一种测厚仪平衡杆调平衡装置的制作方法

本技术涉及测厚仪，具体涉及一种测厚仪平衡杆调平衡装置。

背景技术：

1、位于测厚仪前部的探头产生一个闭合的磁回路，穿过涂层并进入基材中，形成磁通量，磁通量的强度取决于涂层的厚度，随着探头与铁磁性材料间的距离而改变。涂层测厚仪通过测量磁通量的强度，然后将其转换为对应的涂层厚度值。利用这一原理可以地测量探头与铁磁性材料间的距离，即机械式涂层厚度。

2、平衡杆作为涂层测厚仪关键部件，需要调整其左右平衡，目前平衡杆左右水平调节，一般都是看人工的经验，当人工熟练度较低时，需要耗费较多的时间。

技术实现思路

1、为解决上述技术问题，本实用新型提供一种测厚仪平衡杆调平衡装置，包括底座，所述底座中部上端设置有第一支撑部，所述底座上端且位于第一支撑部的一侧设置有第二支撑部，所述底座上端且位于第一支撑部的另一侧设置有第三支撑部。

2、优选的：所述第一支撑部设置有两个，两个第一支撑部之间具有间隙。

3、优选的：所述第一支撑部上端面开设有凹槽，凹槽用于放置平衡杆。

4、优选的：所述第二支撑部设置有两个，两个所述第二支撑部之间具有间隙。

5、优选的：两个所述第二支撑部之间间隙的宽度大于两个所述第一支撑部之间间隙的宽度。

6、优选的：所述第一支撑部和第二支撑部之间设置有第一支撑柱，第一支撑柱用于支撑平衡杆。

7、优选的：两个所述第三支撑部之间间隙的宽度大于两个所述第一支撑部之间间隙的宽度。

8、优选的：所述第一支撑部和第三支撑部之间设置有第二支撑柱，第二支撑柱用于支撑平衡杆。

9、优选的：一个所述第二支撑部的内壁固定连接有第一定位块，且第一定位块位于两个第二支撑部的间隙内。

10、优选的：一个所述第三支撑部的内壁固定连接有第二定位块，且第二定位块位于两个第三支撑部的间隙内。

11、本实用新型的技术效果和优点：

12、将平衡杆的转轴放置于第一支撑部上端的凹槽中，若是平衡杆左右是水平的，则平衡杆一侧端贴在第一支撑柱和第一定位块上端，平衡杆另一侧端贴在第二支撑柱和第二定位块上端，若是平衡杆左右不是水平的，则平衡杆弯曲的一端则会与第一支撑柱和第一定位块或第二支撑柱和第二定位块上端面不接触，再通过夹钳调整平衡杆平衡，此调平衡装置结构简单，操作方便，制造成本低。

技术特征：

1.一种测厚仪平衡杆调平衡装置，包括底座(1)，其特征在于，所述底座(1)中部上端设置有第一支撑部(2)，所述底座(1)上端且位于第一支撑部(2)的一侧设置有第二支撑部(3)，所述底座(1)上端且位于第一支撑部(2)的另一侧设置有第三支撑部(4)。

2.根据权利要求1所述的一种测厚仪平衡杆调平衡装置，其特征在于，所述第一支撑部(2)设置有两个，两个第一支撑部(2)之间具有间隙。

3.根据权利要求2所述的一种测厚仪平衡杆调平衡装置，其特征在于，所述第一支撑部(2)上端面开设有凹槽(21)，凹槽(21)用于放置平衡杆。

4.根据权利要求3所述的一种测厚仪平衡杆调平衡装置，其特征在于，所述第二支撑部(3)设置有两个，两个所述第二支撑部(3)之间具有间隙。

5.根据权利要求4所述的一种测厚仪平衡杆调平衡装置，其特征在于，两个所述第二支撑部(3)之间间隙的宽度大于两个所述第一支撑部(2)之间间隙的宽度。

6.根据权利要求1所述的一种测厚仪平衡杆调平衡装置，其特征在于，所述第一支撑部(2)和第二支撑部(3)之间设置有第一支撑柱(5)，第一支撑柱(5)用于支撑平衡杆。

7.根据权利要求6所述的一种测厚仪平衡杆调平衡装置，其特征在于，两个所述第三支撑部(4)之间间隙的宽度大于两个所述第一支撑部(2)之间间隙的宽度。

8.根据权利要求1所述的一种测厚仪平衡杆调平衡装置，其特征在于，所述第一支撑部(2)和第三支撑部(4)之间设置有第二支撑柱(6)，第二支撑柱(6)用于支撑平衡杆。

9.根据权利要求1所述的一种测厚仪平衡杆调平衡装置，其特征在于，一个所述第二支撑部(3)的内壁固定连接有第一定位块(31)，且第一定位块(31)位于两个第二支撑部(3)的间隙内。

10.根据权利要求1所述的一种测厚仪平衡杆调平衡装置，其特征在于，一个所述第三支撑部(4)的内壁固定连接有第二定位块(41)，且第二定位块(41)位于两个第三支撑部(4)的间隙内。

技术总结本技术公开了一种测厚仪平衡杆调平衡装置，包括底座，所述底座中部上端设置有第一支撑部，所述底座上端且位于第一支撑部的一侧设置有第二支撑部，所述底座上端且位于第一支撑部的另一侧设置有第三支撑部，将平衡杆的转轴放置于第一支撑部上端的凹槽中，若是平衡杆左右是水平的，则平衡杆一侧端贴在第一支撑柱和第一定位块上端，平衡杆另一侧端贴在第二支撑柱和第二定位块上端，若是平衡杆左右不是水平的，则平衡杆弯曲的一端则会与第一支撑柱和第一定位块或第二支撑柱和第二定位块上端面不接触，再通过夹钳调整平衡杆平衡，此调平衡装置结构简单，操作方便，制造成本低。技术研发人员：高富豪,孙毅,王红印,王琳受保护的技术使用者：上海赛丰航技术有限公司技术研发日：20231117技术公布日：2024/7/11