激光退火装置的制作方法

本申请涉及半导体，尤其涉及一种激光退火装置。

背景技术：

1、碳化硅作为重要半导体材料得到广泛应用，激光退火作为一种热处理方法可以有效的改善材料性能。在目前碳化硅晶圆生产过程中，激光退火技术相较于传统高温热退火具有升温快、控制精度高、热传导深度浅及能量输出稳定等优势，能够获得更加稳定、均匀的欧姆接触。

2、在激光退火设备中，采用石英树脂等材料制备的光学镜片经过长时间照射会受表面镀膜工艺、光路系统及加工过程三个维度存在的的杂质的影响，导致光系统中的光学零件会产生损坏，照明强度降低，并增加设备使用过程中的成本。

3、因此，如何在光路中避免反射镜产生损坏，是当前亟需解决的问题。

4、需要说明的是，上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本申请的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

技术实现思路

1、基于此，本申请实施例提供了一种激光退火装置，可以避免光路反射镜产生损坏。

2、根据一些实施例，本申请实施例提供一种激光退火装置，包括光学腔室以及设置于所述光学腔室一侧的反应腔室；

3、所述光学腔室中设有光源模块及光路反射镜；所述光源模块用于发射激光光束，所述光路反射镜用于调整所述激光光束的光路，以使所述激光光束射入所述反应腔室中；

4、其中，所述光学腔室内通入有预设气体，所述预设气体用于对所述光路反射镜的镜面进行吹扫。

5、在一些实施例中，所述预设气体包括氮气及惰性气体。

6、在一些实施例中，所述光学腔室还设有腔室门；于所述腔室门的边缘环绕设置有密封圈。

7、在一些实施例中，所述密封圈包括橡胶o形圈。

8、在一些实施例中，所述光学腔室还设有排气口，用于对所述预设气体进行排气。

9、在一些实施例中，所述激光退火装置还包括氧传感器，设置于所述排气口处，用于监测所述光学腔室内的氧浓度。

10、在一些实施例中，所述氧传感器被配置为：当所述光学腔室内的所述氧浓度高于预设氧浓度范围时，发出报警提示。

11、在一些实施例中，所述激光退火装置还包括电流计扫描器；

12、所述激光光束经过所述光路反射镜的反射后，经由所述电流计扫描器射入所述反应腔室中。

13、在一些实施例中，所述光学腔室中设有至少两个所述光路反射镜，用于对所述激光光束进行至少两次反射。

14、在一些实施例中，所述光源模块包括准分子激光器。

15、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本申请。

16、本申请实施例可以/至少具有以下优点：

17、在本申请实施例中，光学腔室内通入有预设气体，所述预设气体可以对光路反射镜的镜面进行吹扫，以形成对镜面的保护，避免镜面因经过照射而收到杂质的影响，从而减缓光路反射镜的雾化。可以理解，光路反射镜的镜面如果发生雾化，会导致激光光束的反射效率下降，从而影响激光光束的质量和稳定性。本申请实施例通过预设气体对光路反射镜的镜面进行保护，能够避免引起激光光束的散射和吸收，确保激光光束的聚焦度和功率密度，有利于提升激光退火过程的加工效果。

18、此外，镜面雾化还会增加光路反射镜表面的粗糙度和不均匀性，加速光路反射镜的老化和磨损，降低使用寿命。在本申请实施例中，通过预设气体对光路反射镜的镜面进行保护，还能够避免光路反射镜表面氧化、腐蚀和/或损伤，进一步提升激光退火装置的光学性能和稳定性，延长激光退火装置的使用寿命，避免增加工艺过程中激光退火装置的使用成本。

技术特征：

1.一种激光退火装置，其特征在于，包括光学腔室以及设置于所述光学腔室一侧的反应腔室；

2.根据权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，所述预设气体包括氮气及惰性气体。

3.根据权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，所述光学腔室还设有腔室门；于所述腔室门的边缘环绕设置有密封圈。

4.根据权利要求3所述的激光退火装置，其特征在于，所述密封圈包括橡胶o形圈。

5.根据权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，所述光学腔室还设有排气口，用于对所述预设气体进行排气。

6.根据权利要求5所述的激光退火装置，其特征在于，还包括氧传感器，设置于所述排气口处，用于监测所述光学腔室内的氧浓度。

7.根据权利要求6所述的激光退火装置，其特征在于，所述氧传感器被配置为：当所述光学腔室内的所述氧浓度高于预设氧浓度范围时，发出报警提示。

8.根据权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，还包括电流计扫描器；

9.根据权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，所述光学腔室中设有至少两个所述光路反射镜，用于对所述激光光束进行至少两次反射。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的激光退火装置，其特征在于，所述光源模块包括准分子激光器。

技术总结本申请提供了一种激光退火装置。该激光退火装置包括光学腔室以及设置于光学腔室一侧的反应腔室；光学腔室中设有光源模块及光路反射镜；光源模块用于发射激光光束，光路反射镜用于调整激光光束的光路，以使激光光束射入反应腔室中；其中，光学腔室内通入有预设气体，预设气体用于对光路反射镜的镜面进行吹扫。该激光退火装置通过预设气体对光路反射镜的镜面进行保护，能够避免引起激光光束的散射和吸收，确保激光光束的聚焦度和功率密度，有利于提升激光退火过程的加工效果。技术研发人员：冯润垚受保护的技术使用者：上海积塔半导体有限公司技术研发日：技术公布日：2024/7/23