一种真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置的制作方法

本发明涉及真空离子镀膜机，具体为一种真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置。

背景技术：

1、利用真空离子镀膜方式沉积镀膜是主流镀膜技术之一，应用非常广泛，真空离子镀膜需要通过电弧装置放电来完成，在实现电弧装置放电过程中，需要引弧状态和非引弧状态配合完成，引弧状态下将引弧装置中的引弧针触碰电弧装置中的靶材，使靶材产生放电；非引弧状态下将引弧针远离靶材，防止引弧装置损坏和影响电弧装置放电，因此引弧装置的设计尤为重要。

2、传统的引弧装置分为两种形式，一种形式通过旋转引弧气缸直接带动引弧针动作，引弧针与靶材之间的位置关系由引弧气缸旋转角度决定，但引弧针动作过程中会产生动态密封，密封件为胶圈类很容易磨损，会导致引弧装置漏气，影响产品镀膜品质；另一种形式通过引弧气缸连接波纹管后带动引弧针动作，波纹管可以有效的避免动态密封引起的漏气，但引弧针无法旋转，会一直停留在靶材正前方，遮挡部分靶材，会被镀上大量膜层，影响产品镀膜效率，同时在引弧针与靶材触碰时，由于引弧针表面的膜层过多，会因撞击而掉落，会掉落在产品表面，影响产品镀膜品质。

技术实现思路

1、为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置，包括电弧装置、引弧装置以及真空室，所述电弧装置和引弧装置均安装于真空室的侧板上；

2、所述引弧装置包括固定焊接在侧板上的固定座，所述固定座的一侧设置有引弧气缸，所述固定座的内部套设有绝缘套，所述引弧气缸的一端设置有密封波纹管，所述密封波纹管远离引弧气缸的一端贯穿绝缘套并延伸至固定座的一侧，所述固定座远离引弧气缸的一侧通过连接板连接有轴支架，所述轴支架的一端内部活动设置有滑块，所述滑块以及轴支架的内部共同穿设有限位轴，所述密封波纹管的一端设置有一端延伸至滑块内部的拉杆，所述滑块的两侧均开设有腰形孔，所述拉杆的一端内部套设有两端分别延伸至两个腰形孔内部的滑动轴，所述滑块顶部设置有一端延伸至电弧装置一侧的引弧针；

3、启动所述引弧气缸拉动滑块以限位轴为圆心转动，以将所述引弧针从电弧装置的一侧转动至电弧装置的下方。

4、进一步的，所述滑块的内部开设有位于腰形孔一侧的定位孔，所述定位孔以及轴支架的一端内部共同套设有大石墨铜套，所述限位轴套设于大石墨铜套的内部，且限位轴的两端分别贯穿至轴支架的两侧并活动插接有开口销。

5、进一步的，两个所述腰形孔的内部分别滑动设置有滑动轴两端相套接的小石墨铜套，所述滑动轴的两端贯穿至两个腰形孔的外部并套设有固定垫，所述滑动轴的两端还螺纹连接有两个分别用于对两个固定垫进行固定的十字槽沉头螺钉。

6、进一步的，所述引弧针远离电弧装置的一端活动插接于滑块的内部，所述滑块的一侧设置有一端旋入其内部并与引弧针插入滑块内部的一端相抵触的六角圆柱头螺钉一。

7、进一步的，所述绝缘套的一端设有与固定座一侧相贴合的绝缘套护边，所述密封波纹管的一端设有与绝缘套护边一侧相贴合的波纹管护边，所述固定座、绝缘套护边以及波纹管护边之间均设置有o型密封圈。

8、进一步的，所述引弧气缸的一端通过内六角圆柱头螺钉二安装有气缸座，所述气缸座的一侧与波纹管护边远离绝缘套护边的一侧相贴合。

9、进一步的，所述气缸座的内部设置有一端延伸至波纹管护边内部的小绝缘垫一，所述小绝缘垫一的内部设置有一端依次贯穿波纹管护边、绝缘套护边内部并旋入固定座内部的内六角圆柱头螺钉三。

10、进一步的，所述固定座的一侧安装有大绝缘垫，所述大绝缘垫远离固定座的一侧安装有固定板，所述大绝缘垫和固定板的内部均与密封波纹管活动套接，所述固定板远离大绝缘垫的一侧焊接有连接板，所述连接板远离固定板的一端通过支架底板与轴支架远离滑块的一端焊接固定。

11、进一步的，所述固定板的内部套设有一端延伸至大绝缘垫内部的小绝缘垫二，所述小绝缘垫二的内部设有一端贯穿大绝缘垫并旋入固定座内部的内六角圆柱头螺钉四。

12、进一步的，所述电弧装置包括安装在侧板上的靶体以及设置于靶体一侧的靶材，所述引弧针呈l型，所述引弧针远离滑块的一端延伸至靶材的一侧。

13、与现有技术相比，本发明提供了一种真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置，具备以下有益效果：

