一种用于制作陶瓷半导体的干压装置的制作方法

本发明涉及陶瓷半导体加工，具体的涉及一种用于制作陶瓷半导体的干压装置。

背景技术：

1、半导体陶瓷是指具有半导体特性、电导率约在10-6～105s/m的陶瓷。半导体陶瓷的电导率因外界条件(温度、光照、电场、气氛和温度等)的变化而发生显著的变化，因此可以将外界环境的物理量变化转变为电信号，制成各种用途的敏感元件，在进行制成陶瓷半导体是常用的工艺为干压工艺，但是在进行干压时尝尝会由于粉料上料时，上料铺料的不均匀导致其中夹杂空气较多，同时又会造成干压时由于粉料堆积不均导致压成的工件密度不均匀。

技术实现思路

1、本申请的内容部分用于以简要的形式介绍构思，这些构思将在后面的具体实施方式部分被详细描述。本申请的内容部分并不旨在标识要求保护的技术方案的关键特征或必要特征，也不旨在用于限制所要求的保护的技术方案的范围。

2、为了解决以上背景技术部分提到的技术问题，本申请的一些实施例提供了一种用于制作陶瓷半导体的干压装置包括干压支撑架、干压模具、进料组件、同步振动组件、干压成型推出组件和压料推出残料清理组件，干压模具设置在干压支撑架上，进料组件转动连接在干压支撑架上，同步振动组件与进料组件啮合传动，干压成型推出组件设置在干压支撑架上，干压成型推出组件与同步振动组件滑动连接，干压成型推出组件滑动连接在干压模具上，压料推出残料清理组件设置在干压成型推出组件上，进料组件和同步振动组件能同步移动；

3、所述的进料组件包括弯折臂、从动收回臂、、传动齿轮轴、固定齿轮轴、驱动齿轮、从动齿轮轴、下料管和弧形下料室，从动收回臂转动连接在弯折臂上，传动齿轮轴固接在从动收回臂上，从动齿轮轴转动连接在弯折臂上，从动齿轮轴与固定齿轮轴啮合传动，弯折臂转动连接在固定齿轮轴上，从动齿轮轴与传动齿轮轴通过齿形带传动，驱动齿轮固接在弯折臂上，下料管设置在弯折臂上，弧形下料室固接在下料管上，下料管倾斜设置。

4、所述的进料组件还包括传动轮组和同步轮组，传动轮组与驱动齿轮啮合传动，同步轮组与传动轮组啮合传动。

5、所述的下料管上设置有多个出料口。

6、所述的同步振动组件包括同步驱动块、导向滑道、控制电机、固定支架、驱动轮圆、伸缩连接支杆、振动锤、移动导向架和振动传动齿轮轴，同步驱动块滑动连接在导向滑道上，固定支架固接在同步驱动块上，控制电机固接在固定支架上，振动传动齿轮轴固接在控制电机的输出轴上，振动传动齿轮轴分别和两个驱动轮圆啮合传动，两个伸缩连接支杆分别转动连接在两个驱动轮圆上，两个伸缩连接支杆分别固接在两个振动锤上，两个振动锤分别滑动连接在移动导向架上，两个移动导向架均固接在固定支架上，导向滑道与同步轮组同步轮组固接。

7、所述的干压支撑架包括支撑连接架、导向柱、上压模推杆、下压模推杆、稳定板和导向板，支撑连接架上设置有多个导向柱，多个导向柱分别穿过稳定板和导向板，其中导向板与多个导向柱滑动连接，稳定板与多个导向柱固接，上压模推杆和下压模推杆均固接在支撑连接架上，两个移动导向架均滑动连接在支撑连接架上，固定齿轮轴固接在支撑连接架上，传动轮组转动连接在支撑连接架上。

8、所述的干压模具包括静模、上压模和下压模，静模固接在在支撑连接架上，上压模滑动连接在下压模中，下压模滑动连接在支撑连接架中，上压模和下压模分别固接在上压模推杆和下压模推杆上。

9、所述的干压成型推出组件包括液压推杆、弹簧、退料架和弧形推板，液压推杆固接在支撑连接架上，弹簧套设在液压推杆上，退料架与液压推杆固接，退料架滑动连接在支撑连接架上，退料架滑动连接在静模上，弧形推板固接在退料架上。

10、所述的压料推出残料清理组件包括清扫电机、侧夹板、清扫刷轴和清刷头，两个侧夹板均固接在弧形推板上，清扫电机固接在一个侧夹板上，清扫刷轴固接在清扫电机的输出轴上，清刷头固接在清扫刷轴上。

11、本发明的有益效果是：

12、(1)在上料时进行对粉料平铺同时对粉料进行振动防止物料堆积。

13、(2)上料机构与振动机构同步工作，增加装置运行的协调性。

14、(3)在压制完成后通过干压成型推出组件自动推出成型工件，并对磨具进行清理。

技术特征：

1.一种用于制作陶瓷半导体的干压装置，其特征在于：包括干压支撑架(1)、干压模具(2)、进料组件(3)、同步振动组件(4)、干压成型推出组件(5)和压料推出残料清理组件(6)，干压模具(2)设置在干压支撑架(1)上，进料组件(3)转动连接在干压支撑架(1)上，同步振动组件(4)与进料组件(3)啮合传动，干压成型推出组件(5)设置在干压支撑架(1)上，干压成型推出组件(5)与同步振动组件(4)滑动连接，干压成型推出组件(5)滑动连接在干压模具(2)上，压料推出残料清理组件(6)设置在干压成型推出组件(5)上，进料组件(3)和同步振动组件(4)能同步移动；

