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一种调整回转窑定位的方法与流程

  • 国知局
  • 2024-08-01 00:45:39

本发明涉及一种调整回转窑定位的方法,属于冶金行业球团生产方法。

背景技术:

1、回转窑运转稳定是球团矿生产过程中重要的环节,回转窑采用电机-减速机或液压马达方式进行传动,在运转过程中容易出现窑位位移现象,即回转窑向窑头和窑尾移动,窑位向窑头或窑尾方向移动会引起环冷机布料不平,影响球团矿在环冷机上冷却效果,风从球团矿布料薄处跑风,球团矿在布料厚的地方冷却效果差,影响球团矿产、质量,此外回转窑窑位发生变化会造成挡轮磨损等设备故障,影响生产稳定运行。

技术实现思路

1、本发明目的是提供一种调整回转窑定位的方法,通过采用通过对托轮抹油、增添摩擦剂、调整托轮微调装置、调整润滑装置,达到了回转窑长周期稳定运行的效果,避免了回转窑因窑位发生变化引起的设备事故和生产事故,球团矿产、质量得到保证,有效地解决了背景技术中存在的上述问题。

2、本发明的技术方案是:一种调整回转窑定位的方法,包含以下步骤:

3、(1)窑体向窑头方向移动时,用塞尺测量,辊圈南侧与窑头托轮一南侧接触面相差5cm以内,向窑尾托轮抹润滑油进行微调;如果窑位继续向窑头方向移动,移动10cm接触到报警器,向窑尾托轮加大抹润滑油的用量和次数;如果回转窑仍向窑头移动,超过10cm,调整微调装置,如果窑体继续向窑头移动,向窑尾托轮增加摩擦剂;窑位恢复正常后,开启液压油缸的油泵,挡轮的液压缸顶住辊圈南侧,保压,固定窑位,防止窑位再次向窑头方向移动;

4、(2)窑体向窑尾方向移动时,用塞尺测量,辊圈南侧与窑头托轮一南侧接触面相差5cm以内,向窑头托轮抹润滑油进行微调;如果窑位继续向窑尾方向移动,移动10cm接触到报警器8,向窑头托轮加大抹润滑油的用量和次数;如果回转窑仍向窑尾移动,超过10cm,调整微调装置,如果窑体继续向窑尾移动,向窑头托轮增加摩擦剂。

5、所述辊圈南侧与窑头托轮一南侧接触面相差5cm以内,使用润滑油时,抹锂基脂2#润滑油1-5克1-2次进行微调,观察窑位运转情况,辊圈南侧与窑头托轮一南侧接触面相差2cm,则窑位恢复正常。

6、所述报警器一和报警器二分别安装于辊圈两侧各10cm位置,报警器开始报警,抹锂基脂2#润滑油5-10克3-4次,观察窑位运转情况,辊圈南侧与窑头托轮一南侧接触面相差2cm,则窑位恢复正常。

7、所述调整微调装置,先调微调装置一,逆时针调整角度45°-90°,再调微调装置二,逆时针调整45°-90°。

8、所述使用摩擦剂时,增加摩擦剂200-300克3-4次,辊圈南侧与窑头托轮一南侧接触面相差2cm,窑位恢复正常。

9、本发明的有益效果是:通过采用通过对托轮抹油、增添摩擦剂、调整托轮微调装置、调整润滑装置,达到了回转窑长周期稳定运行的效果,避免了回转窑因窑位发生变化引起的设备事故和生产事故,球团矿产、质量得到保证,年可节约备件费15.0万元。

技术特征:

1.一种调整回转窑定位的方法,其特征在于包含以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种调整回转窑定位的方法,其特征在于:所述辊圈南侧与窑头托轮一南侧接触面相差5cm以内,使用润滑油时,抹锂基脂2#润滑油1-5克1-2次进行微调,观察窑位运转情况,辊圈南侧与窑头托轮一南侧接触面相差2cm,则窑位恢复正常。

3.根据权利要求1所述的一种调整回转窑定位的方法,其特征在于:所述报警器一和报警器二分别安装于辊圈两侧各10cm位置,报警器开始报警时,抹锂基脂2#润滑油5-10克3-4次,观察窑位运转情况,辊圈南侧与窑头托轮一南侧接触面相差2cm,则窑位恢复正常。

4.根据权利要求1所述的一种调整回转窑定位的方法,其特征在于:所述调整微调装置,先调微调装置一,逆时针调整角度45°-90°,再调微调装置二,逆时针调整45°-90°。

5.根据权利要求1所述的一种调整回转窑定位的方法,其特征在于:所述使用摩擦剂时,增加摩擦剂200-300克3-4次,辊圈南侧与窑头托轮一南侧接触面相差2cm,窑位恢复正常。

技术总结本发明涉及一种调整回转窑定位的方法,属于冶金行业球团生产方法技术领域。本发明的技术方案是:辊圈南侧与托轮南侧接触面相差5cm以内,抹润滑油进行微调;如果窑位继续移动,移动10cm接触到报警器,加大抹润滑油的用量和次数;如果回转窑仍移动,超过10cm,调整微调装置,如果窑体继续移动,向窑尾托轮增加摩擦剂;窑位恢复正常后,开启液压油缸的油泵,挡轮的液压缸顶住辊圈南侧,保压,固定窑位,防止窑位再次移动。本发明的有益效果是:通过采用对托轮抹油、增添摩擦剂、调整托轮微调装置、调整润滑装置,达到了回转窑长周期稳定运行的效果,避免了回转窑因窑位发生变化引起的设备事故和生产事故,球团矿产、质量得到保证。技术研发人员:刘建华,贾建平,张燕军,张胜利,郭小龙,魏晓光,岑亚虎,王莉军,蔡建磊,刘瑞军受保护的技术使用者:河北张宣高科科技有限公司技术研发日:技术公布日:2024/7/15

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