液晶显示面板及其制备方法与流程

本申请涉及显示，特别是涉及一种液晶显示面板及其制备方法。

背景技术：

1、液晶显示面板(tft-lcd)一般包括相对设置的彩膜基板和阵列基板及位于二者之间的液晶层，其工作原理是：在外加电压控制下，由于液晶具有介电各向异性的特点，液晶分子发生转动，使得液晶的折射率或透光率也发生相应变化，从而控制tft-lcd的出光量。

2、为了控制液晶层的厚度和均匀性，通常在彩膜基板和阵列基板之间设置柱状隔垫物(ps)。柱状隔垫物的一端连接在彩膜基板上，另一端抵压在阵列基板上，以维持彩膜基板和阵列基板之间的间距。当液晶显示面板受到外力挤压或者拍击时，柱状隔垫物在彩膜基板和阵列基板之间会发生位移，使得液晶层的厚度和均匀性发生变化，导致液晶显示面板亮度显示不均(touch mura)。

技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种液晶显示面板及其制备方法，其可以避免产品收到外力时因柱状隔垫物滑动发生短路导致显示异常，提高产品良率及耐用性，提升显示品质，同时减少柱状隔垫物的一道光罩制程工艺，降低生产成本。

2、第一方面，本申请实施例提出了一种液晶显示面板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，阵列基板具有多个像素区和位于相邻的像素区之间的器件区，阵列基板包括第一衬底、位于第一衬底上的第一导电层和位于第一导电层背离第一衬底一侧的绝缘层；彩膜基板包括第二衬底、位于第二衬底上的遮光层、色阻层以及覆盖遮光层和色阻层的公共电极，色阻层包括多个柱状隔垫物，且柱状隔垫物在阵列基板一侧的正投影位于器件区，器件区的第一导电层对应柱状隔垫物形成有第一虚拟电极，绝缘层对应于第一虚拟电极的两侧分别形成有第一凹槽，柱状隔垫物远离彩膜基板的一端抵接至第一虚拟电极对应的绝缘层。

3、在一种可能的实施方式中，绝缘层还形成有与第一虚拟电极对应的第二凹槽，第二凹槽暴露部分第一虚拟电极，柱状隔垫物远离彩膜基板的一端伸入第二凹槽中。

4、在一种可能的实施方式中，阵列基板还包括位于绝缘层与第一导电层之间的第二导电层，第二导电层对应第一虚拟电极形成有呈环形分布的第二虚拟电极，绝缘层对应于第二虚拟电极形成有第三凹槽，柱状隔垫物远离彩膜基板的一端抵接至第三凹槽。

5、在一种可能的实施方式中，阵列基板还包括位于绝缘层与第一导电层之间的第二导电层，第二导电层形成有呈环形分布的第二虚拟电极，第二虚拟电极与呈环形分布的第一虚拟电极一一对应，绝缘层对应于第一虚拟电极及第二虚拟电极形成有第四凹槽，柱状隔垫物远离彩膜基板的一端伸入第四凹槽中。

6、在一种可能的实施方式中，第一虚拟电极包括第一本体部和沿第一本体部的周侧形成的用于释放静电的多个锥形尖端，第一本体部的形状为多边形。

7、在一种可能的实施方式中，第二虚拟电极包括第二本体部和沿第二本体部的周侧形成的用于释放静电的多个锥形尖端，第二本体部的形状为具有过孔的多边形，第一本体部的形状为多边形或者具有过孔的多边形。

8、第二方面，本申请实施例还提出了一种液晶显示面板的制备方法，应用于如前所述的液晶显示面板，制备方法包括：提供预先制备的阵列基板和彩膜基板；将液晶层注入阵列基板与彩膜基板之间进行成盒制程工艺；其中，阵列基板具有多个像素区和位于相邻的像素区之间的器件区，阵列基板的制备方法包括：提供第一衬底；在第一衬底上沉积形成第一导电层，且位于器件区的第一导电层形成有多个第一虚拟电极；在第一导电层背离第一衬底一侧沉积绝缘层，绝缘层对应于第一虚拟电极的两侧分别形成有第一凹槽；彩膜基板的制备方法包括：提供第二衬底；在第二衬底上沉积形成遮光层及色阻层，色阻层包括对应于像素区的色阻单元和对应于器件区的柱状隔垫物，遮光层包括多个遮光单元，相邻的两个色阻单元的交叠区域形成有遮光单元；柱状隔垫物远离彩膜基板的一端抵接至第一虚拟电极对应的绝缘层；在遮光层及色阻层上铺设整层的公共电极。

9、在一种可能的实施方式中，在第一导电层背离第一衬底一侧沉积绝缘层还包括：绝缘层形成有与第一虚拟电极对应的第二凹槽，第二凹槽暴露部分第一虚拟电极，柱状隔垫物远离彩膜基板的一端伸入第二凹槽中。

