一种陶瓷艺术品烧制方法与流程

本发明涉及陶瓷烧制，尤其涉及一种陶瓷艺术品烧制方法。

背景技术：

1、陶瓷是陶器与瓷器的统称，同时也是我国的一种工艺美术品，远在新石器时代，我国已有风格粗犷、朴实的彩陶和黑陶，陶与瓷的质地不同，性质各异，陶，是以粘性较高、可塑性较强的粘土为主要原料制成的，不透明、有细微气孔和微弱的吸水性，击之声浊。

2、经检索，公告号cn115406239a的中国专利，公开了一种可过滤烟气的泡沫陶瓷烧制设备及工艺，其提出通过鼓风机向烧制炉内输送空气和吸收烟气的技术方案；

3、公告号cn107576203a的中国专利，公开了陶瓷的烧制方法，其提出采用特定烧制装置，实现减少坏坯出现概率的技术方案；

4、公告号cn113137860b的中国专利，公开了一种用于陶瓷加工的烧制设备，其提出现有陶瓷在窑中烧制时供热不集中、受热不均匀的问题；

5、公告号cn109028954a的中国专利，公开了一种用于日用陶瓷加工的烧制设备，其提出陶瓷在烧制的时候，由于温度过高，易出现开裂的问题，并提出通过湿润的方式进行温度控制的技术方案；

6、然而，对于陶瓷烧制，尤其对于陶瓷艺术品的烧制，因为需要实现不同的艺术效果，那么在烧制过程中，往往需要进行不同的控制动作，采用多次烧制、对坯件进行调整等方式来实现原本的构造设想，在烧制过程中，不仅仅需要能够集中均匀供热，还需要能够具备对内部空间进行调整的功能，以实现更大灵活范围的操作，来适应不同的烧制方法需求，因此，如何使陶瓷艺术品烧制能够具有更多的调节动作，来满足不同的烧制方法需求，实现不同人群的烧制构想，完成构想中的陶瓷成品，是亟需解决的问题。

技术实现思路

1、本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺陷，而提出的陶瓷艺术品烧制方法。

2、为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：

3、一种陶瓷艺术品烧制方法，其特征在于，该烧制方法在陶瓷艺术品烧制设备中进行；

4、该陶瓷艺术品烧制设备壳体，壳体的顶部设有烧制调节结构，所述壳体的底部设有升温烧制结构，壳体的内部设有若干均匀分布的组合烧制架，所述组合烧制架的内部设有与升温烧制结构相连通的烧制管路，烧制管路嵌设在所述壳体的内部，所述组合烧制架的正面设有若干烧制开口；

5、该烧制方法包括以下步骤：

6、s1：选取高岭土黏土以及粘结剂和添加剂作为制作原料，进行原料配比后，通过搅拌机混合均匀，并再经过湿球磨处理，使原料颗粒尺寸均匀；

7、s2：用压滤机进行干燥脱水，并进行成型处理，制备获得陶瓷烧制坯件；

8、s3：根据烧制需求，提前对烧制设备进行结构调整和参数设定，并将成型后的坯件放入烧制设备的壳体空间内，进行烧成处理；

9、s4：在1100-1300℃下开始进行烧制，烧制的过程中，通过组合烧制架对内部空间进行吸收和排出动作，用于控制烧制空间的温度以及输送保护气氛；

10、s5：持续烧制8-10h，烧制过程中，观察烧制温度和坯件变化，直至坯件成型，完成烧成处理，其中，根据烧制需求能够选择通过烧制调节结构按照0.01-5转/分的速度旋转坯件，保持胚体形状不产生形变，并同时通过控制坯件的主要烧制位置，用以实现不同烧制位置的成品差异性；

11、s6：烧制完成后，冷却坯件得到成品。

12、进一步地，在s1中：

13、粘结剂包括聚乙烯醇和翔丙基甲基纤维素，其中，粘结剂占总质量的2-6％；

14、添加剂包括滑石粉、二氧化硅和氧化硅，其中，添加剂占总质量的1-4％。

15、进一步地，坯件成型处理采用静压成型或者挤压成型，保护气氛为氮气或氙气。

16、进一步地，烧制管路上设有任一适配的电子控制阀门。

17、进一步地，烧制调节结构包括安装在壳体顶部中间位置的调节板，调节板为t形结构，用于实现旋转，调节板的内部环形等距分布有调节柱，调节柱为内部中空结构，调节柱的外壁设有若干均匀分布的功能孔。

