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一种富集管制冷装置的制作方法

  • 国知局
  • 2024-07-29 14:06:47

本技术涉及挥发性有机化合物气体富集装置,具体为一种富集管制冷装置。

背景技术:

1、现场检测液体或气体中挥发性有机物(vocs)过程中,遇见被测样品(如饮用水或室内空气)浓度很低时,被测样品不能直接引入到灵敏度有限的便携式气相色谱质谱联用仪(gcms)中进行分析,而是需要将样品先通入气相色谱部分的富集管中进行吸附富集处理,等待样品中vocs全部被富集后,再对富集管进行快速升温,使得富集的vocs分子快速解吸附出来进入到色谱柱中进行分离。富集管模块对样品的富集效率直接影响到仪器对样品的检出能力。现有技术中,考虑到便携仪器的体积及重量,通常采用填充化学吸附剂的方式对vocs进行吸附富集。目前市售的便携式气相色谱质谱联用仪(gcms)装载的富集管中大多填充tenax-gr吸附剂。tenax-gr是一种复合材料,由tenax-ta与23%的石墨化碳黑共沉而成,其温度稳定性高至350℃,不易在解吸过程中分解,同时对水的亲和力很低,是一种捕集空气和水中vocs的理想吸附剂,但它也存在以下不足:它对中高沸点(50~100 ℃< t 沸<240~260 ℃,0.1 kpa< p (20 ℃)<3~4 kpa)的物质吸附能力较好,适用于c6-c26的vocs的富集,但对于c2-c5的低沸点物质吸附力较差,导致在检测如丙烯、氯乙烯等物质时,检出限较高,难以准确测定其浓度值。目前也有厂家试图通过填充多床吸附剂(即添加对低沸点物质吸附能力强的carboxen吸附剂)的方式来提高对低碳物质的吸附能力,但实际效果并不好,不同吸附剂的配比及填充顺序会严重影响物质的峰形,造成检测结果严重偏差。

技术实现思路

1、为克服上述便携式气相色谱质谱联用仪中富集管模块对于低沸点vocs 吸附能力不足的问题,本申请提供了一种富集管制冷装置,包括固定座和安装在所述固定座内的富集管,还包括安装壳体、半导体制冷器和散热块,所述安装壳体连接至所述固定座用于包覆富集管,所述半导体制冷器的制冷面贴合所述安装壳体设置,半导体制冷器的导热面贴合所述散热块设置。进一步的,所述安装壳体具有安装槽,所述安装槽的内壁与富集管之间形成有间隔。

2、进一步的,所述富集管的上端和下端与安装槽的内壁间隔处密封设置。

3、进一步的,所述安装壳体为铝制壳体,所述半导体制冷器的制冷面通过导热硅胶连接至所述铝制壳体。

4、进一步的,所述半导体制冷器的导热面通过导热硅胶连接至所述散热块。

5、进一步的,所述散热块的另一面设置多组散热鳍片。

6、进一步的,所述富集管制冷装置还包括散热风扇,所述散热风扇连接至所述散热块。

7、进一步的,所述固定座的内部和外部分别填充和粘贴有陶瓷纤维隔热棉。

8、本申请的有益之处在于:提供的富集管制冷装置结构简单、紧凑,可有效装配在便携气相色谱质谱联用仪上,通过降低富集管载体(内部填充tenax-gr吸附剂)温度,从而提高对低沸点vocs的吸附能力。

技术特征:

1.一种富集管制冷装置,包括固定座和安装在所述固定座内的富集管,其特征在于:所述富集管制冷装置还包括安装壳体、半导体制冷器和散热块,所述安装壳体连接至所述固定座用于包覆富集管,所述半导体制冷器的制冷面贴合所述安装壳体设置,半导体制冷器的导热面贴合所述散热块设置。

2.根据权利要求1所述的一种富集管制冷装置,其特征在于:所述安装壳体具有安装槽,所述安装槽的内壁与富集管之间形成有间隔。

3.根据权利要求2所述的一种富集管制冷装置,其特征在于:所述富集管的上端和下端与安装槽的内壁间隔处密封设置。

4.根据权利要求1所述的一种富集管制冷装置,其特征在于:所述安装壳体为铝制壳体,所述半导体制冷器的制冷面通过导热硅胶连接至所述铝制壳体。

5.根据权利要求1所述的一种富集管制冷装置,其特征在于:所述半导体制冷器的导热面通过导热硅胶连接至所述散热块。

6.根据权利要求5所述的一种富集管制冷装置,其特征在于:所述散热块的另一面设置多组散热鳍片。

7.根据权利要求1所述的一种富集管制冷装置,其特征在于:所述富集管制冷装置还包括散热风扇,所述散热风扇连接至所述散热块。

8.根据权利要求1所述的一种富集管制冷装置,其特征在于:所述固定座的内部和外部分别填充和粘贴有陶瓷纤维隔热棉。

技术总结本技术公开了一种富集管制冷装置,包括固定座和安装在所述固定座内的富集管,所述富集管制冷装置还包括安装壳体、半导体制冷器和散热块,所述安装壳体连接至所述固定座用于包覆富集管,所述半导体制冷器的制冷面贴合所述安装壳体设置,半导体制冷器的导热面贴合所述散热块设置。本申请结构简单、紧凑,可有效装配在便携气相色谱质谱联用仪上,提高富集管对低沸点VOCs的吸附能力。技术研发人员:倪章,朱文明,钱洁,苗伟,贾新威,华韵晨受保护的技术使用者:苏州铭谱源分析仪器有限公司技术研发日:20231110技术公布日:2024/6/23

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