IC引线框架无缝曝光机双层对位控制机构的制作方法

本技术属于ic引线框架，具体涉及一种ic引线框架无缝曝光机双层对位控制机构。

背景技术：

1、引线框架是半导体封装的基础材料，是集成线路芯片的载体，生产引线框架的主要材料是铜合金，主要通过冲压的方式生产，冲压完成后需要对引线框架进行蚀刻，以实现高密度和多脚数引线框架的生产，引线框架自身重力的影响，使得引线框架在输送的过程中，其表面无法保持绝对水平的状态，进而影响曝光机的曝光效果以及曝光精度，在现有技术中，为了降低引线框架自身重力的影响，需要在引线框架底部设置支撑装置对其进行支撑，将曝光机设置在其上方，以此进行单面曝光，但是在一面曝光完成后，需要将引线框架进行翻转以对另一面进行曝光，然而在输送架底部也设置曝光机进行曝光时，由于支撑装置对其下表面的遮挡，使得其下表面部分位置无法曝光，因此无法对引线框架进行同步双面曝光处理，仍然需要进行再次翻转，无法满足曝光需求。

2、为此，公开号为“cn116741670a”的一种引线框架高精度单双面曝光机，涉及引线框架技术领域，包括曝光箱体，曝光箱体内开设有曝光腔体；还包括贯穿曝光腔体的支撑架，支撑架布设有两组且呈相对布设，支撑架上可滑动布设有定位框架，定位框架中相对固定布设定位板，两侧定位板与定位框架围合形成用于放置工件的定位槽，通过在引线框架两侧同步设置曝光机本体，使得在输送的过程中可以对其进行双面曝光处理，有效提高了曝光效率，自动化程度更高。

3、但是，对于上述引线框架高精度单双面曝光机，虽然第一电机输出端驱动一侧第一齿轮转动时，第一齿轮通过皮带轮机构以及转轴驱动另一侧第一齿轮转动，实现工件的翻转对位，在使用过程中仍然存在以下较为明显的缺陷：然而在工件翻转对位的过程中由于翻转时产生的惯性，使工件无法对准曝光机中曝光机构的位置，进行精准对位曝光，从而需要通过人员手动调整工件的角度，进而会降低工件曝光的效率。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种ic引线框架无缝曝光机双层对位控制机构，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种ic引线框架无缝曝光机双层对位控制机构，包括下平台底部台面、下平台中间层台面部件，所述下平台底部台面的端部斜对角端设有底层y向主传动支撑部件，且下平台底部台面端部斜对应前的后侧均对称设有底层从动传动支撑部件，所述下平台底部台面的端部左右两个边侧均设有底层x向主传动支撑部件，所述下平台中间层台面部件的端部设有下平台上层台面，所述下平台上层台面的端部纵向对称设有上层y向主动支撑部件和上层从动传动支撑部件，所述下平台上层台面的端部横向设有上层x向主动支撑部件，所述上层y向主动支撑部件、上层从动传动支撑部件的端部水平叠加设有下玻璃平台和上玻璃平台。

3、优选的，所述下平台底部台面的端部所设底层从动传动支撑部件的底端对应位置处设有垫座滑道，且底层从动传动支撑部件在垫座滑道端部滑动，实现角度的调节。

4、优选的，所述底层x向主传动支撑部件通过连接块固定在下平台中间层台面部件底部的左右两端，能够使工件进行曝光角度的调节。

5、优选的，所述上层x向主动支撑部件通过传动连接的驱动块水平设有支撑台板，且下玻璃平台和上玻璃平台放置在支撑台板的端部，用于对下玻璃平台和上玻璃平台的对位角度调节。

6、优选的，所述上层y向主动支撑部件通过传动连接的顶块与支撑台板底部的一边角固定连接，所述上层从动传动支撑部件滑动设置在下平台上层台面端部一边角设置有的滑槽中，以便于使工件角度翻转并滑动。

