一种用于王水煮沸清洗石墨杆的装置的制作方法

本申请涉及石墨件清洗，尤其涉及一种用于王水煮沸清洗石墨杆的装置。

背景技术：

1、石墨件因其具有良好的导热性、耐温性、传导性、抗热震性、耐腐蚀性等性能，常用于半导体炉体材料生长。高纯石墨件是对于工艺洁净度要求较高炉体材料生长的首选装置，然而这些石墨样品中含有大量的金属杂质，会对半导体材料引入污染源。因此，石墨样品在使用前需要经过打磨、抛光、清洗等处理。

2、石墨件清洗时需要使用王水煮沸浸泡清洗处理，以便去除石墨件中残余的金属杂质。然而，王水腐蚀性很强，因而更需要提供一种能够提升安全性以及操作方便的辅助装置。

技术实现思路

1、有鉴于此，本申请的目的是提供一种用于王水煮沸清洗石墨杆的装置，能够提升安全性以及操作便利性。

2、为达到上述技术目的，本申请提供了一种用于王水煮沸清洗石墨杆的装置，包括外缸、内缸以及缸盖；

3、所述内缸安装于所述外缸内，且设有漏液孔；

4、所述内缸内设有用于支撑并限制石墨件位移的支撑限位结构；

5、所述内缸两端设有延伸出所述外缸的第一凸耳部；

6、所述缸盖可拆卸安装于所述外缸顶部开口。

7、进一步地，所述支撑限位结构包括至少两个第一支架；

8、至少两个所述第一支架沿内缸的长度方向间隔设置，且其上分别设有供石墨件卡入的第一卡槽。

9、进一步地，所述缸盖底面设有至少两个第二支架；

10、至少两个所述第二支架在所述缸盖盖装于所述外缸上时，与所述第一支架一一对应连接；

11、各个所述第二支架上分别设有供石墨件卡入的第二卡槽。

12、进一步地，所述外缸的两端设有第二凸耳部；

13、所述外缸的两端壁顶部开设有贯穿自身与所述第二凸耳部的贯通口；

14、所述贯通口供所述第一凸耳部伸出；

15、在所述内缸安装于所述外缸内，所述第一凸耳部经所述贯通口延伸出第二凸耳部外，且底面与所述第二凸耳部顶面接触相抵。

16、进一步地，所述内缸的侧壁与底壁均设置有多个所述漏液孔。

17、进一步地，所述缸盖顶部设有提手。

18、进一步地，所述缸盖顶部设有若干排气孔。

19、进一步地，所述缸盖底面设有限位凸起结构；

20、所述限位凸起结构可卡入所述外缸内并与所述外缸内壁接触相抵。

21、进一步地，所述外缸为类长方体结构；

22、所述内缸以及所述缸盖与外缸形状相适配；

23、所述限位凸起结构为四个，设置在所述缸盖底面的四个边角位置。

24、进一步地，所述外缸与所述缸盖为石英材料制备；

25、所述内缸为聚四氟乙烯材料制备。

26、从以上技术方案可以看出，本申请所设计的用于王水煮沸清洗石墨杆的装置，包括外缸、内缸以及缸盖。外缸作为加热容器，用于盛放王水溶液并置于加热装置上进行加热；内缸用于盛放石墨件，其设置有漏液孔以便于外缸中的溶液能够进入内缸对石墨件进行清洗，完成清洗并取出内缸时，溶液能够通过漏液孔漏回外缸。在内缸中设置能够对石墨件进行限位支撑的支撑限位结构，以避免石墨件与缸体进行接触而导致损坏，同时，内缸两端设置有延伸出外缸的第一凸耳部，方便放置取出，操作更加方便。该设计的装置，能够在相对封闭状态下对石墨件进行王水煮沸清洗，且保证石墨件不与缸体接触，提升安全性，而且操作便利性也更好。

技术特征：

1.一种用于王水煮沸清洗石墨杆的装置，其特征在于，包括外缸(1)、内缸(2)以及缸盖(3)；

2.根据权利要求1所述的一种用于王水煮沸清洗石墨杆的装置，其特征在于，所述支撑限位结构(4)包括至少两个第一支架(41)；

3.根据权利要求2所述的一种用于王水煮沸清洗石墨杆的装置，其特征在于，所述缸盖(3)底面设有至少两个第二支架；

4.根据权利要求1所述的一种用于王水煮沸清洗石墨杆的装置，其特征在于，所述外缸(1)的两端设有第二凸耳部(11)；

5.根据权利要求1所述的一种用于王水煮沸清洗石墨杆的装置，其特征在于，所述内缸(2)的侧壁与底壁均设置有多个所述漏液孔(21)。

6.根据权利要求1所述的一种用于王水煮沸清洗石墨杆的装置，其特征在于，所述缸盖(3)顶部设有提手(32)。

7.根据权利要求1所述的一种用于王水煮沸清洗石墨杆的装置，其特征在于，所述缸盖(3)顶部设有若干排气孔(31)。

8.根据权利要求1所述的一种用于王水煮沸清洗石墨杆的装置，其特征在于，所述缸盖(3)底面设有限位凸起结构(33)；

9.根据权利要求8所述的一种用于王水煮沸清洗石墨杆的装置，其特征在于，所述外缸(1)为类长方体结构；

10.根据权利要求1所述的一种用于王水煮沸清洗石墨杆的装置，其特征在于，所述外缸(1)与所述缸盖(3)为石英材料制备；

技术总结本申请公开了一种用于王水煮沸清洗石墨杆的装置，涉及石墨件清洗技术领域，包括外缸、内缸以及缸盖。外缸作为加热容器，用于盛放王水溶液并置于加热装置上进行加热；内缸用于盛放石墨件，其设置有漏液孔以便于外缸中的溶液能够进入内缸对石墨件进行清洗，完成清洗并取出内缸时，溶液能够通过漏液孔漏回外缸。在内缸中设置能够对石墨件进行限位支撑的支撑限位结构，以避免石墨件与缸体进行接触而导致损坏，同时，内缸两端设置有延伸出外缸的第一凸耳部，方便放置取出，操作更加方便。该设计的装置，能够在相对封闭状态下对石墨件进行王水煮沸清洗，且保证石墨件不与缸体接触，提升安全性，而且操作便利性也更好。技术研发人员：赵倩,毛成状,郭运,姚本东,游阿峰,陈特受保护的技术使用者：安徽光智科技有限公司技术研发日：20231120技术公布日：2024/7/11