一种超薄遮蔽键盘膜胶带及制备方法与流程

本发明涉及键盘膜胶带的，尤其是涉及一种超薄遮蔽键盘膜胶带及制备方法。

背景技术：

1、遮光胶带，即用于光阻隔的一种胶带，它可在需要控制光亮度的应用中，将光的影响降至最低，主要应用于笔记本电脑、手机、led、lcd、发光键盘、超薄广告灯箱和背光板等背光源上，起到固定和遮光的作用；因此，制备的遮光胶带必须具有高剥离力、高剥离强度、遮光性能以及耐温性。

2、键盘下方的背光模组里面设有遮光胶带，遮光胶带主要起固定和遮光效果。相关技术中，遮光胶带进行生产时，采用丝网印刷技术进行制备，即先选择白色薄膜做成的胶带，冲型好键盘的形状，然后再将每片胶带分别涂黑，制备得到遮光胶带。采用丝网印刷技术进行制备遮光胶带，需要每片单独制作，制备的效率太低，并且加工繁琐，无法满足工业化的生产。

3、因此，如何提高遮光胶带的剥离力、剥离强度、遮光性能以及耐温性，成为亟待解决的问题。

技术实现思路

1、针对现有技术的不足，本申请提供一种超薄遮蔽键盘膜胶带及制备方法。

2、第一方面，本申请提供一种键盘膜胶带，采用如下的技术方案：

3、一种键盘膜胶带，包括基材层，基材层的一侧涂覆有油墨层；基材层背离油墨层的一侧通过胶黏层粘贴在底材层上；

4、所述胶黏层由胶黏剂制得，胶黏剂包括以下质量份数的原料：

5、亚克力胶水1-5份、丙烯酸酯系胶黏剂40-60份、三聚氰胺甲醛树脂3-8份、纳米二氧化硅1-5份、炭黑5-10份、三聚磷酸钠30-50份、壳聚糖100-150份、抗氧剂1-3份以及光引发剂1-3份。

6、本申请中通过对原料进行改进，加入炭黑，炭黑具有防紫外线的光学性能，加入炭黑可以降低材料的导电性、导热性，增加材料的不透光性以及耐高温性，提高材料的力学性能以及防紫外线能力。

7、本申请中通过对原料进行改进，加入纳米二氧化硅，纳米二氧化硅具有抗紫外线的光学性能，能提高材料的抗老化、剥离强度、剥离力、耐高温性以及耐化学性能。

8、炭黑、纳米二氧化硅总是以聚集体的形态存在，在与其它原料进行混合时，会不均匀地分散在基体中，导致粘黏剂的耐高温性能、遮光性能、剥离强度、剥离力弱化，本申请中通过采用微胶化包覆技术对纳米二氧化硅、炭黑、壳聚糖、三聚磷酸钠进行预处理，形成一种包覆结构，得到具有高剥离力、高剥离强度、耐高温、遮光性能的微胶囊；制备得到的微胶囊与三聚氰胺甲醛树脂、丙烯酸酯系胶黏剂、亚克力胶水、抗氧剂、光引发剂混合，通过各原料之间协同作用，大大提升了粘黏剂的综合性能，并且壁材对纳米二氧化硅、炭黑的保护作用，使纳米二氧化硅、炭黑流失降低，使制备的键盘膜胶带用于粘合时，具有遮光性、耐高温性、高剥离力以及高剥离强度的优点。

9、优选的，对纳米二氧化硅进行改性处理，步骤如下：用偶联剂对纳米二氧化硅进行改性处理。

10、优选的，所述偶联剂与纳米二氧化硅的质量比为(1-4):20；偶联剂为偶联剂kh560。

11、通过采用上述技术方案，由于纳米二氧化硅粒子，粒径小，表面能高，易团聚，形成聚集态结构，与其它原料无法均匀混合；本申请中通对纳米二氧化硅进行改性，通过硅烷偶联剂的桥梁作用，一端可与有机组分产生物理或化学作用，另一端可与无机组分发生反应，有机组分与无机组分以化学键相连，从而提高两者的相互作用，增加了纳米二氧化硅粒子与其它原料的相容性。

12、优选的，对炭黑进行改性处理，步骤如下：将炭黑、杂多酸和双氧水进行反应后，得到改性炭黑。

13、优选的，所述炭黑和杂多酸的质量比为(5-10)：1；所述炭黑和双氧水的质量比为1：(1-5)；所述杂多酸为磷钨酸、硅钨酸、磷钼酸和硅钼酸中至少一种。

14、通过采用上述技术方案，由于炭黑总是以聚集体的形态存在，表面润湿性低，致使分散性能差；本申请中通过对炭黑的表面进行改性处理，使炭黑表面宫能团的种类和数量发生改变，表面活性和极性增加，从而改善炭黑的分散性。

