、高热导率、高击穿场强、良好的紫外透过率、化学和热稳定性......