14、该真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置，采用密封波纹管方式进行动态密封，避免由于动态密封引起的密封件损坏而导致漏气现象，更好的保证密封效果，更好的保证产品镀膜品质，引弧针采用可旋转的方式，使引弧针在不触碰靶材时，远离靶材，不在靶材正前方，不对靶材形成遮挡，避免引弧针表面被镀上大量膜层，不影响产品镀膜效率，同时在引弧针与靶材触碰时，由于引弧针表面的膜层薄，不会因撞击而掉落，不影响产品镀膜品质。

技术特征：

1.一种真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置，包括电弧装置(2)、引弧装置(3)以及真空室(1)，其特征在于：所述电弧装置(2)和引弧装置(3)均安装于真空室(1)的侧板(11)上；

2.根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置，其特征在于：所述滑块(314)的内部开设有位于腰形孔(3141)一侧的定位孔(3142)，所述定位孔(3142)以及轴支架(35)的一端内部共同套设有大石墨铜套(33)，所述限位轴(34)套设于大石墨铜套(33)的内部，且限位轴(34)的两端分别贯穿至轴支架(35)的两侧并活动插接有开口销(324)。

3.根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置，其特征在于：两个所述腰形孔(3141)的内部分别滑动设置有滑动轴(315)两端相套接的小石墨铜套(327)，所述滑动轴(315)的两端贯穿至两个腰形孔(3141)的外部并套设有固定垫(326)，所述滑动轴(315)的两端还螺纹连接有两个分别用于对两个固定垫(326)进行固定的十字槽沉头螺钉(325)。

4.根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置，其特征在于：所述引弧针(32)远离电弧装置(2)的一端活动插接于滑块(314)的内部，所述滑块(314)的一侧设置有一端旋入其内部并与引弧针(32)插入滑块(314)内部的一端相抵触的六角圆柱头螺钉一(31)。

5.根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置，其特征在于：所述绝缘套(310)的一端设有与固定座(319)一侧相贴合的绝缘套护边(3101)，所述密封波纹管(321)的一端设有与绝缘套护边(3101)一侧相贴合的波纹管护边(3211)，所述固定座(319)、绝缘套护边(3101)以及波纹管护边(3211)之间均设置有o型密封圈(320)。

6.根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置，其特征在于：所述引弧气缸(313)的一端通过内六角圆柱头螺钉二(312)安装有气缸座(322)，所述气缸座(322)的一侧与波纹管护边(3211)远离绝缘套护边(3101)的一侧相贴合。

7.根据权利要求6所述的一种真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置，其特征在于：所述气缸座(322)的内部设置有一端延伸至波纹管护边(3211)内部的小绝缘垫一(311)，所述小绝缘垫一(311)的内部设置有一端依次贯穿波纹管护边(3211)、绝缘套护边(3101)内部并旋入固定座(319)内部的内六角圆柱头螺钉三(317)。

8.根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置，其特征在于：所述固定座(319)的一侧安装有大绝缘垫(39)，所述大绝缘垫(39)远离固定座(319)的一侧安装有固定板(38)，所述大绝缘垫(39)和固定板(38)的内部均与密封波纹管(321)活动套接，所述固定板(38)远离大绝缘垫(39)的一侧焊接有连接板(37)，所述连接板(37)远离固定板(38)的一端通过支架底板(36)与轴支架(35)远离滑块(314)的一端焊接固定。

9.根据权利要求8所述的一种真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置，其特征在于：所述固定板(38)的内部套设有一端延伸至大绝缘垫(39)内部的小绝缘垫二(318)，所述小绝缘垫二(318)的内部设有一端贯穿大绝缘垫(39)并旋入固定座(319)内部的内六角圆柱头螺钉四(323)。

10.根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置，其特征在于：所述电弧装置(2)包括安装在侧板(11)上的靶体(21)以及设置于靶体(21)一侧的靶材(22)，所述引弧针(32)呈l型，所述引弧针(32)远离滑块(314)的一端延伸至靶材(22)的一侧。

技术总结本发明公开了一种真空离子镀膜机中可旋转无漏点的引弧装置，涉及真空离子镀膜机技术领域。包括电弧装置、引弧装置以及真空室，电弧装置和引弧装置均安装于真空室的侧板上；引弧装置包括固定焊接在侧板上的固定座，固定座的一侧设置有引弧气缸。采用密封波纹管方式进行动态密封，避免由于动态密封引起的密封件损坏而导致漏气现象，更好的保证密封效果，更好的保证产品镀膜品质，引弧针采用可旋转的方式，使引弧针在不触碰靶材时，远离靶材，不在靶材正前方，不对靶材形成遮挡，避免引弧针表面被镀上大量膜层，不影响产品镀膜效率，同时在引弧针与靶材触碰时，由于引弧针表面的膜层薄，不会因撞击而掉落，不影响产品镀膜品质。技术研发人员：程威,刘英林,陈良锦受保护的技术使用者：宁波市丹科真空科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/5