一种晶圆用二次曝光机的制作方法

本技术涉及曝光机，具体的是一种晶圆用二次曝光机。

背景技术：

1、晶圆需要进行两次曝光，在曝光过程中，从光源发出的光通过对准的掩摸版，版上有不透明和透明的区域，这些区域形成了要转移到硅片表面的图形。曝光的目的就是要把版上图形精确地复制成光刻胶上的最终图像，现有的二次曝光机效率较低，定位精确度较差，且不具备检测功能，二次曝光完成后，仍需对物料依次检测，将不良品踢出，费时费力，因此，本实用新型提出一种晶圆用二次曝光机。

技术实现思路

1、为了克服现有技术中的缺陷，本实用新型实施例提供了一种晶圆用二次曝光机，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、本申请实施例公开了：一种晶圆用二次曝光机，包括机柜，所述机柜内设有工作台，所述工作台的两侧均设有料架，所述工作台上设有转盘，所述转盘上等角度分布有多个托盘，所述托盘上连接有多个升降顶针，所述托盘上设有真空吸嘴，所述料架与所述转盘之间设有移载机构，所述转盘的左侧设有矫正机构，所述转盘的右侧设有用于存储不良品的暂存机构，所述转盘的后方设有平面伺服移动模组，所述平面伺服移动模组上连接有升降台，所述升降台上连接有伸向所述转盘上方的光刻板，所述光刻板的上方设有龙门架，所述龙门架上通过支架连接有正对所述光刻板的光刻机本体，所述龙门架的上端面设有通孔，所述通孔的两侧均通过第一x轴伺服移动模组连接有检测相机。

3、优选的，所述移载机构包括上下设置的两个第二x轴伺服移动模组，两个所述第二x轴伺服移动模组上均连接有滑台，两个所述滑台上分别连接有位于上方的朝向所述料架的上抓手以及背对所述料架的下抓手，所述上抓手与所述下抓手的端部均设为u形，且上端面均设有真空吸嘴。

4、优选的，所述矫正机构包括可升降式第一载台，所述第一载台连接有真空吸嘴，所述第一载台的左右两侧通过夹爪气缸连接有定位夹爪，所述第一载台的上方通过支架连接有两个第一定位相机。

5、优选的，所述第一定位相机的右侧设有l形支架，所述l形支架上通过下压气缸连接有压块，所述压块位于所述转盘的上方，所述l形支架上通过支架设有两个第二定位相机。

6、优选的，所述存料机构包括可升降式第二载台，所述第二载台的左侧通过y轴伺服移动模组连接有存料抓手，所述存料抓手的端部设为u形，所述第二载台的后方设有z轴伺服移动模组，所述z轴伺服移动模组上连接废料存料盒。

7、优选的，所述料架包括竖架，所述竖架通过升降模组驱动，所述竖架上设有多个存料盒，所述存料盒的左右两侧均设有开口，所述存料盒和设有多个存料槽。

8、本实用新型的有益效果如下：所述二次曝光机可自动实现晶圆的上料曝光和下料，通过转盘供料的方式实现连续检测，通过所述检测相机和所述存料机构可实现不良品的踢除，大大提高了工作效率。

9、为让本实用新型的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。

技术特征：

1.一种晶圆用二次曝光机，其特征在于：包括机柜，所述机柜内设有工作台，所述工作台的两侧均设有料架，所述工作台上设有转盘，所述转盘上等角度分布有多个托盘，所述托盘上连接有多个升降顶针，所述托盘上设有真空吸嘴，所述料架与所述转盘之间设有移载机构，所述转盘的左侧设有矫正机构，所述转盘的右侧设有用于存储不良品的暂存机构，所述转盘的后方设有平面伺服移动模组，所述平面伺服移动模组上连接有升降台，所述升降台上连接有伸向所述转盘上方的光刻板，所述光刻板的上方设有龙门架，所述龙门架上通过支架连接有正对所述光刻板的光刻机本体，所述龙门架的上端面设有通孔，所述通孔的两侧均通过第一x轴伺服移动模组连接有检测相机。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆用二次曝光机，其特征在于：所述移载机构包括上下设置的两个第二x轴伺服移动模组，两个所述第二x轴伺服移动模组上均连接有滑台，两个所述滑台上分别连接有位于上方的朝向所述料架的上抓手以及背对所述料架的下抓手，所述上抓手与所述下抓手的端部均设为u形，且上端面均设有真空吸嘴。

3.根据权利要求1所述的一种晶圆用二次曝光机，其特征在于：所述矫正机构包括可升降式第一载台，所述第一载台连接有真空吸嘴，所述第一载台的左右两侧通过夹爪气缸连接有定位夹爪，所述第一载台的上方通过支架连接有两个第一定位相机。

4.根据权利要求3所述的一种晶圆用二次曝光机，其特征在于:所述第一定位相机的右侧设有l形支架，所述l形支架上通过下压气缸连接有压块，所述压块位于所述转盘的上方，所述l形支架上通过支架设有两个第二定位相机。

5.根据权利要求1所述的一种晶圆用二次曝光机，其特征在于：还包括存料机构，所述存料机构包括可升降式第二载台，所述第二载台的左侧通过y轴伺服移动模组连接有存料抓手，所述存料抓手的端部设为u形，所述第二载台的后方设有z轴伺服移动模组，所述z轴伺服移动模组上连接废料存料盒。

6.根据权利要求1所述的一种晶圆用二次曝光机，其特征在于：所述料架包括竖架，所述竖架通过升降模组驱动，所述竖架上设有多个存料盒，所述存料盒的左右两侧均设有开口，所述存料盒和设有多个存料槽。

技术总结本技术公开了一种晶圆用二次曝光机，包括机柜，所述机柜内设有工作台，所述工作台的两侧均设有料架，所述工作台上设有转盘，所述转盘上等角度分布有多个托盘，所述托盘上连接有多个升降顶针，所述料架与所述转盘之间设有移载机构，所述转盘的左侧设有矫正机构，所述转盘的右侧设有用于存储不良品的暂存机构，所述转盘的后方设有平面伺服移动模组，所述平面伺服移动模组上连接有升降台，所述升降台上连接有伸向所述转盘上方的光刻板，所述光刻板的上方通过龙门架设有光刻机本体，所述龙门架上设有检测相机，所述二次曝光机可自动实现晶圆的上料曝光和下料，通过所述检测相机和所述存料机构可实现不良品的踢除，大大提高了工作效率。技术研发人员：葛佳受保护的技术使用者：昆山臻欧特自动化工程有限公司技术研发日：20230720技术公布日：2024/5/29