显示设备的制作方法

本公开涉及一种显示设备，并且更具体地，涉及一种具有具备倾斜的侧壁的有机图案的显示设备和一种制造显示设备的方法。

背景技术：

1、近来，显示设备已经被用于各种目的。随着显示设备已经变得较薄并且重量上较轻，显示设备的使用的范围已经扩大。另外，随着显示设备已经被用于各种领域，对能够提供高质量图像的显示设备的需求正在增加。近来，显示设备已经越来越多地被用于车辆内，使得图像可以被提供到坐在驾驶员的座位或乘客座位中的用户。

技术实现思路

1、一种显示设备包括：基底；显示元件，设置在所述基底上；第一有机层，设置在所述显示元件上并且包括多个第一有机图案，所述多个第一有机图案在第一方向上延伸并且具有相反梯度的多个侧壁；多个第一遮光壁，分别设置在所述多个第一有机图案的所述多个侧壁上；第二有机层，包括多个第二有机图案，所述多个第二有机图案在所述第一方向上延伸并且具有具备交替的倾斜的方向的多个侧壁；以及多个第二遮光壁，分别设置在所述多个第二有机图案的所述多个侧壁上。

2、所述多个第一有机图案和所述多个第二有机图案可以在与所述第一方向交叉的第二方向上以交错的方式设置。

3、所述第一有机层可以包括第一凹槽，所述第一凹槽设置在所述多个第一有机图案中的相邻的第一有机图案之间并且具有相对于所述多个第一有机图案的上表面凹陷的底表面。设置在所述相邻的第一有机图案的侧壁上的第一遮光壁可以覆盖所述第一凹槽的所述底表面的一部分。

4、所述第二有机层可以填充所述第一凹槽。

5、所述第二有机层可以设置在所述第一有机层上并且包括第二凹槽，所述第二凹槽设置在所述多个第二有机图案中的相邻的第二有机图案之间并且具有相对于所述多个第二有机图案的上表面凹陷的底表面。设置在所述多个第二有机图案中的所述相邻的第二有机图案的侧壁上的第二遮光壁可以覆盖所述第二凹槽的所述底表面的一部分。

6、所述第二凹槽的所述底表面可以包括所述第一有机图案的上表面。

7、所述第一遮光壁和所述第二遮光壁可以包括金属氧化物。

8、由所述多个第一有机图案的所述多个侧壁中的每一个和所述多个第二有机图案的所述多个侧壁中的每一个相对于所述基底的上表面形成的斜率可以是70°或更大。

9、所述显示设备还可以包括透光层，所述透光层设置在所述第二有机层上。

10、当从垂直于所述基底的方向观察时，所述多个第一遮光壁和所述多个第二遮光壁可以彼此重叠。

11、一种显示设备包括：基底；显示元件，设置在所述基底上；第一有机层，设置在所述显示元件上并且包括多个第一有机图案，所述多个第一有机图案在第一方向上延伸并且具有相反梯度的多个侧壁；多个第一遮光壁，分别设置在所述多个第一有机图案的所述多个侧壁上；第二有机层，设置在所述第一有机层上并且包括多个第二有机图案，所述多个第二有机图案在所述第一方向上延伸并且具有具备交替的倾斜的方向的多个侧壁；以及多个第二遮光壁，分别设置在所述多个第二有机图案的所述多个侧壁上。

12、所述多个第一有机图案和所述多个第二有机图案可以在与所述第一方向交叉的第二方向上以交错的方式设置。

13、所述第一有机层可以包括第一凹槽，所述第一凹槽设置在所述多个第一有机图案中的相邻的第一有机图案之间并且具有相对于所述多个第一有机图案的上表面凹陷的底表面，并且设置在所述相邻的第一有机图案的侧壁上的第一遮光壁可以覆盖所述第一凹槽的所述底表面的一部分。