2.根据权利要求1所述的一种用于制作陶瓷半导体的干压装置，其特征在于：所述的进料组件(3)还包括传动轮组(310)和同步轮组(311)，传动轮组(310)与驱动齿轮(36)啮合传动，同步轮组(311)与传动轮组(310)啮合传动。

3.根据权利要求2所述的一种用于制作陶瓷半导体的干压装置，其特征在于：所述的下料管(38)上设置有多个出料口(33)。

4.根据权利要求3所述的一种用于制作陶瓷半导体的干压装置，其特征在于：所述的同步振动组件(4)包括同步驱动块(41)、导向滑道(42)、控制电机(43)、固定支架(44)、驱动轮圆(45)、伸缩连接支杆(46)、振动锤(47)、移动导向架(48)和振动传动齿轮轴(49)，同步驱动块(41)滑动连接在导向滑道(42)上，固定支架(44)固接在同步驱动块(41)上，控制电机(43)固接在固定支架(44)上，振动传动齿轮轴(49)固接在控制电机(43)的输出轴上，振动传动齿轮轴(49)分别和两个驱动轮圆(45)啮合传动，两个伸缩连接支杆(46)分别转动连接在两个驱动轮圆(45)上，两个伸缩连接支杆(46)分别固接在两个振动锤(47)上，两个振动锤(47)分别滑动连接在移动导向架(48)上，两个移动导向架(48)均固接在固定支架(44)上，导向滑道(42)与同步轮组(311)同步轮组(311)固接。

5.根据权利要求4所述的一种用于制作陶瓷半导体的干压装置，其特征在于：所述的干压支撑架(1)包括支撑连接架(11)、导向柱(12)、上压模推杆(13)、下压模推杆(14)、稳定板(15)和导向板(16)，支撑连接架(11)上设置有多个导向柱(12)，多个导向柱(12)分别穿过稳定板(15)和导向板(16)，其中导向板(16)与多个导向柱(12)滑动连接，稳定板(15)与多个导向柱(12)固接，上压模推杆(13)和下压模推杆(14)均固接在支撑连接架(11)上，两个移动导向架(48)均滑动连接在支撑连接架(11)上，固定齿轮轴(35)固接在支撑连接架(11)上，传动轮组(310)转动连接在支撑连接架(11)上。

6.根据权利要求5所述的一种用于制作陶瓷半导体的干压装置，其特征在于：所述的干压模具(2)包括静模(21)、上压模(22)和下压模(23)，静模(21)固接在在支撑连接架(11)上，上压模(22)滑动连接在下压模(23)中，下压模(23)滑动连接在支撑连接架(11)中，上压模(22)和下压模(23)分别固接在上压模推杆(13)和下压模推杆(14)上。

7.根据权利要求6所述的一种用于制作陶瓷半导体的干压装置，其特征在于：所述的干压成型推出组件(5)包括液压推杆(51)、弹簧(52)、退料架(53)和弧形推板(54)，液压推杆(51)固接在支撑连接架(11)上，弹簧(52)套设在液压推杆(51)上，退料架(53)与液压推杆(51)固接，退料架(53)滑动连接在支撑连接架(11)上，退料架(53)滑动连接在静模(21)上，弧形推板(54)固接在退料架(53)上。

8.根据权利要求7所述的一种用于制作陶瓷半导体的干压装置，其特征在于：所述的压料推出残料清理组件(6)包括清扫电机(61)、侧夹板(62)、清扫刷轴(63)和清刷头(64)，两个侧夹板(62)均固接在弧形推板(54)上，清扫电机(61)固接在一个侧夹板(62)上，清扫刷轴(63)固接在清扫电机(61)的输出轴上，清刷头(64)固接在清扫刷轴(63)上。

技术总结本发明涉及一种用于制作陶瓷半导体的干压装置包括干压支撑架、干压模具、进料组件、同步振动组件、干压成型推出组件和压料推出残料清理组件，干压模具设置在干压支撑架上，进料组件转动连接在干压支撑架上，同步振动组件与进料组件啮合传动，干压成型推出组件设置在干压支撑架上，干压成型推出组件与同步振动组件滑动连接，干压成型推出组件滑动连接在干压模具上，压料推出残料清理组件设置在干压成型推出组件上，本发明的有益效果是：在上料时进行对粉料平铺同时对粉料进行振动防止物料堆积。上料机构与振动机构同步工作，增加装置运行的协调性。在压制完成后通过干压成型推出组件自动推出成型工件，并对磨具进行清理。技术研发人员：魏江涛,李春香受保护的技术使用者：杭州斯启科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/2