一种雾化器及气溶胶生成装置的制作方法

本技术涉及雾化，具体涉及一种雾化器及气溶胶生成装置。

背景技术：

1、现有的雾化器通过雾化组件加热膏状或液体状气溶胶生成基质，以产生气溶胶供用户吸食。此类雾化器在使用后，部分气溶胶生成基质残留在雾化组件内，不易清理，且残留的气溶胶生成基质经加热产生的气溶胶的口感差，影响用户的使用体验。

技术实现思路

1、基于现有技术中存在的上述问题，本实用新型提供了一种雾化器，便于对雾化组件内的雾化室进行更换，避免气溶胶生成基质残留在雾化室内影响生成的气溶胶的品质，提升用户的使用体验。

2、本实用新型为解决其技术问题而采用的技术方案是：提供一种雾化器，包括壳体、与所述壳体可拆卸连接的吸嘴、安装在所述壳体内并与所述吸嘴连通的雾化组件，以及设于所述壳体和/或所述吸嘴上的锁定结构，所述雾化组件包括雾化室，当所述吸嘴连接所述壳体时，所述锁定结构将所述雾化室锁定于所述壳体上，当所述吸嘴拆卸于所述壳体时，所述锁定结构解除对所述雾化室锁定，所述雾化室可从所述壳体中取出。

3、进一步的，所述锁定结构包括凸设在所述吸嘴内壁上的抵持部和设置在所述壳体底部的固定件。

4、进一步的，所述抵持部上设置有第二密封件，所述第二密封件与所述雾化室抵持。

5、进一步的，所述壳体的底部开设有安装孔，所述固定件围绕所述安装孔设置。

6、进一步的，所述雾化室为顶端开口的管状结构，所述雾化室的侧壁开设有通气孔。

7、进一步的，所述固定件与所述雾化室的侧壁抵接，所述固定件的高度低于所述通气孔的高度。

8、进一步的，所述雾化室顶端开口处安装有盖板，所述盖板上开设有出气孔，所述雾化室的内部通过所述出气孔与所述吸嘴连通。

9、进一步的，所述雾化组件还包括设置在所述雾化室下方的安装座，所述安装座设置在所述安装孔中。

10、进一步的，所述安装座包括设置在所述雾化室底部的发热件，所述发热件与所述雾化室之间可拆卸连接。

11、本实用新型的目的之二在于提供一种具有上述任一方案中的雾化器的气溶胶生成装置。

12、本实用新型的有益效果是：本实用新型提供的一种雾化器，包括壳体、与所述壳体可拆卸连接的吸嘴、安装在所述壳体内并与所述吸嘴连通的雾化组件，以及设于所述壳体和/或所述吸嘴上的锁定结构，所述雾化组件包括雾化室，当所述吸嘴连接所述壳体时，所述锁定结构将所述雾化室锁定于所述壳体上，当所述吸嘴拆卸于所述壳体时，所述锁定结构解除对所述雾化室锁定，所述雾化室可从所述壳体中取出，以便于更换新的雾化室，避免雾化器因多次使用后，部分未消耗的气溶胶生成基质残留在雾化室内影响生成的气溶胶的品质，从而提升用户的使用体验。

技术特征：

1.一种雾化器，其特征在于：包括壳体、与所述壳体可拆卸连接的吸嘴、安装在所述壳体内并与所述吸嘴连通的雾化组件，以及设于所述壳体和/或所述吸嘴上的锁定结构，所述雾化组件包括雾化室，当所述吸嘴连接所述壳体时，所述锁定结构将所述雾化室锁定于所述壳体上，当所述吸嘴拆卸于所述壳体时，所述锁定结构解除对所述雾化室锁定，所述雾化室可从所述壳体中取出。

2.根据权利要求1所述的雾化器，其特征在于：所述锁定结构包括凸设在所述吸嘴内壁上的抵持部和设置在所述壳体底部的固定件。

3.根据权利要求2所述的雾化器，其特征在于：所述抵持部上设置有第二密封件，所述第二密封件与所述雾化室抵持。

4.根据权利要求2所述的雾化器，其特征在于：所述壳体的底部开设有安装孔，所述固定件围绕所述安装孔设置。

5.根据权利要求4所述的雾化器，其特征在于：所述雾化室为顶端开口的管状结构，所述雾化室的侧壁开设有通气孔。

6.根据权利要求5所述的雾化器，其特征在于：所述固定件与所述雾化室的侧壁抵接，所述固定件的高度低于所述通气孔的高度。

7.根据权利要求5所述的雾化器，其特征在于：所述雾化室顶端开口处安装有盖板，所述盖板上开设有出气孔，所述雾化室的内部通过所述出气孔与所述吸嘴连通。

8.根据权利要求4所述的雾化器，其特征在于：所述雾化组件还包括设置在所述雾化室下方的安装座，所述安装座设置在所述安装孔中。

9.根据权利要求8所述的雾化器，其特征在于：所述安装座包括设置在所述雾化室底部的发热件，所述发热件与所述雾化室之间可拆卸连接。

10.一种气溶胶生成装置，其特征在于：包括如权利要求1-9任一项所述的雾化器。

技术总结本技术涉及雾化技术领域，具体涉及一种雾化器及气溶胶生成装置。雾化器包括壳体、与所述壳体可拆卸连接的吸嘴、安装在所述壳体内并与所述吸嘴连通的雾化组件，以及设于所述壳体和/或所述吸嘴上的锁定结构，所述雾化组件包括雾化室，当所述吸嘴连接所述壳体时，所述锁定结构将所述雾化室锁定于所述壳体上，当所述吸嘴拆卸于所述壳体时，所述锁定结构解除对所述雾化室锁定，所述雾化室可从所述壳体中取出，以便于更换新的雾化室，避免雾化器因多次使用后，部分未消耗的气溶胶生成基质残留在雾化室内影响生成的气溶胶的品质，从而提升用户的使用体验。技术研发人员：邱伟华,李浩受保护的技术使用者：卓尔悦国际控股有限公司技术研发日：20230620技术公布日：2024/1/25