电子照相感光体、处理盒和图像形成装置的制作方法

本发明涉及电子照相感光体、处理盒和图像形成装置。

背景技术：

1、电子照相感光体作为像承载体用在电子照相方式的图像形成装置(例如，打印机或者多功能一体机)中。为了提高电子照相感光体的机械强度，进行了各种研究。作为电子照相感光体的一个例子，目前提出了一种电子照相感光体，其表面层含有由下列式子所示的二元羧酸成分和二元酚成分得到的聚芳酯树脂。

2、

技术实现思路

1、但是，本发明人通过研究发现，上述的电子照相感光体在耐磨损性、耐成膜性和抗划伤性方面以及抑制转印记忆方面是不充分的。

2、本发明是鉴于上述课题而作出的，其目的在于提供一种耐磨损性、耐成膜性和抗划伤性优异且能够抑制转印记忆的电子照相感光体、处理盒和图像形成装置。

3、本发明的电子照相感光体具备导电性基体和感光层。所述感光层是单层的。所述感光层含有电荷产生剂、粘结树脂、电子输送剂和空穴输送剂。所述粘结树脂含有聚芳酯树脂。所述聚芳酯树脂具有式(1)、(2)、(3)和(4)所示的重复单元。相对于所述式(1)和所述式(3)所示的重复单元的总数，所述式(3)所示的重复单元的含有率大于0％小于50％。相对于所述式(2)和所述式(4)所示的重复单元的总数，所述式(4)所示的重复单元的含有率是35％以上且小于70％。所述电子输送剂含有式(11)、(12)、(13)、(14)、(15)、(16)或者(17)所示的化合物。所述空穴输送剂含有式(20)、(21)或者(22)所示的化合物。相对于所述感光层的质量，所述电子输送剂的含有率是15质量％以上35质量％以下。

4、

5、所述式(1)中，r1和r2表示甲基且x是式(x1)所示的二价基。或者，r1和r2表示氢原子且x是式(x2)所示的二价基。

6、

7、所述式(x1)和所述式(x2)中，*表示结合键。

8、

9、

10、所述式(11)中的q1和q2、所述式(12)中的q21、q22、q23和q24、所述式(13)中的q31和q32、所述式(14)中的q41、q42和q43、所述式(15)中的q51、q52、q53和q54、所述式(16)中的q61和q62以及所述式(17)中的q71、q72、q73、q74、q75和q76各自独立，表示氢原子、卤素原子、氰基、c1-c6烷基、c2-c6链烯基、c1-c6烷氧基、无取代的c6-c14芳基或者由从c1-c6烷基和卤素原子构成的组中选择的至少一个取代基进行了取代的c6-c14芳基。所述式(17)中的y1和y2各自独立，表示氧原子或者硫原子。

11、

12、所述式(20)中，r50和r51各自独立，表示c1-c6烷基、c1-c6烷氧基或者苯基，r52、r53、r54、r55、r56、r57和r58各自独立，表示氢原子、c1-c6烷基、c1-c6烷氧基、无取代的苯基或者具有c1-c6烷基取代基的苯基，f1和f2各自独立，表示0以上2以下的整数，f3和f4各自独立，表示0以上5以下的整数。所述式(21)中，r21、r22和r23各自独立，表示c1-c6烷基，r24、r25和r26各自独立，表示氢原子或者c1-c6烷基，b1、b2和b3各自独立，表示0或者1。所述式(22)中，r31、r32和r33各自独立，表示c1-c6烷基，r34表示c1-c6烷基或者氢原子，d1、d2和d3各自独立，表示0以上5以下的整数。

13、本发明的处理盒具备从带电装置、曝光装置、显影装置、转印装置、清洗装置和消除静电装置构成的组中选择的至少一个装置以及上述电子照相感光体。

14、本发明的图像形成装置具备：像承载体；带电装置，使所述像承载体的表面带电；曝光装置，对带电了的所述像承载体的所述表面进行曝光，在所述像承载体的所述表面上形成静电潜像；显影装置，向所述像承载体的所述表面供给调色剂，将所述静电潜像显影为调色剂像；以及转印装置，将所述调色剂像从所述像承载体上转印到被转印体上。所述像承载体是上述电子照相感光体。

15、〔发明效果〕

16、本发明的电子照相感光体、处理盒和图像形成装置具有优异的耐磨损性、耐成膜性和抗划伤性且能够抑制转印记忆。

技术特征：

1.一种电子照相感光体，

2.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其特征在于，

3.根据权利要求1或2所述的电子照相感光体，其特征在于，

4.根据权利要求1或2所述的电子照相感光体，其特征在于，

5.一种处理盒，具备：

6.一种图像形成装置，具备：

7.根据权利要求6所述的图像形成装置，其特征在于，

8.根据权利要求6所述的图像形成装置，其特征在于，

9.根据权利要求6所述的图像形成装置，其特征在于，

技术总结本发明提供电子照相感光体、处理盒、图像形成装置。电子照相感光体中的单层感光层含有电荷产生剂、粘结树脂、电子输送剂和空穴输送剂。粘结树脂含有聚芳酯树脂。聚芳酯树脂具有重复单元(1)、(2)、(3)和(4)。相对于重复单元(1)和(3)的总数，重复单元(3)的含有率大于0％小于50％。相对于重复单元(2)和(4)的总数，重复单元(4)的含有率是35％以上且小于70％。技术研发人员：清水智文,宍戸真受保护的技术使用者：京瓷办公信息系统株式会社技术研发日：技术公布日：2024/5/29