一种高精度掩膜版的制作方法与流程

本发明涉及掩膜版制作，具体涉及一种高精度掩膜版的制作方法。

背景技术：

1、在掩模版生产中，掩模版光刻胶基本采用旋涂的方式，由于中心位置到边缘位置的线速度不同，会导致掩模版上不同位置处的光刻胶厚度产生差异。目前，显影和蚀刻设备采用的也是旋喷方式，因此进一步加剧了掩模版中心位置与边缘位置之间的线宽差异。

2、光刻机本身具有一定的线宽规格，受限于设备本身的能力，很难达到客户要求的线宽精度，现有方法是购买高精度光刻机来提高线宽精度。然而，这种做法会使得生产成本极大增加，并且高精度光刻耗费时间更长，大大影响生产的经济性，更为重要的是，无法从根本上解决光刻胶厚度差异、显影蚀刻设备和光刻机本身造成的线宽精度较低的问题。

技术实现思路

1、(一)解决的技术问题

2、针对现有技术所存在的上述缺点，本发明提供了一种高精度掩膜版的制作方法，能够有效克服现有技术所存在的无法从根本上解决光刻胶厚度差异、显影蚀刻设备和光刻机本身造成的线宽精度较低问题的缺陷。

3、(二)技术方案

4、为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：

5、一种高精度掩膜版的制作方法，包括以下步骤：

6、s1、得到初步生产的掩膜版，并对掩膜版进行线宽测量，得到整版位置cd数据；

7、s2、根据整版位置cd数据进行反向线宽补偿，得到整版位置cd补偿数据；

8、s3、根据整版位置cd补偿数据生成曝光文件；

9、s4、利用曝光文件对新的掩膜版进行曝光，得到高精度掩膜版。

10、优选地，s1中对掩膜版进行线宽测量，得到整版位置cd数据，包括：

11、利用cd测量机对掩膜版的各特定位置分别进行多次线宽测量，获取线宽测量值、线宽设计值之间的偏差与该偏差对应所处掩膜版位置的关系，得到实际线宽气泡分布图，即整版位置cd数据。

12、优选地，所述利用cd测量机对掩膜版的各特定位置分别进行多次线宽测量，获取线宽测量值、线宽设计值之间的偏差与该偏差对应所处掩膜版位置的关系，得到实际线宽气泡分布图，即整版位置cd数据，包括：

13、利用cd测量机对掩膜版上等步距分布的孔分别进行多次线宽测量，获取线宽测量值、线宽设计值之间的偏差与该偏差对应所处掩膜版位置的关系，得到实际线宽气泡分布图，即整版位置cd数据；

14、其中，实际线宽气泡分布图中的蓝色气泡代表正偏差，黑色气泡代表负偏差，且气泡越大，偏差值越大。

15、优选地，s2中根据整版位置cd数据进行反向线宽补偿，得到整版位置cd补偿数据，包括：

16、利用cd测量机对掩膜版的各特定位置进行线宽测量，得到各特定位置对应的cd线宽值，并按照线性关系进行拟合，最终得到补偿线宽气泡分布图，即整版位置cd补偿数据。

17、优选地，所述利用cd测量机对掩膜版的各特定位置进行线宽测量，得到各特定位置对应的cd线宽值，并按照线性关系进行拟合，最终得到补偿线宽气泡分布图，即整版位置cd补偿数据，包括：

18、利用cd测量机对掩膜版上等步距分布的孔进行线宽测量，得到各点位对应的cd线宽值；

19、按照线性关系y＝k*x进行拟合，利用各点位对应的cd线宽值及各点位所处掩膜版的实际位置计算k值，最终得到补偿线宽气泡分布图，即整版位置cd补偿数据；

20、其中，x为点位所处掩膜版的实际位置，y为点位对应的cd线宽值，k为系数。

21、优选地，s3中根据整版位置cd补偿数据生成曝光文件，包括：

22、对整版位置cd补偿数据进行数据处理，得到gds文件的图形区，并将gds文件的图形区放置于与初步生产的掩膜版相同尺寸的版材文件中进行合成，生成用于曝光的st文件。

23、优选地，s4中利用曝光文件对新的掩膜版进行曝光，得到高精度掩膜版，包括：

24、基于st文件，采用与初步生产的掩膜版相同的光刻工艺和后处理工艺，对与初步生产的掩膜版相同尺寸、材料的版材进行光刻、显影、蚀刻、脱模处理后，得到高精度掩膜版。

25、(三)有益效果

26、与现有技术相比，本发明所提供的一种高精度掩膜版的制作方法，根据整版位置cd数据进行反向线宽补偿，得到整版位置cd补偿数据，并根据整版位置cd补偿数据生成曝光文件，实现高精度掩膜版的制作，与传统光刻技术相比，极大地减少了光刻胶厚度差异、后处理工艺造成的线宽偏差，并且打破了光刻机自身的线宽规格限制，有效提高了线宽精度，同时也降低了高精度掩膜版的制作成本。

技术特征：

1.一种高精度掩膜版的制作方法，其特征在于：包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的高精度掩膜版的制作方法，其特征在于：s1中对掩膜版进行线宽测量，得到整版位置cd数据，包括：

3.根据权利要求2所述的高精度掩膜版的制作方法，其特征在于：所述利用cd测量机对掩膜版的各特定位置分别进行多次线宽测量，获取线宽测量值、线宽设计值之间的偏差与该偏差对应所处掩膜版位置的关系，得到实际线宽气泡分布图，即整版位置cd数据，包括：

4.根据权利要求2所述的高精度掩膜版的制作方法，其特征在于：s2中根据整版位置cd数据进行反向线宽补偿，得到整版位置cd补偿数据，包括：

5.根据权利要求4所述的高精度掩膜版的制作方法，其特征在于：所述利用cd测量机对掩膜版的各特定位置进行线宽测量，得到各特定位置对应的cd线宽值，并按照线性关系进行拟合，最终得到补偿线宽气泡分布图，即整版位置cd补偿数据，包括：

6.根据权利要求4所述的高精度掩膜版的制作方法，其特征在于：s3中根据整版位置cd补偿数据生成曝光文件，包括：

7.根据权利要求6所述的高精度掩膜版的制作方法，其特征在于：s4中利用曝光文件对新的掩膜版进行曝光，得到高精度掩膜版，包括：

技术总结本发明涉及掩膜版制作，具体涉及一种高精度掩膜版的制作方法，得到初步生产的掩膜版，并对掩膜版进行线宽测量，得到整版位置CD数据；根据整版位置CD数据进行反向线宽补偿，得到整版位置CD补偿数据；根据整版位置CD补偿数据生成曝光文件；利用曝光文件对新的掩膜版进行曝光，得到高精度掩膜版；本发明提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的无法从根本上解决光刻胶厚度差异、显影蚀刻设备和光刻机本身造成的线宽精度较低问题的缺陷。技术研发人员：杜晓威,熊启龙受保护的技术使用者：佛山清溢光电有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/11