10、在一种可能的实施方式中，在第一导电层背离第一衬底一侧沉积绝缘层之前，阵列基板的制备方法还包括：在第一导电层背离第一衬底一侧沉积形成第二导电层，第二导电层对应第一虚拟电极形成有呈环形分布的第二虚拟电极；在第二导电层背离第一衬底一侧沉积绝缘层，绝缘层对应于第二虚拟电极形成有第三凹槽，柱状隔垫物远离彩膜基板的一端抵接至第三凹槽。

11、在一种可能的实施方式中，在第一导电层背离第一衬底一侧沉积绝缘层之前，阵列基板的制备方法还包括：在第一导电层背离第一衬底一侧沉积形成第二导电层，第二导电层形成有呈环形分布的第二虚拟电极，第二虚拟电极与呈环形分布的第一虚拟电极一一对应；在第二导电层背离第一衬底一侧沉积绝缘层，绝缘层对应于第一虚拟电极及第二虚拟电极形成有第四凹槽，柱状隔垫物远离彩膜基板的一端伸入第四凹槽中。

12、本申请实施例提供的液晶显示面板及其制备方法，通过将彩膜基板一侧的柱状隔垫物与色阻单元同层布置，且阵列基板一侧的器件区的第一导电层对应柱状隔垫物形成有第一虚拟电极，第一导电层上方的绝缘层对应于第一虚拟电极的两侧分别形成有第一凹槽，柱状隔垫物远离彩膜基板的一端抵接至第一虚拟电极对应的绝缘层，从而可以避免产品在受到外力时因柱状隔垫物滑动发生短路导致显示异常，提高产品良率及耐用性，提升显示品质；另外，柱状隔垫物与色阻单元同层布置，与相关技术相比，可以减少柱状隔垫物的一道光罩制程工艺，降低生产成本，有利于推广使用。

技术特征：

1.一种液晶显示面板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板具有多个像素区和位于相邻的像素区之间的器件区，所述阵列基板包括第一衬底、位于所述第一衬底上的第一导电层和位于所述第一导电层背离所述第一衬底一侧的绝缘层；所述彩膜基板包括第二衬底、位于所述第二衬底上的遮光层、色阻层以及覆盖所述遮光层和所述色阻层的公共电极，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述绝缘层还形成有与所述第一虚拟电极对应的第二凹槽，所述第二凹槽暴露部分所述第一虚拟电极，所述柱状隔垫物远离所述彩膜基板的一端伸入所述第二凹槽中。

3.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括位于所述绝缘层与所述第一导电层之间的第二导电层，所述第二导电层对应所述第一虚拟电极形成呈环形分布的第二虚拟电极，所述绝缘层对应于所述第二虚拟电极形成有第三凹槽，所述柱状隔垫物远离所述彩膜基板的一端抵接至所述第三凹槽。

4.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括位于所述绝缘层与所述第一导电层之间的第二导电层，所述第二导电层形成有呈环形分布的第二虚拟电极，所述第二虚拟电极与呈环形分布的所述第一虚拟电极对应，所述绝缘层对应于所述第一虚拟电极及所述第二虚拟电极形成有第四凹槽，所述柱状隔垫物远离所述彩膜基板的一端伸入所述第四凹槽中。

5.根据权利要求1至4任一项所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一虚拟电极包括第一本体部和沿所述第一本体部的周侧形成的用于释放静电的多个锥形尖端，所述第一本体部的形状为多边形。

6.根据权利要求3或4所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第二虚拟电极包括第二本体部和沿所述第二本体部的周侧形成的用于释放静电的多个锥形尖端，所述第二本体部的形状为多边形或者具有过孔的多边形。

7.一种液晶显示面板的制备方法，应用于如权利要求1至6任一项所述的液晶显示面板，其特征在于，所述制备方法包括：

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述在所述第一导电层背离所述第一衬底一侧沉积绝缘层还包括：所述绝缘层形成有与所述第一虚拟电极对应的第二凹槽，所述第二凹槽暴露部分所述第一虚拟电极，所述柱状隔垫物远离所述彩膜基板的一端伸入所述第二凹槽中。

9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述在所述第一导电层背离所述第一衬底一侧沉积绝缘层之前，所述阵列基板的制备方法还包括：

10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述在所述第一导电层背离所述第一衬底一侧沉积绝缘层之前，所述阵列基板的制备方法还包括：

技术总结本申请涉及一种液晶显示面板及其制备方法，该液晶显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，阵列基板具有多个像素区和位于相邻的像素区之间的器件区，阵列基板包括第一衬底、位于第一衬底上的第一导电层和绝缘层；彩膜基板包括第二衬底、位于第二衬底上的遮光层、色阻层及公共电极，色阻层包括多个柱状隔垫物，且柱状隔垫物在阵列基板一侧的正投影位于器件区，第一导电层对应柱状隔垫物形成有第一虚拟电极，绝缘层对应于第一虚拟电极的两侧分别形成有第一凹槽，柱状隔垫物远离彩膜基板的一端抵接至第一虚拟电极对应的绝缘层。本申请可以减少一道光罩制程工艺，避免产品受到外力时柱状隔垫物滑动发生短路而显示异常，提升显示品质。技术研发人员：朱先飞,叶利丹受保护的技术使用者：重庆惠科金渝光电科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/29