有机-无机粘合剂组合物、包含其的气体阻挡膜及其生产方法与流程

以下描述涉及有机-无机粘合剂组合物、包含其的气体阻挡膜及其生产方法。更具体地，本发明涉及有机-无机粘合剂组合物、包含其的气体阻挡膜及其生产方法，所述气体阻挡膜即使在基底上仅具有无机气体阻挡层和通过涂覆有机-无机粘合剂组合物形成的透明有机-无机粘合层的情况下也可具有优异的阻气性，并且可改善无机气体阻挡层与各种有机材料之间的粘合性。

背景技术：

1、随着使用有机发光二极管(oled)、无机发光体(qd)、有机发光体(od)等的显示技术的发展，对用于显示装置的气体阻挡膜的需求日益增加。由于用于显示装置的气体阻挡膜通常需要高阻气性，因此通过在柔性膜基底上交替层合有机层和无机层，膜主要形成为多层结构。在多层气体阻挡膜中，无机层主要用作气体阻挡层，有机层执行以下功能：使其上待层合无机层的层的表面平坦化；改善基底与无机层之间的粘合性；以及通过填充缺陷部分例如裂缝、针孔等来改善无机层的阻气性。

2、多层气体阻挡膜的优点在于可通过调整无机层和有机层的数量来获得期望水平的阻气性。然而，多层气体阻挡膜也具有以下缺点：随着层数的增加，透明度降低，并且由于层厚度的增加，可能由热膨胀系数的差异而引起内部裂缝；并且随着生产收益率的降低，生产成本增加。此外，多层气体阻挡膜的问题在于，大多数多层气体阻挡膜根据用于与显示装置粘合的目的需要使用粘合剂，或者需要可粘附到显示装置上的功能层，从而不可避免地增加了气体阻挡膜的层数。

3、因此，在这方面，开发这样的气体阻挡膜是有用的：其具有可与装置的构成材料组合的功能层，同时即使在简单的层结构而不是多层结构中也具有足够的阻气性。

技术实现思路

1、技术问题

2、本发明是为了解决上述问题而做出的，并且本发明的一个目的是提供能够改善用于装置中的各种有机材料和无机气体阻挡层之间的粘合性的有机-无机粘合剂组合物。

3、此外，本发明的另一个目的是提供包含有机-无机粘合剂组合物的气体阻挡膜及其生产方法，所述气体阻挡膜在基底上具有简单的层结构的情况下也具有优异的阻挡特性和高透明度。

4、本发明的上述和其他目的和优点将由优选实施方案的以下详细说明而变得明显。

5、技术方案

6、根据本发明的一个方面，上述目的通过提供包含硅烷化合物和基于异氰酸酯的化合物的有机-无机粘合剂组合物来实现。

7、在此，硅烷化合物可为具有选自以下的至少一种或更多种官能团的硅烷：乙烯基、环氧基、甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、氨基和异氰酸酯基。

8、基于异氰酸酯的化合物可优选包含选自以下的至少一者或更多者：具有异氰酸酯基的单体、低聚物或聚合物。

9、根据本发明的另一个方面，上述目的还通过提供气体阻挡膜来实现，所述气体阻挡膜通过依次层合以下来形成：透明基底；无机气体阻挡层；以及通过涂覆有机-无机粘合剂组合物形成的透明有机-无机粘合层。

10、在此，透明有机-无机粘合层可与无机气体阻挡层形成硅氧烷键。

11、透明有机-无机粘合层可优选包含能够与有机材料反应的官能团。

12、官能团可优选包含选自以下的至少一者或更多者：羟基、羧基、丙烯酸基、异氰酸酯基、胺基、酰胺基、脲基、环氧基和硫醇基。

13、透明有机-无机粘合层的厚度可优选为0.05μm至10μm。

14、无机气体阻挡层可优选由选自以下的至少一种制成：包含si、al、ti、zr和ta的金属，或者包含所述金属的金属氧化物、金属氮化物或金属氮氧化物。

15、无机气体阻挡层的厚度可优选为5nm至200nm。

16、透明基底可为包含选自以下的至少一者或更多者的单层或多层结构：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚芳酯、聚碳酸酯、聚醚酰亚胺、聚酰胺-酰亚胺、聚酰亚胺和聚苯并唑。