14、所述第二有机层可以填充所述第一凹槽。

15、所述第二有机层可以包括第二凹槽，所述第二凹槽设置在所述多个第二有机图案中的相邻的第二有机图案之间并且具有相对于所述多个第二有机图案的上表面凹陷的底表面，并且设置在所述相邻的第二有机图案的侧壁上的第二遮光壁可以覆盖所述第二凹槽的所述底表面的一部分。

16、所述第二凹槽的所述底表面可以包括所述第一有机图案的上表面。

17、所述第一遮光壁和所述第二遮光壁可以包括金属氧化物。

18、由所述多个第一有机图案的所述多个侧壁中的每一个和所述多个第二有机图案的所述多个侧壁中的每一个相对于所述基底的上表面形成的斜率可以是70°或更大。

19、所述显示设备还可以包括透光层，所述透光层设置在所述第二有机层上。

20、当从垂直于所述基底的方向观察时，所述多个第一遮光壁和所述多个第二遮光壁可以彼此重叠。

21、一种制造显示设备的方法包括：制备基底，在所述基底上设置显示元件；在所述显示元件上形成第一有机层，所述第一有机层包括多个第一有机图案，所述多个第一有机图案在第一方向上延伸并且具有相反梯度的多个侧壁；形成覆盖所述多个第一有机图案的第一遮光层；通过蚀刻所述第一遮光层在所述多个第一有机图案的所述多个侧壁上形成多个第一遮光壁；在所述第一有机层上形成第二有机层，所述第二有机层包括多个第二有机图案，所述多个第二有机图案在所述第一方向上延伸并且具有具备交替的倾斜的方向的多个侧壁；形成覆盖所述多个第二有机图案的第二遮光层；以及通过蚀刻所述第二遮光层在所述多个第二有机图案的所述多个侧壁上形成多个第二遮光壁。

22、所述第一有机层可以包括第一凹槽，所述第一凹槽设置在所述多个第一有机图案中的相邻的第一有机图案之间并且具有相对于所述多个第一有机图案的上表面凹陷的底表面，并且，在所述第二有机层的所述形成中，所述第二有机层可以填充所述第一凹槽。

23、设置在所述相邻的第一有机图案的侧壁上的第一遮光壁可以覆盖所述第一凹槽的所述底表面的一部分。

24、所述多个第一有机图案和所述多个第二有机图案可以在与所述第一方向交叉的第二方向上以交错的方式设置。

25、所述第二有机层可以包括第二凹槽，所述第二凹槽设置在所述多个第二有机图案中的相邻的第二有机图案之间并且具有相对于所述多个第二有机图案的上表面凹陷的底表面，并且，设置在所述相邻的第二有机图案的侧壁上的第二遮光壁可以覆盖所述第二凹槽的所述底表面的一部分。

26、所述第一遮光壁的所述形成可以包括：形成覆盖所述第一遮光层的第一光致抗蚀剂层；通过使用所述第一遮光层的上表面作为掩模来在与所述第一遮光层的所述上表面重叠的区域中形成第一光致抗蚀剂图案；通过使用所述第一光致抗蚀剂图案作为掩模来蚀刻所述第一遮光层；以及去除所述第一光致抗蚀剂图案。

27、所述第二遮光壁的所述形成可以包括：形成覆盖所述第二遮光层的第二光致抗蚀剂层；通过使用所述第二遮光层的上表面作为掩模来在与所述第二遮光层的所述上表面重叠的区域中形成第二光致抗蚀剂图案；通过使用所述第二光致抗蚀剂图案作为掩模来蚀刻所述第二遮光层；以及去除所述第二光致抗蚀剂图案。

28、所述多个第一有机图案的所述多个侧壁中的每一个和所述多个第二有机图案的所述多个侧壁中的每一个相对于所述基底的上表面形成70°或更大的斜率。

29、所述第一遮光层和所述第二遮光层可以包括金属氧化物。

30、所述方法还可以包括：在所述第二有机层上形成透光层。