15、优选的，所述抗氧剂为抗氧剂1010、抗氧剂168中的至少一种。

16、优选的，所述光引发剂为mc-299水性uv光引发剂、irgacure 500uv光引发剂、光引发剂2959中的至少一种。

17、优选的，所述油墨层的厚度为5-12μm；所述基材层的厚度为1-5μm；所述胶黏层的厚度为2-8μm；所述底材层50-100μm。

18、优选的，所述胶黏剂的制备方法，步骤如下：

19、(1)按配方称取各原料；

20、(2)将壳聚糖溶解于溶剂中，得到壳聚糖溶液；

21、(3)将纳米二氧化硅、炭黑混合后，加入三聚磷酸钠进行混合，得到混合溶液；

22、(4)向步骤(3)制备得到的混合溶液中滴加壳聚糖溶液，滴加完毕后，再加入三聚氰胺甲醛树脂、丙烯酸酯系胶黏剂、亚克力胶水、抗氧剂、光引发剂混匀，得到胶黏剂。

23、通过采用上述技术方案，本申请中以壳聚糖为壳材，以三聚磷酸钠为芯材，并负载了纳米二氧化硅、炭黑的混合物，通过离子凝胶法来制备微胶囊，制备得到的微胶囊与丙烯酸酯系胶黏剂、亚克力胶水、三聚氰胺甲醛树脂、抗氧剂、光引发剂混合，通过各原料之间协同作用，从而制备得到具有耐高温、遮光性能、高剥离力、高剥离强度的胶黏剂。

24、第二方面，本申请提供一种键盘膜胶带的制备方法，采用如下的技术方案：

25、一种键盘膜胶带的制备方法，步骤如下：

26、(1)在基材层一侧涂覆有油墨层；

27、(2)在基材层背离油墨层的一侧涂布一层胶黏剂，烘干至固化程度为60％-80％，压印后形成胶黏层；

28、(3)在胶黏层的表面贴合一层底材层，制得键盘膜胶带。

29、本申请中将油墨层、基材层、胶黏层、底材层依次贴合得到键盘膜胶带，制备得到键盘膜胶带在满足性能和厚度的前提下大幅提高生产效率。

30、综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

31、1、本申请公开了一种超薄遮蔽键盘膜胶带及制备方法，键盘膜胶带包括基材层，基材层的一侧涂覆有油墨层；基材层背离油墨层的一侧通过胶黏层粘贴在底材层上，胶黏层由胶黏剂制得，胶黏剂中各组分相互配合，使制备的键盘膜胶带用于粘合时，具有遮光性、耐高温性的优点，并具有高剥离力以及高剥离强度；

32、2、本申请的超薄遮蔽键盘膜胶带制作工艺简单，生产效率高，产品质量稳定，综合性能优越，适合大规模工业化生产。

技术特征：

1.一种键盘膜胶带，其特征在于：包括基材层，基材层的一侧涂覆有油墨层；基材层背离油墨层的一侧通过胶黏层粘贴在底材层上；

2.根据权利要求1所述的一种键盘膜胶带，其特征在于，对纳米二氧化硅进行改性处理，步骤如下：用偶联剂对纳米二氧化硅进行改性处理。

3.根据权利要求2所述的一种键盘膜胶带，其特征在于：所述偶联剂与纳米二氧化硅的质量比为（1-4）:20；偶联剂为偶联剂kh560。

4.根据权利要求1所述的一种键盘膜胶带，其特征在于，对炭黑进行改性处理，步骤如下：将炭黑、杂多酸和双氧水进行反应后，得到改性炭黑。

5.根据权利要求4所述的一种键盘膜胶带，其特征在于：所述炭黑和杂多酸的质量比为(5-10)：1；所述炭黑和双氧水的质量比为1：(1-5)；所述杂多酸为磷钨酸、硅钨酸、磷钼酸和硅钼酸中至少一种。

6.根据权利要求1所述的一种键盘膜胶带，其特征在于：所述抗氧剂为抗氧剂1010、抗氧剂168中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的一种键盘膜胶带，其特征在于：所述光引发剂为mc-299水性uv光引发剂、irgacure 500uv光引发剂、光引发剂2959中的至少一种。

8.根据权利要求1所述的一种键盘膜胶带，其特征在于：所述油墨层的厚度为5-12μm；所述基材层的厚度为1-5μm；所述胶黏层的厚度为2-8μm；所述底材层50-100μm。

9.根据权利要求1所述的一种键盘膜胶带，其特征在于，所述胶黏剂的制备方法，步骤如下：

10.一种用于制备权利要求1-9中任一项所述的键盘膜胶带，其特征在于，所述键盘膜胶带的制备步骤如下：

技术总结本发明涉及键盘膜胶带的技术领域，尤其是涉及一种超薄遮蔽键盘膜胶带及制备方法，一种键盘膜胶带，包括基材层，基材层的一侧涂覆有油墨层；基材层背离油墨层的一侧通过胶黏层粘贴在底材层上；所述胶黏层由胶黏剂制得，胶黏剂包括以下质量份数的原料：亚克力胶水1‑5份、丙烯酸酯系胶黏剂40‑60份、三聚氰胺甲醛树脂3‑8份、纳米二氧化硅1‑5份、炭黑5‑10份、三聚磷酸钠30‑50份、壳聚糖100‑150份、抗氧剂1‑3份以及光引发剂1‑3份；本申请的超薄遮蔽键盘膜胶带制作工艺简单，生产效率高，产品质量稳定，综合性能优越，适合大规模工业化生产。技术研发人员：刘诗蓉,王建峰受保护的技术使用者：太仓金煜电子材料有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/18