17、根据本发明的又一个方面，上述目的还通过提供用于生产气体阻挡膜的方法来实现，所述方法包括：提供透明基底；在透明基底的一个表面上形成无机气体阻挡层；生产有机-无机粘合剂组合物；以及通过在无机气体阻挡层上印刷或涂覆有机-无机粘合剂组合物来形成透明有机-无机粘合层。

18、有益效果

19、根据本发明，本发明的效果在于，即使在基底上具有无机层和有机-无机粘合层的简单双层结构而没有表面处理或底涂层的情况下也可实现优异的阻气性；并且有机-无机粘合层可改善用于装置中的有机材料和气体阻挡膜的无机层之间的粘合性，从而实现优异的粘合特性。

20、然而，本发明的效果不限于上述内容，并且本领域技术人员从以下描述中将清楚地理解本文中未描述的其他目的。

技术特征：

1.一种有机-无机粘合剂组合物，包含硅烷化合物和基于异氰酸酯的化合物。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中所述硅烷化合物为具有选自以下的至少一种或更多种官能团的硅烷：乙烯基、环氧基、甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、氨基和异氰酸酯基。

3.根据权利要求1所述的组合物，其中所述基于异氰酸酯的化合物包含选自以下的至少一者或更多者：具有异氰酸酯基的单体、低聚物或聚合物。

4.一种气体阻挡膜，其通过依次层合以下来形成：

5.根据权利要求4所述的气体阻挡膜，其中所述透明有机-无机粘合层与所述无机气体阻挡层形成硅氧烷键。

6.根据权利要求4所述的气体阻挡膜，其中所述透明有机-无机粘合层包含能够与有机材料反应的官能团。

7.根据权利要求6所述的气体阻挡膜，其中所述官能团包含选自以下的至少一者或更多者：羟基、羧基、丙烯酸基、异氰酸酯基、胺基、酰胺基、脲基、环氧基和硫醇基。

8.根据权利要求4所述的气体阻挡膜，其中所述透明有机-无机粘合层的厚度为0.05μm至10μm。

9.根据权利要求4所述的气体阻挡膜，其中所述无机气体阻挡层由选自以下的至少一者制成：包含si、al、ti、zr和ta的金属，或者包含所述金属的金属氧化物、金属氮化物或金属氮氧化物。

10.根据权利要求4所述的气体阻挡膜，其中所述无机气体阻挡层的厚度为5nm至200nm。

11.根据权利要求4所述的气体阻挡膜，其中所述透明基底是包含选自以下的至少一者或更多者的单层或多层结构：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚芳酯、聚碳酸酯、聚醚酰亚胺、聚酰胺-酰亚胺、聚酰亚胺和聚苯并唑。

12.一种用于生产气体阻挡膜的方法，所述方法包括：

技术总结本发明涉及有机‑无机粘合剂组合物、包含其的气体阻挡膜及用于生产其的方法。更具体地，本发明可以提供有机‑无机粘合剂组合物、气体阻挡膜及其生产方法，所述有机‑无机粘合剂组合物能够改善构成装置的无机材料气体阻挡层和各种有机材料之间的粘合性；所述气体阻挡膜即使在基底上具有无机层和有机‑无机粘合层的简单双层结构而没有表面处理或底涂层的情况下也具有优异的阻气性，并且其中有机‑无机粘合层改善了构成装置的气体阻挡膜的无机层和有机材料之间的粘合性，由此表现出优异的粘合特性。技术研发人员：陈尚佑,朴埈佑,李广会,严相烈,李志勋受保护的技术使用者：东丽先端素材株式会社技术研发日：技术公布日：2024/5/16