7、本实用新型的技术效果和优点：该ic引线框架无缝曝光机双层对位控制机构，通过下平台底部台面为底层y向主传动支撑部件、底层从动传动支撑部件以及底层x向主传动支撑部件提供对工件组装平台作用，同时底层y向主传动支撑部件、底层从动传动支撑部件以及底层x向主传动支撑部件的配合下实现对下平台中间层台面部件提供了xy两个方向的旋转运动，下平台上层台面为上层y向主动支撑部件，上层从动传动支撑部件及上层x向主动支撑部件提供了组装平台，同时上层y向主动支撑部件、上层从动传动支撑部件及上层x向主动支撑部件的传动调节配合下，来实现上玻璃平台的x向、y向及旋转的运动，从而让工件在曝光时进行角度的调节旋转，通过上述的部件之间的配合连动下运行达到控制下玻璃平台和上玻璃平台对工件角度调节后的精准对位，进一步提高工件的曝光效率。

技术特征：

1.一种ic引线框架无缝曝光机双层对位控制机构，包括下平台底部台面(1)、下平台中间层台面部件(2)，其特征在于：所述下平台底部台面(1)的端部斜对角端设有底层y向主传动支撑部件(4)，且下平台底部台面(1)端部斜对应前的后侧均对称设有底层从动传动支撑部件(5)，所述下平台底部台面(1)的端部左右两个边侧均设有底层x向主传动支撑部件(6)，所述下平台中间层台面部件(2)的端部设有下平台上层台面(3)，所述下平台上层台面(3)的端部纵向对称设有上层y向主动支撑部件(7)和上层从动传动支撑部件(8)，所述下平台上层台面(3)的端部横向设有上层x向主动支撑部件(9)，所述上层y向主动支撑部件(7)、上层从动传动支撑部件(8)的端部水平叠加设有下玻璃平台(10)和上玻璃平台(11)。

2.根据权利要求1所述的一种ic引线框架无缝曝光机双层对位控制机构，其特征在于：所述下平台底部台面(1)的端部所设底层从动传动支撑部件(5)的底端对应位置处设有垫座滑道(12)，且底层从动传动支撑部件(5)在垫座滑道(12)端部滑动。

3.根据权利要求1所述的一种ic引线框架无缝曝光机双层对位控制机构，其特征在于：所述底层x向主传动支撑部件(6)通过连接块固定在下平台中间层台面部件(2)底部的左右两端。

4.根据权利要求1所述的一种ic引线框架无缝曝光机双层对位控制机构，其特征在于：所述上层x向主动支撑部件(9)通过传动连接的驱动块水平设有支撑台板(13)，且下玻璃平台(10)和上玻璃平台(11)放置在支撑台板(13)的端部。

5.根据权利要求4所述的一种ic引线框架无缝曝光机双层对位控制机构，其特征在于：所述上层y向主动支撑部件(7)通过传动连接的顶块与支撑台板(13)底部的一边角固定连接，所述上层从动传动支撑部件(8)滑动设置在下平台上层台面(3)端部一边角设置有的滑槽中。

技术总结本技术公开了一种IC引线框架无缝曝光机双层对位控制机构，包括下平台底部台面、下平台中间层台面部件，所述下平台底部台面的端部斜对角端设有底层Y向主传动支撑部件，通过下平台上层台面为上层Y向主动支撑部件，上层从动传动支撑部件及上层X向主动支撑部件提供了组装平台，同时上层Y向主动支撑部件、上层从动传动支撑部件及上层X向主动支撑部件的传动调节配合下，来实现上玻璃平台的X向、Y向及旋转的运动，从而让工件在曝光时进行角度的调节旋转，通过上述的部件之间的配合连动下运行达到控制下玻璃平台和上玻璃平台对工件角度调节后的精准对位，进一步提高工件的曝光效率。技术研发人员：刘保华,徐小龙,管燕彬,马林受保护的技术使用者：昆山建高远自动化科技有限公司技术研发日：20231024技术公布日：2024/6/11