18、进一步地，调节柱的底端设有与所述壳体底壁相配合的旋转板，旋转板底端的中间位置设有旋转轴，调节柱的顶端设有固定转盘，固定转盘的一侧设有与其相配合的转动电机。

19、进一步地，升温烧制结构包括烧制腔，烧制腔的顶端设有喷火口，烧制腔的中间位置设有调节腔。

20、进一步地，调节柱的底端贯穿固定转盘延伸至调节腔内部，调节腔的内部分别开设有排气开口和送气开口。

21、进一步地，调节柱上设置有若干相互配合的引导板，所述引导板通过调节柱上的功能孔进行连接固定。

22、进一步地，引导板为扇形结构、矩形结构、弧形结构中的一种或者多种，多个引导板组合形成圆形板、矩形板或者半球形壳体中的一个。

23、相比于现有技术，本发明的有益效果在于：

24、通过烧制调节结构，能够将陶瓷烧制过程中，进行轻微的旋转、位置调整等操作，以此来控制陶瓷的烧制过程，提供更多的可操作空间，此外，通过烧制调节结构控制和增强火焰喷射位置，使陶瓷烧制过程中，烧制的局部温度能够进行合理控制，使陶瓷烧制受热更加均匀，且具有可控调节性；

25、通过升温烧制结构，能够实现陶瓷烧制过程中对内部烧制空间中输入和排出的可控调节，对烧制的局部位置可以进行有效的升温或者降温调节操作，增加整个烧制过程的灵活性；

26、通过设置引导板，能够引导控制火焰喷射方向，将火焰喷射根据烧制需求进行调节，增加烧制的适用范围；

27、能够在整个烧制过程中，进行更多的烧制需求定制，来满足不同人群在不同环境下对陶瓷艺术品的烧制要求，包括，从而使陶瓷艺术品的烧制和成品更加贴合符合艺术创作需求，进而增加了烧制的适应人群和使用范围。

技术特征：

1.一种陶瓷艺术品烧制方法，其特征在于，该烧制方法在陶瓷艺术品烧制设备中进行；

2.根据权利要求1所述的陶瓷艺术品烧制方法，其特征在于，在s1中：

3.根据权利要求2所述的陶瓷艺术品烧制方法，其特征在于，坯件成型处理采用静压成型或者挤压成型，保护气氛为氮气或氙气。

4.根据权利要求3所述的陶瓷艺术品烧制方法，其特征在于，烧制管路(3)上设有任一适配的电子控制阀门。

5.根据权利要求4所述的陶瓷艺术品烧制方法，其特征在于，烧制调节结构包括安装在壳体(1)顶部中间位置的调节板(5)，调节板(5)为t形结构，用于实现旋转，调节板(5)的内部环形等距分布有调节柱(6)，调节柱(6)为内部中空结构，调节柱(6)的外壁设有若干均匀分布的功能孔(7)。

6.根据权利要求5所述的陶瓷艺术品烧制方法，其特征在于，调节柱(6)的底端设有与所述壳体(1)底壁相配合的旋转板(8)，旋转板(8)底端的中间位置设有旋转轴(9)，调节柱(6)的顶端设有固定转盘(10)，固定转盘(10)的一侧设有与其相配合的转动电机(11)。

7.根据权利要求6所述的陶瓷艺术品烧制方法，其特征在于，升温烧制结构包括烧制腔(12)，烧制腔(12)的顶端设有喷火口(13)，烧制腔(12)的中间位置设有调节腔(14)。

8.根据权利要求7所述的陶瓷艺术品烧制方法，其特征在于，调节柱(6)的底端贯穿固定转盘(10)延伸至调节腔(14)内部，调节腔(14)的内部分别开设有排气开口(16)和送气开口(17)。

9.根据权利要求8所述的陶瓷艺术品烧制方法，其特征在于，调节柱(6)上设置有若干相互配合的引导板(15)，所述引导板(15)通过调节柱(6)上的功能孔(7)进行连接固定。

10.根据权利要求9所述的陶瓷艺术品烧制方法，其特征在于，引导板(15)为扇形结构、矩形结构、弧形结构中的一种或者多种，多个引导板(15)组合形成圆形板、矩形板或者半球形壳体中的一个。

技术总结本发明公开了一种陶瓷艺术品烧制方法，该方法在陶瓷艺术品烧制设备中进行，该烧制设备包括壳体，壳体的顶部设有烧制调节结构，所述壳体的底部设有升温烧制结构，壳体的内部设有若干均匀分布的组合烧制架，所述组合烧制架的内部设有与升温烧制结构相连通的烧制管路，烧制管路嵌设在所述壳体的内部，所述组合烧制架的正面设有若干烧制开口。通过烧制调节结构，来控制陶瓷成品质量，为烧制过程提供更多的可操作空间，使陶瓷烧制受热更加均匀；通过设置引导板，增加烧制的适用范围；增加了烧制的适应人群和使用范围。技术研发人员：汤黎宇,万亮,周霞敏,袁子芪受保护的技术使用者：景德镇市观青瓷业有限公司技术研发日：技术公布日：2024/7/18